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전도성 기판; 상기 전도성 기판에 형성된 반도체 산화물층;상기 반도체 산화물층의 표면 및 상기 전도성 기판의 표면에 코어-쉘(shell) 구조로 코팅되어 있는 유기물층; 및 상기 유기물층의 표면에 흡착되어 있는 염료를 포함하고, 상기 유기물층은 실란 화합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 반도체 전극
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제1항에 있어서, 상기 전도성 기판은 인듐 주석 산화물(ITO), 불소 도핑된 주석 산화물(FTO), 또는 탄소나노튜브(CNT)가 코팅되어 있는, 유리 기판 또는 플라스틱 기판인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 반도체 전극
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제1항에 있어서,상기 반도체 산화물층은 나노 입자, 나노 와이어 또는 나노튜브 형태로 형성되는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 반도체 전극
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제1항에 있어서,상기 반도체 산화물층은 티타늄 산화물, 텅스텐 산화물, 니오븀 산화물, 하프늄 산화물, 인듐 산화물, 주석 산화물 및 아연 산화물로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 반도체 전극
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제1항에 있어서, 상기 유기물층은 아미노프로필트리에톡시실란(APS)으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 반도체 전극
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제1항에 있어서, 상기 염료층은 루테늄 착물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 반도체 전극
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제1항 내지 제4항, 제6항 및 제7항 중 어느 한 항에 따른 반도체 전극, 전해질층 및 대향전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지
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(S1) 전도성 기판에 반도체 산화물층을 형성하는 단계;(S2) 유기물을 포함하는 용액에 상기 반도체 산화물층이 형성된 기판을 침지시켜 상기 반도체 산화물층의 표면 및 상기 전도성 기판의 표면에 코어-쉘(shell) 구조로 유기물층을 코팅하는 단계; 및(S3) 상기 유기물층에 정전기적 인력을 통해 염료를 흡착시키는 단계를 포함하고,상기 유기물층은 실란 화합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 반도체 전극의 제조방법
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제9항에 있어서, S1 단계에서, 반도체 산화물층은 나노 입자, 나노 와이어 또는 나노튜브 형태로 형성되는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 반도체 전극의 제조방법
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제9항에 있어서, S1 단계 이후, 50~150℃의 온도 범위에서 건조한 후, 100~1000℃의 온도 범위에서 소결하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 반도체 전극의 제조방법
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제9항에 있어서, S2 단계에서, 유기물의 농도를 제어하여 염료감응 태양전지의 효율을 증가시키는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 반도체 전극의 제조방법
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제9항에 있어서, 유기물이 아미노프로필에톡시실란인 경우, 상기 유기물의 농도가 0
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제9항에 있어서, 상기 전도성 기판은 인듐 주석 산화물(ITO) 또는 불소 도핑된 주석 산화물(FTO)이 코팅되어 있는, 유리 기판 또는 플라스틱 기판인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 반도체 전극의 제조방법
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제9항에 있어서,상기 반도체 산화물층은 티타늄 산화물, 텅스텐 산화물, 니오븀 산화물, 하프늄 산화물, 인듐 산화물, 주석 산화물 및 아연 산화물로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 반도체 전극의 제조방법
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제9항에 있어서, 상기 유기물층은 아미노프로필트리에톡시실란(APS)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 반도체 전극의 제조방법
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제9항에 있어서, 상기 염료는 루테늄 착물인 것을 특징으로 하는 염료감응 태양전지용 반도체 전극의 제조방법
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