요약 | 패턴 형성 방법은 기판 상에 패턴을 형성하는 단계, 상기 패턴에 광을 조사하여 상기 패턴을 소성 또는 소결하는 단계, 및 상기 패턴의 변화를 측정하여 상기 패턴의 소성 상태 또는 소결 상태를 확인하는 단계를 포함한다. |
---|---|
Int. CL | H05K 3/22 (2006.01) B41F 15/14 (2006.01) H05K 3/12 (2006.01) H05K 3/46 (2006.01) |
CPC | H05K 3/1283(2013.01) H05K 3/1283(2013.01) H05K 3/1283(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020110077506 (2011.08.03) |
출원인 | 한국과학기술연구원 |
등록번호/일자 | 10-1232837-0000 (2013.02.06) |
공개번호/일자 | |
공고번호/일자 | (20130213) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2011.08.03) |
심사청구항수 | 12 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국과학기술연구원 | 대한민국 | 서울특별시 성북구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 임정아 | 대한민국 | 충남 보령시 |
2 | 홍재민 | 대한민국 | 서울특별시 성북구 |
3 | 송용원 | 대한민국 | 대전광역시 중구 |
4 | 최희덕 | 대한민국 | 인천광역시 남구 |
5 | 김학성 | 대한민국 | 서울 성동구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 유미특허법인 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 서림빌딩 **층 (역삼동) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국과학기술연구원 | 서울특별시 성북구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2011.08.03 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0601780-31 |
2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2012.03.13 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2012.04.19 | 수리 (Accepted) | 9-1-2012-0031706-02 |
4 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2012.07.18 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0412589-19 |
5 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2012.09.18 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2012-0754119-60 |
6 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2012.09.18 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0754120-17 |
7 | 등록결정서 Decision to grant |
2013.01.28 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0057757-45 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.02.19 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5022002-69 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 기판 상에 패턴을 형성하는 단계;상기 패턴에 펄스광(pulsed light)을 조사하여 상기 패턴을 소성 또는 소결하는 단계; 및상기 패턴의 변화를 측정하여 상기 패턴의 소성 상태 또는 소결 상태를 확인하는 단계를 포함하며,상기 패턴의 변화는 상기 패턴의 전기 저항의 변화인 패턴 형성 방법 |
2 |
2 제1항에서,상기 패턴의 변화를 측정하는 단계는 상기 패턴의 전기 저항이 설정된 임계점에 대응하는 값을 만족하는지를 측정하는 패턴 형성 방법 |
3 |
3 제1항에서,상기 기판은 플렉서블(flexible)한 패턴 형성 방법 |
4 |
4 제1항에서,상기 기판 상에 패턴을 형성하는 단계는 잉크젯 프린팅, 스핀 코팅, 롤투롤 프린팅 및 스크린 프린팅 중 하나 이상을 이용해 수행하는 패턴 형성 방법 |
5 |
5 삭제 |
6 |
6 제1항에서,상기 펄스광의 펄스 에너지는 0 |
7 |
7 제1항에서,상기 펄스광의 조사 시간은 0 |
8 |
8 제1항에서,상기 펄스광의 펄스 횟수는 1 내지 99회인 패턴 형성 방법 |
9 |
9 제1항에서,상기 기판 상에 패턴을 형성하는 단계는,상기 기판 상의 제1 영역에 제1 서브 패턴을 형성하는 단계; 및상기 제1 영역과 이격된 상기 기판 상의 제2 영역에 제2 서브 패턴을 형성하는 단계를 포함하며,상기 패턴의 변화를 측정하여 상기 패턴의 소성 상태 또는 소결 상태를 확인하는 단계는 상기 제2 서브 패턴의 소성 상태 또는 소결 상태를 확인하는 패턴 형성 방법 |
10 |
10 제9항에서,상기 제2 서브 패턴은 상기 제1 서브 패턴 대비 상기 기판의 단부와 가까운 패턴 형성 방법 |
11 |
11 기판을 이송하는 이송부;상기 기판에 패턴을 형성하는 패턴 형성부;상기 패턴에 펄스광을 조사하는 광 조사부;상기 패턴의 변화를 측정하는 변화 측정부; 및상기 변화 측정부가 측정한 상기 패턴의 변화에 따라 상기 이송부 및 상기 광 조사부 중 하나 이상을 제어하는 제어부를 포함하며,상기 변화 측정부는 상기 패턴의 전기 저항의 변화를 측정하는 패턴 형성 장치 |
12 |
12 삭제 |
13 |
13 삭제 |
14 |
14 제11항에서,상기 제어부는 상기 패턴의 전기 저항이 설정된 값을 만족하면 상기 광 조사부를 정지시키고, 상기 이송부를 구동하는 패턴 형성 장치 |
15 |
15 제11항에서,상기 기판은 플렉서블하며,상기 이송부는, 상기 기판의 일 부분을 지지하며 회전하는 제1 롤러; 및상기 기판의 타 부분을 지지하며 회전하는 제2 롤러를 포함하는 패턴 형성 장치 |
16 |
16 삭제 |
지정국 정보가 없습니다 |
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패밀리정보가 없습니다 |
---|
국가 R&D 정보가 없습니다. |
---|
공개전문 정보가 없습니다 |
---|
특허 등록번호 | 10-1232837-0000 |
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표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20110803 출원 번호 : 1020110077506 공고 연월일 : 20130213 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20130128 청구범위의 항수 : 12 유별 : H05K 3/12 발명의 명칭 : 패턴 형성 방법 및 패턴 형성 장치 존속기간(예정)만료일 : 20190207 |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 한국과학기술연구원 서울특별시 성북구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 256,500 원 | 2013년 02월 06일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 212,800 원 | 2016년 01월 27일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 212,800 원 | 2017년 01월 25일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 212,800 원 | 2018년 01월 30일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2011.08.03 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0601780-31 |
2 | 선행기술조사의뢰서 | 2012.03.13 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 | 2012.04.19 | 수리 (Accepted) | 9-1-2012-0031706-02 |
4 | 의견제출통지서 | 2012.07.18 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0412589-19 |
5 | [명세서등 보정]보정서 | 2012.09.18 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2012-0754119-60 |
6 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2012.09.18 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0754120-17 |
7 | 등록결정서 | 2013.01.28 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0057757-45 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.02.19 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5022002-69 |
기술정보가 없습니다 |
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과제고유번호 | 1345166194 |
---|---|
세부과제번호 | 2V0220 |
연구과제명 | 상용화기술개발 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 기초기술연구회 |
연구주관기관명 | 한국과학기술연구원 |
성과제출연도 | 2011 |
연구기간 | 200101~209912 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 기타 |
6T분류명 | 기타 |
과제고유번호 | 1345153102 |
---|---|
세부과제번호 | 2010-0007120 |
연구과제명 | 극단파 광 소결법을 이용한 인쇄전자기술 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
연구주관기관명 | 한양대학교 산학협력단 |
성과제출연도 | 2011 |
연구기간 | 201005~201504 |
기여율 | 0.33333334 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
과제고유번호 | 1345166194 |
---|---|
세부과제번호 | 2V0220 |
연구과제명 | 상용화기술개발 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 기초기술연구회 |
연구주관기관명 | 한국과학기술연구원 |
성과제출연도 | 2011 |
연구기간 | 200101~209912 |
기여율 | 0.33333334 |
연구개발단계명 | 기타 |
6T분류명 | 기타 |
과제고유번호 | 1415110582 |
---|---|
세부과제번호 | B551179-10-01-00 |
연구과제명 | 나노잉크를 이용한 박막형 슈퍼캐패시터 연속 생산공정 및 시스템 개발 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 산업기술연구회 |
연구주관기관명 | 한국기계연구원 |
성과제출연도 | 2010 |
연구기간 | 201007~201306 |
기여율 | 0.33333334 |
연구개발단계명 | 개발연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
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