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시료 및 희석액이 유입되는 제1 유입 유로와 각각 연통하며, 인접하는 챔버들 사이에 개재된 연결 유로를 통해 서로 연통하는 일련의 챔버들;
상기 제1 유입 유로들에 각각 설치되어 상기 제1 유입 유로를 개폐시키는 제1 유입 밸브들; 및
상기 연결 유로들에 각각 설치되어 상기 연결 유로를 개폐시키며, 개폐 순서를 순차적으로 제어하여 상기 각각의 챔버 내의 시료의 희석비를 조절하는 희석 밸브들을 포함하는 시료 처리 장치
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2
제 1 항에 있어서, 상기 제1 유입 밸브는
상기 제1 유입 유로의 일측 벽면을 구성하는 가변형 박막; 및
상기 가변형 박막을 변형시켜 상기 제1 유입 유로를 차단하기 위한 가압부를 포함하는 것을 특징으로 하는 시료 처리 장치
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3 |
3
청구항 3은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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4
제 1 항에 있어서, 상기 희석 밸브는
상기 연결 유로의 일측 벽면을 구성하는 가변형 박막; 및
상기 가변형 박막을 변형시켜 상기 연결 유로를 차단하기 위한 가압부를 포함하는 것을 특징으로 하는 시료 처리 장치
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5 |
5
청구항 5은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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6
제 1 항에 있어서, 상기 제1 유입 유로들에 연결되며 상기 시료 또는 상기 희석액을 공급하기 위한 공통 유로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 시료 처리 장치
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7 |
7
제 1 항에 있어서, 상기 제1 유입 밸브들은, 상기 시료 및 상기 희석액 중 어느 하나가 각각의 상기 챔버 내로 선택적으로 유입되도록 제어되어 상기 챔버 내의 희석비를 조절하는 것을 특징으로 하는 시료 처리 장치
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8
제 1 항에 있어서, 상기 희석 밸브들은 상기 일련의 챔버들 내의 시료의 희석비들이 선형적 분포를 갖도록 제어되는 것을 특징으로 하는 시료 처리 장치
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9
제 1 항에 있어서, 상기 희석 밸브들은 상기 일련의 챔버들 내의 시료의 희석비들이 지수적 분포를 갖도록 제어되는 것을 특징으로 하는 시료 처리 장치
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10
제 1 항에 있어서, 상기 챔버 내에 구비되며 상기 챔버 내의 유체의 흐름을 위한 혼합 구동기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 시료 처리 장치
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11 |
11
제 10 항에 있어서, 상기 혼합 구동기는
상기 챔버의 일측 벽면을 구성하는 가변형 박막; 및
상기 가변형 박막을 상기 챔버의 내부로 변형시키기 위한 가압부를 포함하는 것을 특징으로 하는 시료 처리 장치
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12
제 1 항에 있어서,
반응액이 유입되는 제2 유입 유로와 각각 연통하며, 반응 유로를 통해 상기 일련의 챔버들과 각각 연통하는 반응 챔버들;
상기 제2 유입 유로들에 각각 설치되어 상기 제2 유입 유로를 개폐시키는 제2 유입 밸브들; 및
상기 반응 유로들에 각각 설치되어 상기 반응 유로를 개폐시키는 반응 밸브들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 시료 처리 장치
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13 |
13
제 12 항에 있어서, 상기 제2 유입 밸브는
상기 제2 유입 유로의 일측 벽면을 구성하는 가변형 박막; 및
상기 가변형 박막을 변형시켜 상기 제2 유입 유로를 차단하기 위한 가압부를 포함하는 것을 특징으로 하는 시료 처리 장치
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14
제 13 항에 있어서, 상기 제2 유입 밸브들의 가압부들은 서로 연결되는 것을 특징으로 하는 시료 처리 장치
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15 |
15
제 12 항에 있어서, 상기 반응 밸브는
상기 반응 유로의 일측 벽면을 구성하는 가변형 박막; 및
상기 가변형 박막을 변형시켜 상기 반응 유로를 차단하기 위한 가압부를 포함하는 것을 특징으로 하는 시료 처리 장치
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16
제 15 항에 있어서, 상기 반응 밸브들의 가압부들은 서로 연결되는 것을 특징으로 하는 시료 처리 장치
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17 |
17
제 1 항에 있어서,
상기 시료가 유입되는 제1 유입 유로와 연통하는 제1 기준 챔버; 및
상기 희석액이 유입되는 제1 유입 유로와 연통하는 제2 기준 챔버를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 시료 처리 장치
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18 |
18
제 17 항에 있어서,
반응액이 유입되는 제2 유입 유로와 연통하며, 반응 유로를 통해 상기 제1 기준 챔버와 연통하는 제1 기준 반응 챔버; 및
반응액이 유입되는 제2 유입 유로와 연통하며, 반응 유로를 통해 상기 제2 기준 챔버와 연통하는 제2 기준 반응 챔버를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 시료 처리 장치
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19
인접하는 챔버들 사이에 개재된 연결 유로를 통해 서로 연통하며, 상기 연결 유로는 희석 밸브에 의해 개폐되는 것을 특징으로 하는 일련의 챔버들을 마련하는 단계;
각각의 상기 챔버들 내로 시료 및 희석액 중 어느 하나를 선택적으로 유입시키는 단계; 및
상기 희석 밸브들의 개폐 순서를 순차적으로 제어하여 상기 챔버 내의 희석비를 조절하는 단계를 포함하는 시료 처리 방법
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청구항 20은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다
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제 19 항에 있어서, 상기 희석 밸브들은 상기 일련의 챔버들 내의 시료의 희석비들이 선형적 분포를 갖도록 제어되는 것을 특징으로 하는 시료 처리 방법
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22
제 19 항에 있어서, 상기 희석 밸브들은 상기 일련의 챔버들 내의 시료의 희석비들이 지수적 분포를 갖도록 제어되는 것을 특징으로 하는 시료 처리 방법
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23
제 19 항에 있어서,
반응 유로를 통해 상기 일련의 챔버들과 각각 연통하며, 상기 반응 유로는 반응 밸브에 의해 개폐되는 것을 특징으로 하는 반응 챔버들을 마련하는 단계;
각각의 상기 반응 챔버들 내로 반응액을 유입하는 단계; 및
상기 반응 밸브들을 개방하여 각각의 상기 반응 챔버 내에서 원하는 희석비로 희석된 시료와 상기 반응액을 반응시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 시료 처리 방법
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