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플루오렌 에폭시 변성 아크릴레이트, 이를 포함하는광경화형 수지 조성물 및 이로부터 제조된 광학필름

  • 기술번호 : KST2014043716
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 플루오렌 에폭시 변성 아크릴레이트 및 이를 포함하는 광경화형 수지 조성물 및 이로부터 제조된 광학필름에 관한 것으로서, 본 발명에 따라 제조된 플루오렌 에폭시 변성 아크릴레이트 및 광경화형 수지 조성물은 종래 기술에 비하여 높은 굴절율을 가지며, 각종 기재에 대한 접착력이 우수할 뿐만 아니라, 높은 경도와 내마모성을 갖는다.
Int. CL C07C 69/54 (2006.01.01) C08J 5/18 (2006.01.01) G02B 1/04 (2006.01.01) G02B 5/30 (2006.01.01)
CPC C07C 69/54(2013.01) C07C 69/54(2013.01) C07C 69/54(2013.01) C07C 69/54(2013.01) C07C 69/54(2013.01)
출원번호/일자 1020080026138 (2008.03.21)
출원인 한양대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1057352-0000 (2011.08.10)
공개번호/일자 10-2009-0100745 (2009.09.24) 문서열기
공고번호/일자 (20110818) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.03.23)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이학준 대한민국 경기 안산시 상록구
2 김동국 대한민국 경기 안산시 상록구
3 임진규 대한민국 경기 군포시
4 이성완 대한민국 경기 안산시 상록구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인충현 대한민국 서울특별시 서초구 동산로 **, *층(양재동, 베델회관)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 에리카산학협력단 경기도 안산시 상록구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.03.21 수리 (Accepted) 1-1-2008-0204587-86
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2009.03.23 수리 (Accepted) 1-1-2009-0174102-53
3 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2010.02.25 수리 (Accepted) 1-1-2010-0125732-83
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.03.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0124145-05
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2011.05.04 수리 (Accepted) 1-1-2011-0333041-55
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.06.03 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0420986-94
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.06.03 수리 (Accepted) 1-1-2011-0420985-48
8 등록결정서
Decision to grant		 2011.08.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0440074-85
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.06.05 수리 (Accepted) 4-1-2014-5068294-39
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5022074-70
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.05 수리 (Accepted) 4-1-2019-5155816-75
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.06 수리 (Accepted) 4-1-2019-5156285-09
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번호 청구항
1 1
삭제
2 2
광학필름용 플루오렌 에폭시 변성 아크릴레이트의 제조 방법에 있어서, 플루오렌기를 하나 이상 함유하는 플루오렌 폴리에폭시 화합물과 카르복시산을 함유하는 아크릴레이트 화합물을 반응시켜 플루오렌 에폭시 아크릴레이트 단량체를 합성하는 단계; 및 상기 단량체를 중합시켜 분자 내에 플루오렌 에폭시 구조를 갖는 플루오렌 에폭시 변성 아크릴레이트를 제조하는 단계를 포함하며, 상기 플루오렌 폴리에폭시 화합물은 4,4-(9H-플루오렌-9-일리덴) 비스 페놀 디글리시딜 에테르, 4,4-(9H-플루오렌-9-일리덴) 비스[2-메틸 페놀] 디글리시딜 에테르, 2,2-(9H-플루오렌-9-일리덴) 비스[4-메틸 페놀] 디글리시딜 에테르, 4,4-(9H-플루오렌-9-일리덴) 비스[2,5-디메틸 페놀] 디글리시딜 에테르, 4,4-(9H-플루오렌-9-일리덴) 비스[2,6-디메틸 페놀] 디글리시딜 에테르, 4,4-(9H-플루오렌-9-일리덴) 비스[2-(1-메틸에틸) 페놀] 디글리시딜 에테르, 4,4-(9H-플루오렌-9-일리덴) 비스[(2-프로페닐) 페놀] 디글리시딜 에테르, 4,4-(9H-플루오렌-9-일리덴) 비스[2-(2-메틸-프로필) 페놀] 디글리시딜 에테르, 4,4-(9H-플루오렌-9-일리덴) 비스[2-(1,1-디메틸-에틸) 페놀] 디글리시딜 에테르, 4,4-(9H-플루오렌-9-일리덴) 비스[2-싸이클로헥실-5-메틸 페놀] 디글리시딜 에테르, 4,4-(9H-플루오렌-9-일리덴) 비스[2-플루오로 페놀] 디글리시딜 에테르, 4,4-(9H-플루오렌-9-일리덴) 비스(2-에틸 페놀) 디글리시딜 에테르 등으로 이루어진 군으로부터 선택되고, 상기 카르복시산 함유하는 아크릴레이트 화합물은 아크릴산, 메타아크릴산, 아크릴산 다이머, 락톤 변성 아크릴산 또는 카르복시산 무수물과 하이드록시 아크릴레이트와 반응하여 생성되는 하프에스터 아크릴레이트에서 선택되는 것을 특징으로 하는 플루오렌 에폭시 변성 아크릴레이트의 제조 방법
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4 4
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5 5
제2항에 있어서, 상기 카르복시산 무수물은 무수프탈산, 무수말레인산, 헥사하이드로 무수프탈산 등의 2 염기성 카르복실산, 3,4-무수디메톡시프탈산, 3,4-무수디메톡시프탈산, 4,5-무수디메톡시프탈산, 3,6-무수디하이드록시프탈산, 3,6-디하이드록시-4-메틸무수프탈산, 3,6-디메톡시-4,5-메틸렌 디하이드록시 무수프탈산, 3,4-디메틸 무수프탈산, 3,6-디메틸 무수프탈산, 4,5-디메틸 무수프탈산, 3-메틸 무수프탈산, 4-메틸 무수프탈산, 3-메톡시 무수프탈산, 4-메톡시프탈산, 3-메톡시-4,6-디메틸 무수프탈산, 4-이소프로필-3,5,6-트리메톡시 무수프탈산, 4-하이드록시 무수프탈산, 3-하이드록시-4-메톡시 무수프탈산, 3-하이드록시-5-메톡시 무수프탈산, 6-하이드록시-4-메톡시-3-메틸 무수프탈산, 6-이소부틸-3,4-디메틸 무수프탈산, 3-프로필 무수프탈산, 트리멜리틱산무수물, 파이로멜리틱산무수물, 2,3,3`,4`-비페닐테트라 카르복실산 이무수물, 3,3`,4,4`-비페닐테트라 카르복실산 이무수물, 3,3`,4,4`-벤조페논테트라 카르복실산 이무수물, 비스(3,4-디카르복실페닐)에테르 이무수물, 비스(3,4-디카르목실페닐)메탄 이무수물, 메틸-3,6-엔도 메틸렌테트라하이드로 무수프탈산, 3,6-엔도 메틸렌테트라 하이드로 무수프탈산 등의 무수프탈산 유도체로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 플루오렌 에폭시 변성 아크릴레이트의 제조방법
6 6
제2항에 있어서, 상기 하이드록시 아크릴레이트는 하이드록시 에틸 아크릴레이트, 하이드록시프로필 아크릴레이트, 하이드록시 부틸 아크릴레이트, 카프로락톤 변성 하이드록시 아크릴레이트, 글리세롤 디아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 에톡시레이티드 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 프로폭시레이티드 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 디메틸올 프로판 트리아크릴레이트, 에톡시레이티드 디메틸올프로판 트리아크릴레이트, 프로폭시레이티드 디메틸올 프로판 트리아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타아크릴레이트, 솔비톨 펜타아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 플루오렌 에폭시 변성 아크릴레이트의 제조방법
7 7
제2항의 플루오렌 에폭시 변성 아크릴레이트; 비닐기 또는 아크릴레이트기 또는 메타아크릴레이트기를 포함하는 반응성 단량체; 및 광중합 개시제를 포함하는 것을 특징으로 하는 광경화형 수지 조성물
8 8
제7항에 있어서, 상기 플루오렌 에폭시 변성 아크릴레이트는 30 내지 70중량%인 것을 특징으로 하는 광경화형 수지 조성물
9 9
삭제
10 10
제7항에 있어서, 상기 반응성 단량체는 아크릴로일 몰포린, 벤질 아크릴레이트,디사이클로펜타디엔 아크릴레이트, 사이클로 헥실 아크릴레이트, 페녹시 에틸 아크릴레이트, 페녹시 디에틸렌 글리콜 아크릴레이트, 페녹시 테트라 에틸렌 글리콜 아크릴레이트, 페녹시 헥사에틸렌 글리콜 아크릴레이트, 4-하이드록시 부틸 아크릴레이트 및 사이클로 헥산 디 메탄올 모노 아크릴레이트, 네오펜틸 아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디 아크릴레이트, 폴리에틸렌 글리콜 디 아크릴레이트, 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아뉴레이트 디아크릴레이트, 디메틸올 트리 사이클로 데칸 디아크릴레이트 및 에틸렌 옥사이드 부가형 비스 페놀 A 디아크릴레이트, 에틸렌 옥사이드 3몰 부가형 트리메틸올 프로판 트리 아크릴레이트, 에틸렌 옥사이드 6몰 부가형 트리메틸올 프로판 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 트리스(아크릴로옥시에틸)이소시아뉴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사 아크릴레이트 및 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨 헥사 아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 광경화형 수지 조성물
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제7항에 있어서, 상기 광중합 개시제는 벤조페논 및 그 유도체, 벤조인, 벤조인 알킬 에테르 벤질디메틸케탈, 1-하이드록시 사이클로 헥실 페닐케톤, 디에톡시아세토페논, 포스핀 옥사이드 계, 아미노 아세토페논계, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로파-1-논, 2-벤질-2-디메틸아미드-1-(4-몰포리나페닐)-부타난으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 광경화형 수지 조성물
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투명기재필름; 및 제7항에 따른 광경화형 수지 조성물을 함유하며 상기 투명기재필름의 일 면에 적층된 프리즘층을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학필름
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 한국산업기술재단 한양대학교 산학협력중심대학 기술개발과제 고굴절율을 갖는 전자소재용 광경화형 비스플루오렌계변성아크릴레이트 유도체의 개발