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고굴절율을 갖는 아크릴레이트 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2014041920
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 하기 화학식(1) 또는 (2)로 표시되는 고굴절율을 갖는 아크릴레이트를 포함하는 광경화성 수지 조성물에 관한 것으로서, 상기 아크릴레이트는 굴절율이 높기 때문에 프리즘 시트와 같은 디스플레이 부품 소재에 광범위하게 사용될 수 있으며, 제조 공정이 간단하고 효율이 높으며 경제적인 것이 특징이다. (1) (2)
Int. CL C07C 69/736 (2006.01.01) C08F 20/10 (2006.01.01) C08J 5/18 (2006.01.01) G02B 1/04 (2006.01.01)
CPC C07C 69/736(2013.01)C07C 69/736(2013.01)C07C 69/736(2013.01)C07C 69/736(2013.01)C07C 69/736(2013.01)C07C 69/736(2013.01)
출원번호/일자 1020090049941 (2009.06.05)
출원인 한양대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1057734-0000 (2011.08.11)
공개번호/일자 10-2010-0131174 (2010.12.15) 문서열기
공고번호/일자 (20110819) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.06.05)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이학준 대한민국 경기도 용인시 수지구
2 배정은 대한민국 경기도 안양시 동안구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인충현 대한민국 서울특별시 서초구 동산로 **, *층(양재동, 베델회관)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 에리카산학협력단 경기도 안산시 상록구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.06.05 수리 (Accepted) 1-1-2009-0342028-13
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2010.02.25 수리 (Accepted) 1-1-2010-0125705-50
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.04.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0184381-58
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.06.07 수리 (Accepted) 1-1-2011-0426263-32
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.06.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0426264-88
6 등록결정서
Decision to grant
2011.08.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0445847-22
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.06.05 수리 (Accepted) 4-1-2014-5068294-39
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5022074-70
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.05 수리 (Accepted) 4-1-2019-5155816-75
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.06 수리 (Accepted) 4-1-2019-5156285-09
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번호 청구항
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하기 화학식 (1) 또는 (2)로 표시되는 아크릴레이트 모노머 40 ~ 60 중량%와, 1 이상의 작용기를 가진 반응성 아크릴레이트 모노머 30 ~ 50 중량% 및 광중합 개시제 1 ~ 5 중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 광경화성 수지 조성물: (1) (2) (상기 식에서, R1은 H, C1~C6의 알킬, -OR', -NR'2, -CN, -NO2, -CHO, -COR' -COOR'(R'= 메틸, 에틸, 프로필)로 이루어진 군 중에서 선택되며, R2 는 H 또는 CH3 임)
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제9항에 있어서, 상기 1 이상의 작용기를 가진 반응성 아크릴레이트 모노머는 페녹시 에틸 아크릴레이트, 페녹시 디에틸렌 글리콜 아크릴레이트, 페녹시 테트라 에틸렌 글리콜 아크릴레이트, 페녹시 헥사에틸렌 글리콜 아크릴레이트, 디사이클로 펜타디엔 아크릴레이트, 4-하이드록시 부틸 아크릴레이트 및 사이클로 헥산 디 메탄올 모노 아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디 아크릴레이트, 폴리에틸렌 글리콜 디 아크릴레이트, 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아뉴레이트 디아크릴레이트, 디메틸올 트리사이클로 데칸 디아크릴레이트 및 에틸렌 옥사이드 부가형 비스 페놀 A 디아크릴레이트, 에틸렌 옥사이드 3몰 부가형 트리메틸올 프로판 트리 아크릴레이트, 에틸렌 옥사이드 6몰 부가형 트리메틸올 프로판 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 트리스(아크릴로옥시에틸)이소시아뉴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사 아크릴레이트 또는 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨 헥사 아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 화합물인 것을 특징으로 하는 광경화성 수지 조성물
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제9항에 있어서, 상기 광중합 개시제는 벤조페논, 벤조페논 유도체, 벤조인, 벤조인 알킬 에테르 벤질디메틸케탈, 1-하이드록시 사이클로 헥실 페닐케톤, 디에톡시 아세토페논, 포스핀 옥사이드계, 아미노 아세토페논계, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로파-1-논, 2-벤질-2-디메틸아미드-1- (4-몰포리나페닐)-부타난으로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 화합물인 것을 특징으로 하는 광경화성 수지 조성물
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제9항에 따른 광경화성 수지 조성물을 이용하여 제조된 것을 특징으로 하는 광학 필름
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제12항에 있어서, 프리즘 시트인 것을 특징으로 하는 광학 필름
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제12항에 따른 광학 필름을 채용한 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 정부출연기관 정부출연기관((재)한국산업기술재단) 산학협력중심대학육성사업(기술개발과제사업) 고굴절율을 갖는 전자소재용 광경화형 비스페놀플루오렌계 변성 아크릴레이트 유도체의 개발