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원자층 증착법에 의해 제한된 크기를 갖는 나노 포어의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2014037236
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 원자층 증착법에 의해 제한된 크기를 갖는 나노 포어의 제조 방법이 제공된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 나노 포어의 제조 방법은, 멤브레인에 개구부를 형성하는 단계; 및 상기 개구부의 측벽에 원자층 증착법(ALD)을 이용하여 전구체로부터 커버막을 형성함으로써 나노 포어를 형성하는 단계;를 포함하고, 상기 나노 포어의 크기는 상기 전구체의 크기에 의해 제어되는 것을 특징으로 한다.
Int. CL G01N 33/48 (2006.01.01) G01N 35/00 (2006.01.01) C23C 16/455 (2006.01.01) C23C 16/00 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020100096910 (2010.10.05)
출원인 서울대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1226100-0000 (2013.01.18)
공개번호/일자 10-2012-0035416 (2012.04.16) 문서열기
공고번호/일자 (20130125) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.10.05)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김기범 대한민국 서울특별시 강남구
2 김현미 대한민국 서울특별시 관악구
3 이민현 대한민국 서울특별시 서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인씨엔에스 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, 대림아크로텔 *층(도곡동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 서울특별시 관악구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.10.05 수리 (Accepted) 1-1-2010-0643121-13
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.09.27 수리 (Accepted) 4-1-2011-5195109-43
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2012.02.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2012.05.22 수리 (Accepted) 9-1-2012-0039080-05
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2012.05.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0307658-31
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2012.07.25 수리 (Accepted) 1-1-2012-0595832-65
7 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2012.08.06 수리 (Accepted) 1-1-2012-0627217-91
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2012.08.14 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0651109-76
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.08.14 수리 (Accepted) 1-1-2012-0651108-20
10 등록결정서
Decision to grant		 2012.12.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0783388-40
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2013-5007213-54
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.17 수리 (Accepted) 4-1-2015-5033829-92
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2015-5062924-01
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5093546-10
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.05.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5101798-31
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5154561-59
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
멤브레인에 개구부를 형성하는 단계; 및상기 개구부의 측벽에 원자층 증착법(ALD)을 이용하여 TiCl4, TDMAT, Ti(OtBu)4, Ti(OtBu)2(tmhd)2, TTIP, TEMAT, TDEAT 및 Ti(OiPr)2(tmhd)2로 이루어진 그룹에서 선택된 어느 하나의 전구체로부터 커버막을 형성함으로써 나노 포어를 형성하는 단계;를 포함하고,상기 나노 포어의 크기는 상기 전구체의 크기에 의해 제어되어, 상기 전구체 중 TiCl4를 이용하는 경우 가장 작은 지름을 가지는 상기 나노 포어가 형성되며, Ti(OiPr)2(tmhd)2를 이용하는 경우 가장 큰 지름을 가지는 상기 나노 포어가 형성되는 것을 특징으로 하는 나노 포어의 제조 방법
2 2
제1 항에 있어서, 상기 나노 포어를 형성하는 단계는,상기 멤브레인으로 상기 전구체를 공급하는 소스 주입 단계; 및상기 멤브레인으로 반응 가스를 공급하는 반응 가스 주입 단계;를 포함하는 증착 사이클을 1회 이상 반복하여 상기 커버막을 형성하는 것을 특징으로 하는 나노 포어의 제조 방법
3 3
제2 항에 있어서, 상기 증착 사이클은 상기 개구부의 크기가 더 이상 감소되지 않을 때까지 반복하여 수행하는 것을 특징으로 하는 나노 포어의 제조 방법
4 4
제1 항에 있어서, 상기 전구체의 크기는, 0
5 5
제1 항에 있어서, 상기 나노 포어의 크기는, 상기 전구체의 크기에 비례하여 결정되는 것을 특징으로 하는 나노 포어의 제조 방법
6 6
제1 항에 있어서, 상기 개구부을 형성하는 단계는, 반응성 이온 식각법(RIE)에 의하는 것을 특징으로 하는 나노 포어의 제조 방법
7 7
제1 항에 있어서, 상기 멤브레인은, 도전층 및 상기 도전층의 상면, 하면 또는 양면에 배치된 절연층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 포어의 제조 방법
8 8
제7 항에 있어서, 상기 도전층은 티타늄 질화물(TiN)을 포함하고, 상기 절연층은 실리콘 질화물(Si3N4)을 포함하며, 상기 커버막은 티타늄 산화물(TiO2)을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 포어의 제조 방법
9 9
삭제
10 10
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 서울대학교 산학협력단 기초연구사업 집적화된 나노포어 이온 트랜지스터 개발과 응용