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전기 자극의 인가가 가능한 세포 배양 장치에 있어서,세포가 각각 배양되는 복수의 배양 챔버들;상기 배양 챔버들이 배치되고, 상기 배양 챔버들을 연결하는 채널이 마련된 배양 플레이트; 및콘트롤러에서 인가된 전기 자극을 상기 배양 챔버들 중 적어도 하나에 전달하기 위한 전극들이 패터닝된 전극 레이어를 포함하고,상기 배양 챔버들 각각은,배양 챔버에 탈착 가능하게 안착되어 상기 세포가 배양되는 세포 배양체; 및상기 세포 배양체의 주변을 둘러싸면서 상기 세포 배양체를 지지하고, 상기 전극 레이어로부터 전달된 전기 자극을 상기 세포 배양체에 인가하기 위한 전극들을 포함하는 전극 지지체를 포함하는,세포 배양 장치
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제1항에 있어서,상기 배양 챔버들은,제1 세포 배양체를 수용하기 위한 제1 배양 챔버 및 제2 세포 배양체를 수용하기 위한 제2 배양 챔버를 포함하고,상기 제1 배양 챔버는,제1 전극 및 제2 전극을 포함하는 제1 전극 지지체를 포함하고,상기 제2 배양 챔버는,제3 전극 및 제4 전극을 포함하는 제2 전극 지지체를 포함하고,상기 전극 레이어는,상기 제1 전극, 상기 제2 전극, 상기 제3 전극 및 상기 제4 전극 각각과 전기적으로 연결되기 위한 전극들을 포함하는,세포 배양 장치
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제2항에 있어서,상기 제1 전극 및 상기 제2 전극은 상기 제1 세포 배양체의 일부를 둘러싸는 제1 절연부에 의해 전기적으로 분리되고,상기 제3 전극 및 상기 제4 전극은 상기 제2 세포 배양체의 일부를 둘러싸는 제2 절연부에 의해 전기적으로 분리되는,세포 배양 장치
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제2항에 있어서,상기 제1 배양 챔버에서 상기 제1 전극 지지체 및 상기 제1 절연부가 상기 제1 세포 배양체를 둘러싸지 않는 부분에는, 배양액의 유출 또는 유입을 위한 통로들이 형성된 것인,세포 배양 장치
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제2항에 있어서,상기 제2 배양 챔버에서 상기 제2 전극 지지체 및 상기 제2 절연부가 상기 제2 세포 배양체를 둘러싸지 않는 부분에는, 배양액의 유출 또는 유입을 위한 통로들이 형성된 것인,세포 배양 장치
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제1항에 있어서,상기 배양 플레이트는,제1 배양액 채널, 제2 배양액 채널 및 메인 배양액 채널을 포함하고,상기 배양 플레이트의 제1 배양 챔버는,상기 제1 배양액 채널과 상기 메인 배양액 채널이 교차하는 지점에 배치되고,상기 배양 플레이트의 제2 배양 챔버는,상기 제2 배양액 채널과 상기 메인 배양액 채널이 교차하는 지점에 배치되는,세포 배양 장치
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제6항에 있어서,상기 메인 배양액 채널은,하이드로겔 채널을 포함하고,상기 하이드로겔 채널은,하이드로겔로 채워지고 상기 하이드로겔 사이로 배양액을 통과시키는,세포 배양 장치
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제2항에 있어서,상기 제1 전극 지지체 및 상기 제2 전극 지지체가 서로 다른 방향으로 배치되는 경우, 상기 제1 세포 배양체 및 상기 제2 세포 배양체는,독립적으로 배양되는 것을 특징으로 하는,세포 배양 장치
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제2항에 있어서,상기 제1 전극 지지체 및 상기 제2 전극 지지체가 서로 같은 방향으로 배치되는 경우, 상기 제1 세포 배양체 및 상기 제2 세포 배양체는,공동 배양되는 것을 특징으로 하는,세포 배양 장치
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