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티아졸계 유기 반도체 화합물 및 이를 이용한 유기박막트랜지스터

  • 기술번호 : KST2015174723
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 티아졸을 이용하는 유기반도체 화합물을 제공한다. 또한 티아졸을 이용하는 유기 반도체 화합물을 유기 반도체 층에 사용하는 유기박막트랜지스터를 제공한다. 티아졸을 이용하는 신규한 유기반도체 화합물은 액정성을 가지며 열적안정성이 뛰어나므로 유기박막트랜지스터에서 유기반도체층에 제공된다. 이를 달성하기 위해 실리콘 기판 상에 실리콘 산화막을 형성하고, 실리콘 산화물 상에 티아졸을 포함하는 유기반도체층을 형성한다. 또한, 유기반도체층 상부의 양측 영역에는 소스 전극 및 드레인 전극을 형성한다. 유기반도체층을 사용한 유기박막트랜지스터는 개선된 점멸비를 가지고, 뛰어난 열적 안정성을 가진다. 또한, 용액 공정이 가능하다는 잇점이 있다. 유기 반도체, 티아졸, 유기 박막트랜지스터, 점멸비
Int. CL C07D 513/04 (2006.01) H01L 29/786 (2006.01)
CPC C07D 513/04(2013.01) C07D 513/04(2013.01) C07D 513/04(2013.01) C07D 513/04(2013.01) C07D 513/04(2013.01) C07D 513/04(2013.01)
출원번호/일자 1020070123143 (2007.11.30)
출원인 광주과학기술원
등록번호/일자 10-0934534-0000 (2009.12.21)
공개번호/일자 10-2009-0056120 (2009.06.03) 문서열기
공고번호/일자 (20091229) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.11.30)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김동유 대한민국 광주광역시 북구
2 임보규 대한민국 광주광역시 북구
3 백강준 대한민국 광주광역시 북구
4 정형구 대한민국 광주광역시 북구
5 오승환 대한민국 광주광역시 북구
6 박홍주 대한민국 광주광역시 북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인이상 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 ***(양재동, 우도빌딩 *층)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2007.11.30 수리 (Accepted) 1-1-2007-0863163-20
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2008.06.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2008.07.10 수리 (Accepted) 9-1-2008-0040300-52
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2009.05.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0209515-52
5 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2009.07.09 수리 (Accepted) 1-1-2009-0417942-66
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2009.07.09 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0418602-26
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2009.07.09 수리 (Accepted) 1-1-2009-0418596-39
8 등록결정서
Decision to grant
2009.11.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0463415-86
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.09.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5187089-85
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번호 청구항
1 1
화학식(1)로 표현되는 것을 특징으로 하는 티아졸 유기반도체 화합물
2 2
ⅰ) 실리콘 기판을 준비하는 단계; ⅱ) 상기 실리콘 기판 상에 실리콘 산화물을 사용하여 절연층을 형성하는 단계; ⅲ) 상기 절연층 상에 화학식 (1)을 사용하여 유기 반도체층을 형성하는 단계; 및 ⅳ) 상기 유기 반도체층 상에 소스 전극과 드레인 전극을 형성하는 단계를 포함하는 유기박막트랜지스터를 제조하는 방법
3 3
제 2 항에 있어서, 상기 유기 반도체층을 형성하는 단계는 상기 화학식 (1)로 표현되는 물질을 고진공하 상태에서 증착하여 상기 유기 반도체층을 형성하는 것을 특징으로 하는 유기박막트랜지스터를 제조하는 방법
4 4
제 2 항에 있어서, 상기 유기 반도체층을 형성하는 단계는 상기 화학식 (1)로 표현되는 물질을 용액에 녹인후 코팅하여 유기 반도체층을 형성하는 것을 특징으로 하는 유기박막트랜지스터를 제조하는 방법
5 5
실리콘 기판층; 상기 실리콘 기판층 상부의 실리콘 산화물을 사용한 절연층; 상기 절연층 상부의 화학식 (1)을 사용하는 유기 반도체층; 및 상기 유기 반도체층 상부의 전극층을 포함하는 유기박막트랜지스터
6 6
제 5 항에 있어서, 유기 반도체층은 상기 화학식 (1)로 표현되는 물질을 고진공하 상태에서 증착하여 형성된 것을 특징으로 하는 유기박막트랜지스터
7 7
제 5 항에 있어서, 유기 반도체층은 상기 화학식 (1)로 표현되는 물질을 용액에 녹인후 코팅하여 형성된 것을 특징으로 유기박막트랜지스터
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 EP02065389 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
2 EP02065389 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
3 JP04994347 JP 일본 FAMILY
4 JP21132717 JP 일본 FAMILY
5 US07897963 US 미국 FAMILY
6 US08263431 US 미국 FAMILY
7 US20090152538 US 미국 FAMILY
8 US20110177653 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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1 EP2065389 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
2 EP2065389 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
3 JP2009132717 JP 일본 DOCDBFAMILY
4 JP4994347 JP 일본 DOCDBFAMILY
5 US2009152538 US 미국 DOCDBFAMILY
6 US2011177653 US 미국 DOCDBFAMILY
7 US7897963 US 미국 DOCDBFAMILY
8 US8263431 US 미국 DOCDBFAMILY
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