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다중 분포 귀환 레이저 소자

  • 기술번호 : KST2015088755
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 다중 분포 귀환 레이저 소자를 제공한다. 이 소자는 제1 분포 귀환 영역, 변조 영역, 제2 분포 귀환 영역 및 증폭 영역을 포함하는 기판을 포함한다. 활성층이 제1 분포 귀환, 변조, 제2 분포 귀환 및 증폭 영역들의 기판 상에 배치된다. 제1 회절 격자가 제1 분포 귀환 영역 내에 배치되어, 제1 분포귀환 영역의 활성층과 커플된다. 제2 회절 격자가 제2 분포 귀환 영역 내에 배치되어, 제2 분포귀환 영역의 활성층과 커플된다. 또한, 이 소자는 제1 회절 격자에 열을 공급하는 제1 마이크로 히터 및 제2 회절 격자에 열을 공급하는 제2 마이크로 히터를 포함한다.
Int. CL H01S 5/12 (2006.01)
CPC H01S 5/1221(2013.01) H01S 5/1221(2013.01) H01S 5/1221(2013.01)
출원번호/일자 1020100125778 (2010.12.09)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2012-0064507 (2012.06.19) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.10.26)
심사청구항수 19

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박경현 대한민국 대전광역시 유성구
2 김남제 대한민국 대전광역시 유성구
3 임영안 대한민국 대전광역시 유성구
4 한상필 대한민국 대전광역시 서구
5 고현성 대한민국 서울특별시 서초구
6 이철욱 대한민국 대전광역시 유성구
7 이동훈 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 고려 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.12.09 수리 (Accepted) 1-1-2010-0812880-57
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2015.01.14 수리 (Accepted) 1-1-2015-0036837-96
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
4 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2015.10.26 수리 (Accepted) 1-1-2015-1037772-18
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2016.10.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2016.11.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2016-0150678-23
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.11.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0820243-91
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.01.11 수리 (Accepted) 1-1-2017-0033468-06
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.01.11 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0033469-41
10 등록결정서
Decision to grant
2017.05.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0364420-36
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
제1 분포 귀환 영역, 변조 영역, 제2 분포 귀환 영역 및 증폭 영역을 포함하는 기판;상기 제1 분포 귀환, 변조, 제2 분포 귀환 및 증폭 영역들의 기판 상에 연속적으로 배치된 활성층;상기 제1 분포 귀환 영역 내에 배치되고, 상기 제1 분포귀환 영역의 활성층과 커플된 제1 회절격자;상기 제2 분포 귀환 영역 내에 배치되고, 상기 제2 분포귀환 영역의 활성층과 커플된 제2 회절격자;상기 제1 회절 격자에 열을 공급하는 제1 마이크로 히터;상기 제2 회절 격자에 열을 공급하는 제2 마이크로 히터;상기 활성층 및 상기 기판 사이에 개재된 하부 클래딩층; 및상기 활성층 상에 배치된 상부 클래딩층을 포함하되, 상기 활성층은 상기 제1 분포 귀환 영역의 내부로부터, 상기 변조 영역 및 제2 분포 귀환 영역을 경유하여, 상기 증폭 영역 내부로 연장되고,상기 제1 분포 귀환 영역의 활성층에 제1 레이저 전류를 공급하여, 제1 파장을 갖는 제1 광원이 발진되고,상기 제2 분포 귀환 영역의 활성층에 제2 레이저 전류를 공급하여, 제2 파장을 갖는 제2 광원이 발진되고,상기 변조 영역의 상부 클래딩층, 활성층 및 하부 클래딩층에 역바이어스를 인가하여, 상기 변조 영역 내에서 전계흡수 현상이 발생되고,상기 증폭 영역의 활성층에 증폭 전류를 공급하여, 상기 증폭 영역 내로 공급된 상기 제1 및 제2 광원들이 증폭되도록 구성되는 다중 분포 귀환 레이저 소자
2 2
청구항 1에 있어서,상기 하부 클래딩층은 제1 도전형의 도펀트로 도핑된 화합물 반도체를 포함하고, 상기 상부 클래딩층은 제2 도전형의 도펀트로 도핑된 화합물 반도체를 포함하는 다중 분포 귀환 레이저 소자
3 3
삭제
4 4
청구항 1에 있어서,상기 제1 분포 귀환 영역 내 상부 클래딩층에 전기적으로 접속된 제1 전극;상기 제2 분포 귀환 영역 내 상부 클래딩층에 전기적으로 접속된 제2 전극;상기 변조 영역 내 상부 클래딩층에 전기적으로 접속된 제3 전극; 및상기 증폭 영역 내 상부 클래딩층에 전기적으로 접속된 제4 전극을 더 포함하는 다중 분포 귀환 레이저 소자
5 5
청구항 4에 있어서,상기 제1 및 제2 마이크로 히터들은 상기 상부 클래딩층 상부에 배치되고,상기 제1 및 제2 마이크로 히터들은 상기 상부 클래딩층과 전기적으로 절연된 다중 분포 귀환 레이저 소자
6 6
청구항 5에 있어서,상기 제1 마이크로 히터는 상기 제1 전극과 중첩되고, 상기 제2 마이크로 히터는 상기 제2 전극과 중첩되되,상기 제1 전극 및 제1 마이크로 히터 사이에 개재된 제1 층간 절연 패턴; 및상기 제2 전극 및 제2 마이크로 히터 사이에 개재된 제2 층간 절연 패턴을 더 포함하는 다중 분포 귀환 레이저 소자
7 7
청구항 5에 있어서,상기 제1 전극은 상기 제1 분포 귀환 영역 내 활성층의 일부와 중첩되고, 상기 제1 마이크로 히터는 상기 제1 분포 귀환 영역 내 활성층의 다른 일부와 중첩되고,상기 제2 전극은 상기 제2 분포 귀환 영역 내 활성층의 일부와 중첩되고, 상기 제2 마이크로 히터는 상기 제2 분포 귀환 영역 내 활성층의 다른 일부와 중첩된 다중 분포 귀환 레이저 소자
8 8
청구항 7에 있어서,상기 기판의 상부면을 기준으로, 상기 제1 및 제2 마이크로 히터들은 상기 제1 및 제2 전극들의 적어도 일부와 동일한 레벨(level)에 위치한 다중 분포 귀환 레이저 소자
9 9
청구항 1에 있어서,상기 제1 회절 격자는 상기 제1 분포 귀환 영역 내 상부 클래딩층 및 하부 클래딩층 중에 어느 하나의 내부에 배치되고,상기 제2 회절 격자는 상기 제2 분포 귀환 영역 내 상부 클래딩층 및 하부 클래딩층 중에 어느 하나의 내부에 배치된 다중 분포 귀환 레이저 소자
10 10
청구항 1에 있어서,상기 하부 클래딩층 및 상기 활성층 사이에 개재되고, 상기 활성층 보다 작은 밴드 갭(band gap) 파장을 갖는 제1 분리한정 헤테로층(first separate confinement hetero layer); 및상기 하부 클래딩층 및 상기 활성층 사이에 개재되고, 상기 활성층 보다 작은 밴드 갭 파장을 갖는 제2 분리한정 헤테로층을 더 포함하는 다중 분포 귀환 레이저 소자
11 11
청구항 1에 있어서,평면적 관점에서(in plan view), 상기 증폭 영역 내 활성층은 균일한 폭을 갖는 다중 분포 귀환 레이저 소자
12 12
청구항 1에 있어서,평면적 관점에서, 상기 증폭 영역 내 활성층은 테이퍼(taper) 형태인 다중 분포 귀환 레이저 소자
13 13
청구항 1에 있어서,상기 제1 마이크로 히터 및 상기 제2 마이크로 히터는 서로 독립적으로 제어되는 다중 분포 귀환 레이저 소자
14 14
청구항 1에 있어서,상기 제1 마이크로 히터로부터 공급된 열에 의하여 상기 제1 회절 격자의 굴절률이 변화되고,상기 제2 마이크로 히터로부터 공급된 열에 의하여 상기 제2 회절 격자의 굴절률이 변화되는 다중 분포 귀환 레이저 소자
15 15
청구항 1에 있어서,상기 제1 마이크로 히터가 상기 제1 회절 격자에 공급하는 열의 온도는 상기 제2 마이크로 히터가 상기 제2 회절 격자에 공급하는 열의 온도와 다른 다중 분포 귀환 레이저 소자
16 16
청구항 1에 있어서,상기 제1 회절 격자 및 제2 회절 격자 중에서 적어도 하나는 손실 결합 회절 격자(loss-coupled diffraction grating), 이득 결합 회절 격자(gain-coupled diffraction grating), 인덱스 결합 회절 격자(index coupled diffraction grating) 또는 복소 결합 회절 격자(complex coupled diffraction grating) 중에서 어느 하나인 다중 분포 귀환 레이저 소자
17 17
청구항 1에 있어서,상기 제1 회절 격자의 주기는 상기 제2 회절 격자의 주기와 동일한 다중 분포 귀환 레이저 소자
18 18
청구항 1에 있어서,상기 제1 회절 격자의 주기는 상기 제2 회절 격자의 주기와 다른 다중 분포 귀환 레이저 소자
19 19
청구항 1에 있어서,상기 활성층은 다중 양자 우물 구조로 형성된 다중 분포 귀환 레이저 소자
20 20
청구항 1에 있어서,상기 제1 및 제2 회절 격자는 n형 또는 p형 도펀트로 도핑된 화합물 반도체를 포함하는 다중 분포 귀환 레이저 소자
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 KR101221873 KR 대한민국 FAMILY
2 US07864824 US 미국 FAMILY
3 US08149890 US 미국 FAMILY
4 US20100142571 US 미국 FAMILY
5 US20110090932 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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1 US2010142571 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US2011090932 US 미국 DOCDBFAMILY
3 US7864824 US 미국 DOCDBFAMILY
4 US8149890 US 미국 DOCDBFAMILY
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