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하기 화학식으로 표현되는 것임을 특징으로 하는 π-컨쥬게이트된 화합물:[화학식 2]상기 p와 p'는 불소-비치환 알킬렌의 반복수로서, 서로 동일하거나 상이하고, 상기 p와 p'는 각각 독립적으로 4 내지 6인 정수이고;상기 (q-1)과 (q'-1)은 디플루오로알킬렌의 반복수로서, 서로 동일하거나 상이하고, 상기 q와 q'는 각각 독립적으로 6 내지 8인 정수이며;상기 (p+q)는 10 내지 14의 정수이고; 상기 (p'+q')는 10 내지 14의 정수이며;상기 q/p는 1 내지 2 사이의 값을 가지고; 상기 q'/p'는 1 내지 2 사이의 값을 가지며;상기 n은 2 내지 5,000,000인 정수이다
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제3항에 있어서, 상기 p와 p'는 서로 동일하고;상기 q와 q'는 서로 동일한 것을 특징으로 하는 π-컨쥬게이트된 화합물
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제3항에 있어서, 상기 p, p', q, q'가 각각 5, 5, 7, 7인 것을 특징으로 하는 π-컨쥬게이트된 화합물
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상기 제3항, 제4항, 및 제6항 중 어느 한 항에 따른 π-컨쥬게이트된 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 유기 박막
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소스 전극, 드레인 전극, 게이트 전극, 게이트 절연층 및 유기 반도체층을 포함하는 전계 효과 유기 트랜지스터로서,상기 유기 반도체층은 상기 제7항의 전도성 유기 박막을 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 효과 유기 트랜지스터
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하기 화학식 2로 표현되는 π-컨쥬게이트된 화합물의 제조방법으로서, 상기 제조방법은 하기 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 π-컨쥬게이트된 화합물의 제조방법:[화학식 2];(a) 하기 화학식 3의 화합물과 하기 화학식 4의 화합물을 반응시켜 하기 화학식 5의 화합물을 수득하는 단계:[화학식 3][화학식 4][화학식 5];(b) 상기 화학식 5의 화합물과 하기 화학식 6의 화합물을 반응시켜 하기 화학식 7의 화합물을 수득하는 단계:[화학식 6][화학식 7];(c) 상기 화학식 7의 화합물을 환원시켜 하기 화학식 8의 화합물을 수득하는 단계:[화학식 8];(d) 상기 화학식 8의 화합물의 수소 중 하나를 X4로 치환하여 하기 화학식 9의 화합물을 수득하는 단계:[화학식 9];(e) 상기 화학식 9의 화합물을 서로 커플링시켜 하기 화학식 10의 화합물을 수득하는 단계:[화학식 10]; 및(f) 상기 화학식 10의 화합물에 하기 화학식 11의 화합물을 커플링시켜 하기 화학식 2의 화합물을 수득하는 단계:[화학식 11];상기 p와 p'는 동일하고, 상기 q와 q'는 동일하며;상기 p와 p'는 각각 독립적으로 4 내지 6인 정수이고, 상기 q와 q'는 각각 독립적으로 6 내지 8인 정수이며;상기 q/p는 1 내지 2 사이의 값을 가지고, 상기 q'/p'는 1 내지 2 사이의 값을 가지며;상기 n은 2 내지 5,000,000인 정수이고;상기 X1, X2, X3, X4는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 Br, Cl, I 중에서 선택된다
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제9항에 있어서, 상기 (a) 단계는 그리냐르(Grignard) 착물 형성을 안정화하기 위하여 디에틸이서 극성용매 조건에서 쿠마다(Kumada) 커플링을 이용하여 수행되며;상기 (b) 단계는 라디칼 소멸을 막기 위해 무수(anhydrous) 조건에서 라디칼 반응을 사용하여 수행되며;상기 (c) 단계는 요오드 제거를 위해 환원제인 NaBH4를 사용하여 수행되고;상기 (d) 단계는 티오펜 2번 위치에 브롬을 치환시키기 위하여 N-브로모숙신이미드(N-bromosuccinimide, NBS)를 사용하여 약산 조건에서 수행되며;상기 (e) 단계는 팔라듐(Pd) 촉매를 사용하여 극성용매 조건에서 수행되고;상기 (f) 단계는 스틸레 크로스 커플링(Stille cross coupling)을 사용하여 질소 분위기 조건에서 수행되는 것을 특징으로 하는 π-컨쥬게이트된 화합물의 제조방법
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(A) 상기 제9항 또는 제10항에 따라 상기 화학식 2로 표현되는 π-컨쥬게이트된 화합물을 제조하는 단계;(B) 상기 π-컨쥬게이트된 화합물을 용매 또는 분산매에 투입하여 용해 또는 분산시켜 상기 π-컨쥬게이트된 화합물의 용액 또는 분산액을 수득하는 단계;(C) 상기 용액 또는 분산액에 기판을 침지하고 꺼낸 후 건조하는 단계를 포함하는 전도성 유기 박막의 제조방법
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제11항에 있어서, 상기 용매 또는 분산매는 디클로로벤젠(DCB), 트리클로로벤젠(TCB), 헥사플루오로벤젠(HFB) 및 이들 2종 이상의 혼합물 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 전도성 유기 박막의 제조방법
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제12항에 있어서, 상기 (B) 단계는 열적 어닐링 과정을 거치지 않고 수행되는 것을 특징으로 하는 전도성 유기 박막의 제조방법
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제13항에 있어서, 상기 (B) 단계는 10-40 ℃의 온도에서 수행되는 것임을 특징으로 하는 전도성 유기 박막의 제조방법
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