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비트의 베타시아닌, 베타잔틴 및 당함량을 증가시키는 비트 재배 방법

  • 기술번호 : KST2023001320
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 비트의 베타시아닌과 베타잔틴을 증가시키는 비트의 재배방법으로, 상기 재배방법은 특정 인공광을 이용한 수경재배 방법이며, 상기 제조 방법으로 제조된 비트 또는 이의 추출물, 또는 이로부터 분리된 베타시아닌 또는 베타잔틴을 제공한다.
Int. CL A01G 7/04 (2006.01.01) A01G 7/02 (2019.01.01) A01G 33/00 (2006.01.01) A01G 29/00 (2006.01.01) A01G 22/00 (2018.01.01) C05G 1/00 (2006.01.01) C05D 9/00 (2006.01.01) A61K 36/185 (2006.01.01) A61K 31/706 (2006.01.01) A61K 31/44 (2006.01.01) A61P 29/00 (2023.01.01) A61P 35/00 (2006.01.01) A01G 31/00 (2018.01.01)
CPC A01G 7/045(2013.01) A01G 7/02(2013.01) A01G 33/00(2013.01) A01G 29/00(2013.01) A01G 22/00(2013.01) C05G 1/00(2013.01) C05D 9/00(2013.01) A61K 36/185(2013.01) A61K 31/706(2013.01) A61K 31/44(2013.01) A61P 29/00(2013.01) A61P 35/00(2013.01) A01G 2031/006(2013.01)
출원번호/일자 1020210190824 (2021.12.29)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2023-0101976 (2023.07.07) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2021.12.29)
심사청구항수 18

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 유지혜 강원도 강릉
2 박재억 강원도 강릉
3 오창민 강원도 강릉
4 이낙현 강원도 강릉
5 노주원 강원도 강릉

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 한라특허법인(유한) 대한민국 서울시 서초구 강남대로 ***(서초동, 남강빌딩 *층)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2021.12.29 수리 (Accepted) 1-1-2021-1520958-18
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2023.04.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
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번호 청구항
1 1
기능성이 향상된 비트의 재배 방법에 있어서, 상기 방법은 정식 후 재배과정에서 인공광을 제어하는 단계를 포함하며,상기 인공광 조건은 피크파장 630-670nm 또는 420-470nm이며, 색온도 4000 내지 7000K 이고, 100 내지 300 umol/m2s의 광량 조건에서 재배하는 비트의 재배 방법
2 2
제 1항에 있어서,상기 재배방법은 10 내지 16 시간의 일장조건에서 재배하는, 비트의 재배 방법
3 3
제 1항에 있어서,상기 재배 방법은 500 내지 1000 ppm 농도의 이산화탄소를 공급하는, 비트의 재배 방법
4 4
제 1항에 있어서,상기 재배 방법은 수경 재배 방법이며, 상기 수경재배는 하이브리드 타입 또는 딥 플로우 테크닉 (Deep flow technique, DFT) 방식의 수경재배인, 비트의 재배 방법
5 5
제 4항에 있어서,상기 수경재배 시 수경재배용 배양액 조성물을 사용하며, 상기 조성물은 질소(N), 인(P), 칼륨(K), 칼슘(Ca), 마그네슘(Mg) 및 황(S)으로 구성된 다량원소군을 포함하며, 상기 질소(N), 인(P), 칼륨(K), 칼슘(Ca), 마그네슘(Mg) 및 황(S)의 중량비는 25 내지 30 : 1 내지 5 : 25 내지 30 : 20 내지 25 : 8 내지 10 : 8 내지 10인, 비트의 재배 방법
6 6
제 4항에 있어서,상기 조성물은 철, 붕소, 망간, 아연, 구리 및 몰리브덴으로 구성된 미량원소군을 포함하는, 비트의 재배 방법
7 7
제 4항에 있어서,상기 조성물은 점적관수 또는 저면관수를 통해 공급되는, 비트의 재배 방법
8 8
제 4항에 있어서,상기 비트의 수경재배용 배양액 조성물은 배양액 탱크 에서 배양액 회수 탱크로 순환되며, 순환되는 동안에 비트의 뿌리에 양액을 공급하는, 비트의 재배 방법
9 9
제 1항에 있어서,상기 방법은 비트에 포함된 기능성 성분인 베타시아닌(betacyanin) 및 베타잔틴(betaxanthin) 중 어느 하나 이상의 함량을 상기 인공광을 제어하는 단계를 포함하지 않는 방법에 비하여 50% 이상 증가시는 것인, 비트의 재배 방법
10 10
제 1항에 있어서,상기 방법은 비트에 포함된 글루코오즈(glucose), 프럭토오즈(fructose) 및 수크로오즈(sucrose) 중 어느 하나 이상의 함량을 상기 인공광을 제어하는 단계를 포함하지 않는 방법에 비하여 50% 이상 증가시는 것인, 비트의 재배 방법
11 11
제 1항 내지 제 10 항 중 어느 하나의 재배방법에 따라 재배된 비트의 재배방법
12 12
제 11항에 있어서,상기 비트는 상기 인공광을 제어하는 단계를 포함하지 않는 방법에 비하여 비트의 지상부에서 하기 중 어느 하나 이상의 특성을 가지는 비트 :(a) 베타시아닌(betacyanin)의 함량이 비트의 지상부에서 50% 이상 증가; (b) 글루코즈(glucose)의 함량이 비트의 지상부에서 50% 이상 증가; 및(c) 프럭토즈(fructose)의 함량이 비트의 지상부에서 100% 이상 증가
13 13
제 11항에 있어서,상기 비트는 상기 인공광을 제어하는 단계를 포함하지 않는 방법에 비하여 비트의 지하부에서 하기 중 어느 하나 이상의 특성을 가지는 비트 :(a) 베타시아닌(betacyanin)의 함량이 비트의 지하부에서 50% 이상 증가; (b) 베타잔틴(betaxanthin)의 함량이 비트의 지하부에서 50% 이상 증가; 및(c) 수크로즈(sucrose)의 함량이 비트의 지상부에서 50% 이상 증가
14 14
제 1항 내지 제 10 항 중 어느 하나의 재배방법에 따라 재배된 비트의 추출물
15 15
제 1항 내지 제 10 항 중 어느 하나의 재배방법에 따라 재배된 비트로부터 분리된 베타시아닌
16 16
제 1항 내지 제 10 항 중 어느 하나의 재배방법에 따라 재배된 비트로부터 분리된 베타잔틴
17 17
비트로부터 베타시아닌 또는 베타잔틴을 수득하는 방법에 있어서,상기 방법은 제 1항 내지 제 10 항 중 어느 하나의 재배방법에 따라 재배된 비트를 제조하는 단계; 및제조된 비트에서 베타시아닌 또는 베타잔틴을 추출 및 분리하는 단계;를 포함하는, 비트로부터 베타시아닌 또는 베타잔틴을 수득하는 방법
18 18
염증 또는 암 예방, 개선 또는 치료용 약학 조성물의 제조 방법에 있어서, 상기 방법은 제 1항 내지 제 10 항 중 어느 하나의 재배방법에 따라 재배된 비트를 제조하는 단계; 및제조된 비트에서 베타시아닌 또는 베타잔틴을 추출 및 분리하는 단계;를 포함하는, 염증 또는 암 예방, 개선 또는 치료용 약학 조성물의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.