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베이스(11)와; 상기 베이스(11)의 일측에 설치되는 X선 투광판(12)과; 상기 X선 투광판(12)에 부착되는 X선 마스크(14)와; 상기 베이스(11)에 일단이 고정되는 지지축(13)과; 상기 지지축(13)의 상부에 설치되고, X선 감광성 폴리머(18)가 놓여지며, 상기 X선 마스크(14)와 측면이 대향하고 있는 지지기판(16)으로 구성되어 있는 판형상 구조물 측면의 X선노광에 의한 미세구조물 가공장치
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제 1항에 있어서, 상기 X선 마스크(14)에는 복수개가 인접한 형상을 갖는 X선 흡수부(14a)(14b)가 형성된 판형상 구조물 측면의 X선노광에 의한 미세구조물 가공장치
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제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 X선 흡수부(14a)(14b)의 인접한 형상은 뾰족한 삼각형인 판형상 구조물 측면의 X선노광에 의한 미세구조물 가공장치
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제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 X선 흡수부(14a)(14b)의 인접한 형상은 반원형인 판형상 구조물 측면의 X선노광에 의한 미세구조물 가공장치
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제 2항에 있어서, 상기 X선 흡수부(14a)(14b)는 금으로 구성되는 판형상 구조물 측면의 X선노광에 의한 미세구조물 가공장치
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제 1항에 있어서, 상기 지지기판(16)의 각도를 미세하게 회전시킬 수 있는 각도조절수단(22)을 더 포함하는 판형상 구조물 측면의 X선노광에 의한 미세구조물 가공장치
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제 6항에 있어서, 상기 각도조절수단(22)은 마이크로미터인 판형상 구조물 측면의 X선노광에 의한 미세구조물 가공장치
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제 1항에 있어서, 상기 지지기판(16)의 높낮이를 조절할 수 있는 높이조절수단(24)을 더 포함하는 판형상 구조물 측면의 X선노광에 의한 미세구조물 가공장치
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9
제 1항에 있어서, 상기 판형상의 X선 감광성 폴리머(18)는 X선 투과성이 좋은 재료인 SU-8으로 구성되는 판형상 구조물 측면의 X선노광에 의한 미세구조물 가공장치
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X선 흡수부(14a)(14b)가 형성된 X선 마스크(14)를 제작하는 단계(S10)와; 상기 X선 마스크(14)에 판형상의 X선 감광성 폴리머(18)의 측면을 정렬하는 단계(S20)와; 상기 X선 마스크(14)상에 X선(1)을 노광하는 단계(S30)와; 상기 X선 감광성 폴리머(18)를 현상액에 함침시켜 현상하는 단계(S40)로 구성되는 판형상 구조물 측면의 X선노광에 의한 미세구조물 가공방법
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제 10항에 있어서, 상기 X선 흡수부(14a)(14b)가 형성된 X선 마스크(14)를 제작하는 단계(S10)는 복수의 뾰족한 삼각형 형상을 서로 인접하게 제작하는 판형상 구조물 측면의 X선노광에 의한 미세구조물 가공방법
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제 10항에 있어서, 상기 X선 마스크(14)에 판형상의 X선 감광성 폴리머(18)의 측면을 정렬하는 단계(S20)는 상기 X선 마스크(14)에 대향하도록 상기 X선 감광성 폴리머(18)의 높이의 위치와 폭의 위치를 조절하는 판형상 구조물 측면의 X선노광에 의한 미세구조물 가공방법
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제 10항에 있어서, 상기 X선 마스크(14)에 판형상의 X선 감광성 폴리머(18)의 측면을 정렬하는 단계(S20)는 상기 X선 마스크(14)에 대향하도록 상기 X선 감광성 폴리머(18)의 높이의 위치와 폭의 위치를 조절하는 판형상 구조물 측면의 X선노광에 의한 미세구조물 가공방법
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