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a) 분자 중에 1개 이상의 아크릴레이트기 또는 메타아크레이트기를 갖고, 한 분자 이상의 나프톨을 함유하는 나프톨 폴리에폭시 화합물과,b) 카르복시산을 함유하는 아크릴레이트 화합물;을 반응시켜 분자 내에 나프톨 에폭시 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 나프톨 에폭시 변성 아크릴레이트
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제1항에 있어서, 상기 나프톨 폴리에폭시 화합물은 1-나프톨 글리시딜 에테르, 2-나프톨글리시딜 에테르, 1,1-나프톨 글리시딜 에테르, 2,2-나프톨 글리시딜 에테르로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 나프톨 에폭시 변성 아크릴레이트
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제1항에 있어서, 상기 카르복시산을 함유하는 아크릴레이트 화합물로는, 아크릴산, 메타아크릴산, 아크릴산 다이머 또는 락톤 변성 아크릴산, 카르복시산 무수물과 하이드록시 아크릴레이트와 반응하여 생성되는 하프에스터 아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 나프톨 에폭시 변성 아크릴레이트
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제3항에 있어서, 상기 카르복시산 무수물은 무수프탈산, 무수말레인산, 헥사하이드로 무수프탈산 등의 2 염기성 카르복실산, 3,4-무수디메톡시프탈산, 3,4-무수디메톡시프탈산, 4,5-무수디메톡시프탈산, 3,6-무수디하이드록시프탈산, 3,6-디하이드록시-4-메틸무수프탈산, 3,6-디메톡시-4,5-메틸렌 디하이드록시 무수프탈산, 3,4-디메틸 무수프탈산, 3,6-디메틸 무수프탈산, 4,5-디메틸 무수프탈산, 3-메틸 무수프탈산, 4-메틸 무수프탈산, 3-메톡시 무수프탈산, 4-메톡시프탈산, 3-메톡시-4,6-디메틸 무수프탈산, 4-이소프로필-3,5,6-트리메톡시 무수프탈산, 4-하이드록시 무수프탈산, 3-하이드록시-4-메톡시 무수프탈산, 3-하이드록시-5-메톡시 무수프탈산, 6-하이드록시-4-메톡시-3-메틸 무수프탈산, 6-이소부틸-3,4-디메틸 무수프탈산, 3-프로필 무수프탈산, 트리멜리틱산무수물, 파이로멜리틱산무수물, 2,3,3`,4`-비페닐테트라 카르복실산 이무수물, 3,3`,4,4`-비페닐테트라 카르복실산 이무수물, 3,3`,4,4`-벤조페논테트라 카르복실산 이무수물, 비스(3,4-디카르복실페닐)에테르 이무수물, 비스(3,4-디카르목실페닐)메탄 이무수물, 메틸-3,6-엔도 메틸렌테트라하이드로 무수프탈산, 3,6-엔도 메틸렌테트라 하이드로 무수프탈산으로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 나프톨 에폭시 변성 아크릴레이트
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제3항에 있어서, 상기 하이드록시 아크릴레이트로는 하이드록시 에틸 아크릴레이트, 하이드록시프로필 아크릴레이트, 하이드록시 부틸 아크릴레이트, 카프로락톤 변성 하이드록시 아크릴레이트, 글리세롤 디아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 에톡시레이티드 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 프로폭시레이티드 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 디메틸올 프로판 트리아크릴레이트, 에톡시레이티드 디메틸올프로판 트리아크릴레이트, 프로폭시레이티드 디메틸올 프로판 트리아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타아크릴레이트, 솔비톨 펜타아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 나프톨 에폭시 변성 아크릴레이트
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제1항에 따른 나프톨 에폭시 변성 아크릴레이트와 이소시아네이트를 반응시켜 분자 내에 나프톨 우레탄 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 나프톨 우레탄 변성 아크릴레이트
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제6항에 있어서,상기 이소시아네이트는 페닐렌 디이소시아네이트, 1,6-헥사메틸렌 디이소시아네이트, 톨루엔-2,4-디이소시아네이트, 톨루엔-2,6-디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌 디이소이아네이트, 이소포론 디이소이아네이트, 4,4-디페닐메탄 디이소시아네이트, 사이클로헥실메탄 디이소시아네이트, 테트라메틸자일렌 디이소시아네이트, 자일렌 디이소시아네이트, 톨루엔설포닐 이소시아네이트로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 나프톨 우레탄 변성 아크릴레이트
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제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 나프톨 에폭시/우레탄 변성 아크릴레이트; 반응성 아크릴레이트 단량체; 광중합 개시제; 및 반응 촉매를 포함하는 것을 특징으로 하는 광경화성 수지조성물
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제8항에 있어서, 상기 광경화형 수지 조성물의 반응 촉매는 트리에틸 아민, 벤질디메틸 아민, 벤질트리메틸 암모늄 클로라이드, 벤질 트리에틸 암모늄 클로라이드, 테트라 메틸 암모늄 클로라이드, 테트라 부틸 암모늄 클로라이드, 테트라 에틸 암모늄 클로라이드, 테트라 에틸 암모늄 브로마이드, 테트라 부틸 암모늄 브로마이드, 트리메틸 아미노 에틸 에탄올 아민, 디메틸 에탄올 아민 디부틸틴 디라우레이트, 디부틸틴 디아세테이트로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 광경화성 수지조성물
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제8항에 있어서, 상기 반응성 아크릴레이트 단량체는 아크릴로일 몰포린, 벤질 아크릴레이트,디사이클로펜타디엔 아크릴레이트, 사이클로 헥실 아크릴레이트, 페녹시 에틸 아크릴레이트, 페녹시 디에틸렌 글리콜 아크릴레이트, 페녹시 테트라 에틸렌 글리콜 아크릴레이트, 페녹시 헥사에틸렌 글리콜 아크릴레이트, 오르소 페닐페녹시 에틸 아크릴레이트, 4-하이드록시 부틸 아크릴레이트 및 사이클로 헥산 디 메탄올 모노 아크릴레이트, 네오펜틸 아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디 아크릴레이트, 폴리에틸렌 글리콜 디 아크릴레이트, 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아뉴레이트 디아크릴레이트, 디메틸올 트리 사이클로 데칸 디아크릴레이트 및 에틸렌 옥사이드 부가형 비스 페놀 A 디아크릴레이트, 에틸렌 옥사이드 3몰 부가형 트리메틸올 프로판 트리 아크릴레이트, 에틸렌 옥사이드 6몰 부가형 트리메틸올 프로판 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 트리스(아크릴로옥시에틸)이소시아뉴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사 아크릴레이트 및 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨 헥사 아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 광경화성 수지조성물
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제8항에 있어서, 상기 광중합 개시제는 벤조페논 및 그 유도체, 벤조인, 벤조인 알킬 에테르 벤질디메틸케탈, 1-하이드록시 사이클로 헥실 페닐케톤, 디에톡시아세토페논, 포스핀 옥사이드 계, 아미노 아세토페논계, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로파-1-논, 2-벤질-2-디메틸아미드-1-(4-몰포리나페닐)-부타난으로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 광경화성 수지조성물
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제8항에 따른 광경화성 수지 조성물을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필름
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제12항에 있어서, 프리즘 시트인 것을 특징으로 하는 광학 필름
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제13항에 따른 광학 필름을 채용한 것을 특징으로 하는 디스플레이 부품
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