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탄소나노로드층을 구비한 하부전극; 및상부전극과 상기 하부전극 사이에 구비되고, 탄소나노튜브를 갖는 염료층을 포함하되,상기 탄소나노튜브는 Hot-filament 플라즈마 화학기상증착법(HF-PECVD)을 이용하여 성장된 것을 특징으로 하는 염료감응형 태양전지
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청구항 1에 있어서,상기 하부전극은 FTO(Fluorine doped-Tin Oxide) 기판에 상기 탄소나노로드층이 적층된 구조인 것을 특징으로 하는 염료감응형 태양전지
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청구항 2에 있어서,상기 탄소나노로드층은 상기 FTO 기판과 상기 탄소나노로드층 사이에 구성된 촉매층을 촉매로 하여 성장된 것을 특징으로 하는 염료감응형 태양전지
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청구항 3에 있어서,상기 촉매층은 Ti 금속층과 Ni 금속층을 포함하는 것을 특징으로 하는 염료감응형 태양전지
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청구항 4에 있어서,상기 Ti 금속층과 Ni 금속층은 각각 20, 40 nm의 두께를 가지는 것을 특징으로 하는 염료감응형 태양전지
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청구항 3에 있어서,상기 탄소나노로드층은 Hot-filament 플라즈마 화학기상증착법(HF-PECVD)을 이용하여 성장된 것을 특징으로 하는 염료감응형 태양전지
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청구항 6에 있어서,상기 탄소나노로드층은 400℃의 온도 조건과 암모니아(NH3)와 아세틸렌(C2H2)이 3:1 비율로 혼합된 분위기에서 성장된 것을 특징으로 하는 염료감응형 태양전지
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청구항 3에 있어서,상기 성장된 탄소나노로드층의 탄소나노로드는 30~50nm의 직경과 300nm이상의 길이를 갖는 것을 특징으로 하는 염료감응형 태양전지
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청구항 1에 있어서,상기 탄소나노로드층은 5mΩㆍcm 이하의 비저항을 갖는 것을 특징으로 하는 태양전지
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청구항 1에 있어서,상기 탄소나노튜브는 60 nm의 Ti/Ni층을 촉매로 하여 성장된 것을 특징으로 하는 염료감응형 태양전지
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청구항 1에 있어서,상기 탄소나노튜브는 600℃의 온도 조건과 암모니아(NH3)와 아세틸렌(C2H2)이 126:47 sccm 비율로 혼합된 분위기에서 성장된 것을 특징으로 하는 염료감응형 태양전지
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청구항 1에 있어서,상기 탄소나노튜브는 80~100nm의 직경과 5~6μm이상의 길이를 갖는 것을 특징으로 하는 염료감응형 태양전지
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탄소나노로드층을 성장시켜 하부 전극을 형성하는 하부전극형성단계;탄소나노튜브를 성장시켜 염료층을 형성하는 염료층형성단계;전도성 산화물이 증착된 상부전극을 형성하는 상부전극형성단계; 및상기 상부 전극, 상기 염료층 및 상기 하부전극을 합착하고, 상기 상부 전극과 상기 하부 전극 사이에 전해질을 주입하는 단계를 포함하는 염료감응형 태양전지 제조 방법
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청구항 14에 있어서,상기 하부전극형성단계는,FTO(Fluorine doped-Tin Oxide) 기판에 Ti 및 Ni를 증착시켜 촉매층을 형성하는 단계; 및상기 촉매층을 촉매로 하여 탄소나노로드층을 성장시키는 단계를 포함하는 염료감응형 태양전지 제조 방법
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청구항 14에 있어서,상기 탄소나노로드층은 Hot-filament 플라즈마 화학기상증착법(HF-PECVD)을 이용하여 성장된 것을 특징으로 하는 염료감응형 태양전지 제조 방법
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청구항 16에 있어서,상기 탄소나노로드층은 400℃의 온도 조건과 암모니아(NH3)와 아세틸렌(C2H2)이 3:1 비율로 혼합된 분위기에서 성장된 것을 특징으로 하는 염료감응형 태양전지 제조 방법
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청구항 14에 있어서, 상기 염료층형성단계는,Hot-filament 플라즈마 화학기상증착법(HF-PECVD)을 이용하여 탄소나노튜브를 성장시키는 단계; 및상기 성장된 탄소나노튜브를 염료에 소정 시간 동안 침지시켜 혼합 및 흡착하는 단계를 포함하는 염료감응형 태양전지 제조 방법
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청구항 18에 있어서,상기 탄소나노튜브는 600℃의 온도 조건과 암모니아(NH3)와 아세틸렌(C2H2)이 126:47 sccm 비율로 혼합된 분위기에서 성장된 것을 특징으로 하는 염료감응형 태양전지 제조 방법
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