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미세패턴의 형성 기술

  • 기술번호 : KST2014039777
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 다중간섭현상을 이용한 미세패턴의 형성장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명의 장치는 레이저소스; 상기 레이저소스로부터의 출사광을 콜리메이팅된 상태의 평행광으로 입사하여 반사시키는 회절격자; 및 상기 회절격자로부터의 반사광을 상기 기판쪽으로 투과하고 나머지의 광은 상기 회절격자쪽으로 반사시키는 미러를 포함하며, 상기 회절격자와 미러에서 반사 및 투과를 반복하는 광은 매번 투과율(T)만큼의 광이 상기 미러를 투과하여 상기 포토레지스터에 조사되며 이 광들이 다중 간섭현상을 일으키며, 이때 다중 간섭신호의 주기를 변경하여 상기 기판 상에 노광된 노광부위의 위치를 변경시킴으로써 변경된 주기의 갯수 만큼의 패턴형성이 가능한 것을 특징으로 한다. 따라서, 본 발명은 다중 간섭현상을 이용하여 다양한 모양의 패턴의 형성이 가능하며 2회 이상의 패턴형성 시에 얼라인이 가능한 효과를 제공한다.다중간섭, 패턴, 노광
Int. CL H01L 21/027 (2006.01) G03F 7/20 (2006.01)
CPC G03F 7/70258(2013.01) G03F 7/70258(2013.01) G03F 7/70258(2013.01) G03F 7/70258(2013.01) G03F 7/70258(2013.01)
출원번호/일자 1020070023591 (2007.03.09)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-0885656-0000 (2009.02.19)
공개번호/일자 10-2008-0082812 (2008.09.12) 문서열기
공고번호/일자 (20090226) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.03.09)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김기홍 대한민국 대전 서구
2 이응숙 대한민국 대전 유성구
3 최준혁 대한민국 대전 유성구
4 최대근 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 공인복 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로**길*-**, 대송빌딩 *층(특허법인 대한(서초분사무소))

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2007.03.09 수리 (Accepted) 1-1-2007-0194946-59
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2007.09.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2007.10.12 수리 (Accepted) 9-1-2007-0059645-97
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2008.03.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0133240-52
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2008.05.09 수리 (Accepted) 1-1-2008-0333878-59
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2008.05.09 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0333879-05
7 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal		 2008.08.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0425580-86
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2008.10.14 수리 (Accepted) 1-1-2008-0715413-03
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2008.10.14 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2008-0715448-90
10 등록결정서
Decision to grant		 2009.02.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0051382-60
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
포토레지스터가 도포된 기판상에 미세패턴을 형성하기 위한 미세패턴의 형성장치에 있어서,레이저소스;상기 레이저소스로부터의 출사광을 콜리메이팅된 상태의 평행광으로 입사하여 반사시키는 회절격자; 및상기 회절격자로부터의 반사광을 상기 기판쪽으로 투과하고 나머지의 광은 상기 회절격자쪽으로 반사시키는 미러를 포함하며, 상기 회절격자와 미러에서 반사 및 투과를 반복하는 광은 매번 투과율(T)만큼의 광이 상기 미러를 투과하여 상기 포토레지스터에 조사되며 이 광들이 다중 간섭현상을 일으키며, 이때 다중 간섭신호의 주기를 변경하여 상기 기판 상에 노광된 노광부위의 위치를 변경시킴으로써 변경된 주기의 갯수 만큼의 패턴형성이 가능하며, 상기 기판의 위치를 이동시면서 상기 회절격자와 미러에 의해 생성된 다중간섭신호의 형태로 노광시켜 상기 미세패턴의 형성횟수를 조절하는 것을 특징으로 하는 다중간섭현상을 이용한 미세패턴의 형성장치
2 2
제 1항에 있어서, 상기 다중간섭현상에 의한 다중 간섭신호의 형태는 싱크파형을 나타내는 것을 특징으로 하는 다중간섭현상을 이용한 미세패턴의 형성장치
3 3
삭제
4 4
포토레지스터가 도포된 기판상에 미세패턴을 형성하기 위한 미세패턴의 형성장치에 있어서,레이저소스;상기 레이저소스로부터의 출사광을 콜리메이팅된 상태의 평행광으로 입사하여 반사시키는 회절격자; 및상기 회절격자로부터의 반사광을 상기 기판쪽으로 투과하고 나머지의 광은 상기 회절격자쪽으로 반사시키는 미러를 포함하며, 상기 회절격자와 미러에서 반사 및 투과를 반복하는 광은 매번 투과율(T)만큼의 광이 상기 미러를 투과하여 상기 포토레지스터에 조사되며 이 광들이 다중 간섭현상을 일으키며 노광상태에서 다중간섭신호와 기판간의 상대 위치를 연속적으로 변경시킴으로써 기판에 제작되는 미세패턴의 선폭이 조절가능하며, 상기 기판의 위치를 이동시면서 상기 회절격자와 미러에 의해 생성된 다중간섭신호의 형태로 노광시켜 상기 미세패턴의 선폭을 조절하는 것을 특징으로 하는 다중간섭현상을 이용한 미세패턴의 형성장치
5 5
제 4항에 있어서, 상기 다중간섭현상에 의한 다중 간섭신호의 형태는 싱크파형을 나타내는 것을 특징으로 하는 다중간섭현상을 이용한 미세패턴의 형성장치
6 6
삭제
7 7
포토레지스터가 도포된 기판상에 미세패턴을 형성하기 위한 미세패턴의 형성방법에 있어서,다중 간섭현상에 의해 다중 간섭신호가 싱크파형을 발생하도록 상기 포토레지스터에 노광하는 단계;상기 노광에 의해 상기 기판상에 제 1패턴을 형성하는 단계; 및 상기 기판을 이동하여 생성된 다중간섭신호의 형태로 노광시켜 상기 기판상에 제 2패턴을 형성하는 단계를 포함하며, 상기 제 1패턴과 제 2패턴은 다중 간섭신호의 주기를 변경하여 상기 기판 상에 노광된 노광부위의 위치를 변경시킴으로써 변경된 주기로 패턴형성이 가능하며, 상기 다중 간섭신호의 주기를 변경하는 횟수에 대응하여 패턴의 개수를 형성할 수 있는 것을 특징으로 하는 다중간섭현상을 이용한 미세패턴의 형성방법
8 8
삭제
9 9
포토레지스터가 도포된 기판상에 미세패턴을 형성하기 위한 미세패턴의 형성방법에 있어서,다중 간섭현상에 의해 다중 간섭신호가 싱크파형을 발생하도록 상기 포토레지스터에 노광하는 단계; 및상기 노광상태에서 다중간섭신호와 기판간의 상대 위치를 연속적으로 변경시킴으로써 기판에 제작되는 미세패턴의 선폭이 조절하는 단계를 포함하며, 상기 노광상태에서 다중간섭신호와 기판간의 상대 위치를 연속적으로 변경시킴에 따라 상기 미세패턴의 선폭은 상대적으로 넓어지는 것을 특징으로 하는 다중간섭현상을 이용한 미세패턴의 형성방법
10 10
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.