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진공 배기 가능한 챔버;
피처리체의 탑재를 위하여 상기 챔버 내에 형성되는 탑재 수단;
외부로부터 유입되는 기체를 플라즈마(plasma)화한 후에 상기 챔버 내부로 유입시키기 위하여 상기 챔버의 상부에 형성되는 유도 결합 플라즈마(Inductively Coupled Plasma; ICP) 방출기; 및
상기 챔버 내에 형성되고, 상기 유입되는 플라즈마에 의하여 이온화될 타겟 물질을 탑재하고, 상기 타겟 물질에 물리적 충격을 가하여 상기 피처리체에 증착될 반응 기체를 형성하는 스퍼터 건(sputter gun)
을 포함하는 스퍼터링 장치
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제 1항에 있어서,
상기 유도 결합 플라즈마 방출기는 상기 탑재 수단에 대향되도록 상기 챔버의 상부에 형성되고, 상기 스퍼터 건은 상기 유도 결합 플라즈마 방출기와 상기 탑재 수단 사이에 형성되는
스퍼터링 장치
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3
제 2항에 있어서,
상기 플라즈마에 의한 상기 스퍼터 건의 손상을 억제하기 위하여 상기 유도 결합 플라즈마 방출기와 상기 스퍼터 건 사이에 형성되는 제 1차단막
을 더 포함하는 스퍼터링 장치
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4
제 2항에 있어서,
상기 플라즈마가 공정 영역 외부로 누설되는 것을 억제하기 위하여 상기 챔버의 상부 내면과 상기 탑재 수단 사이에 형성되는 제2 차단막
을 더 포함하는 스퍼터링 장치
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5
제 2항에 있어서,
상기 스퍼터 건의 기울기를 조절하기 위한 기울기 조절 수단
을 더 포함하는 스퍼터링 장치
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제 1항에 있어서, 상기 탑재 수단은,
플렉시블(flexible)한 상기 피처리체의 표면 처리를 위하여 일측에는 플렉시블한 상기 피처리체를 감아주는 리와인더(rewinder)가 형성되고 타측에는 플렉시블한 상기 피처리체를 풀어주는 언와인더(unwinder)가 형성된 롤 투 롤(Roll-to-Roll) 유닛(unit)인
스퍼터링 장치
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제 1항에 있어서, 상기 탑재 수단은,
0
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8
제 1항에 있어서, 상기 스퍼터 건은,
0
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9
제 1항에 있어서, 상기 유도 결합 플라즈마 방출기는,
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제 3항에 있어서, 상기 제 1차단막은,
스테인리스(stainless)로 이루어지거나 세라믹(ceramics)으로 코팅된
스퍼터링 장치
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11
제 4항에 있어서, 상기 제 2차단막은,
세라믹(ceramics)으로 코팅된
스퍼터링 장치
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