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고해상도 형광 이미징 장치로서,형광 시료가 포함된 용액을 통과시키는 유체 채널이 형성된 도광판;상기 도광판의 측면에 위치하며 상기 도광판 내부를 향해 빛을 조사하는 광원;상기 도광판 아래에 위치한 이미지 센서; 및상기 도광판과 상기 이미지 센서 사이에 위치한 박막을 포함하되, 상기 박막의 제1면에는 상기 도광판과 상기 이미지 센서를 이격시키기 위한 복수의 기둥이 형성되고, 제2면은 상기 도광판에 접합된 것을 특징으로 하는, 고해상도 형광 이미징 장치
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제1항에 있어서,상기 광원으로부터 조사된 빛은 상기 유체 채널을 통과하는 용액 내 형광 시료를 여기시키고,상기 형광 시료로부터 방출된 빛은 상기 박막을 통과하여 상기 이미지 센서에 전달되는 것을 특징으로 하는, 고해상도 형광 이미징 장치
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제1항에 있어서,상기 광원으로부터 조사된 빛은 상기 도광판 내부에서 전반사되는 것을 특징으로 하는, 고해상도 형광 이미징 장치
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제3항에 있어서,상기 광원은 복수 개의 광원 유닛들로 구성되며, 상기 복수의 광원 유닛들은 각각 서로 다른 여기 파장의 빛을 조사하는 것을 특징으로 하는, 고해상도 형광 이미징 장치
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제1항에 있어서,상기 이미지 센서와 상기 도광판을 이격시키기 위한 기둥의 높이는 2 μm 이하인 것을 특징으로 하는, 고해상도 형광 이미징 장치
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제1항에 있어서,상기 도광판 및 상기 박막은 PDMS(polydimethylsiloxane)로 형성된 것을 특징으로 하는, 고해상도 형광 이미징 장치
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제1항에 있어서,상기 이미지 센서는 CCD 이미지 센서 또는 CMOS 이미지 센서인 것을 특징으로 하는, 고해상도 형광 이미징 장치
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제1항에 있어서,외부로부터의 빛을 차단하기 위한 차광막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 고해상도 형광 이미징 장치
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고해상도 형광 이미징 장치의 제조방법으로서,도광판을 제작하는 단계;상기 도광판의 측면에 상기 도광판 내부를 향해 빛을 조사하는 광원을 부착하는 단계;제1면에 복수의 기둥이 형성된 박막을 제작하는 단계;상기 박막의 제2면을 상기 도광판에 접합시키는 단계; 및상기 박막의 제1면이 이미지 센서를 향하도록 상기 이미지 센서 위에 상기 박막과 도광판을 배치하는 단계를 포함하는, 고해상도 형광 이미징 장치의 제조방법
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제9항에 있어서,상기 박막을 제작하는 단계는,PDMS(polydimethylsiloxane)와 경화제의 비율을 5:1로 배합하는 단계; 및상기 PDMS와 상기 경화제의 배합체를 200℃이상의 온도로 가열하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 고해상도 형광 이미징 장치의 제조방법
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제9항에 있어서,상기 도광판 및 상기 이미지 센서를 외부로부터의 빛을 차단하기 위한 차광막으로 둘러싸는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 고해상도 형광 이미징 장치의 제조방법
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