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이차전지용 리드 단자의 표면처리장치로서,연속적으로 모재를 공급하기 위해, 장치의 양쪽 단부에 배치된 언와인더 및 리와인더;상기 언와인더 및 리와인더 사이에서 모재를 수용하여 처리하기 위한 플라즈마 처리장치; 및상기 플라즈마 처리를 위한 진공상태를 유지하고, 플라즈마화 되는 원료가스를 수용하기 위한 반응용기를 포함하고,상기 언와인더 및 리와인더와, 그 사이에 개재된 플라즈마 처리장치는, 상기 반응용기 내에 함께 수용되어 있으며,상기 반응용기 내에 수용된 것으로, 상기 플라즈마 처리된 모재 상으로 리드 단자 필름을 공급하기 위한 리드 단자 필름 공급장치를 더 포함하고,상기 반응용기 내에 수용된 것으로, 리드 단자 필름과 모재를 접합시키기 위한 가접 장치 및 진접 장치를 더 포함하며,상기 가접 장치 및 진접 장치 각각은, 모재가 운반되는 이송경로를 사이에 두고 서로 마주하게 배치된 가압 프레스와 지지대를 포함하고, 상기 가접 장치에서는 가압 프레스가 리드 단자 필름에 대면 접촉하여 가열 및 가압을 동시에 수행하며,상기 진접 장치에서는 가압 프레스가 모재에 대면 접촉하여 가열 및 가압을 동시에 수행하고, 상기 가접 장치는, 140~160도의 가열온도로 접합을 수행하며, 상기 진접 장치는, 180~240도의 가열온도로 접합을 수행하는 것을 특징으로 하는 표면처리장치
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 처리장치는, O2, H2O, Ar, NH3 및 N2O 중 1종 이상, 또는 O2, H2O, Ar, NH3 및 N2O 중 1종 이상과 불활성 기체의 혼합 가스를, 플라즈마화되는 원료가스로 사용하는 진공 플라즈마 처리를 수행하는 것을 특징으로 하는 표면처리장치
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제2항에 있어서,상기 진공 플라즈마 처리에서, 처리 압력은 1torr 이하인 것을 특징으로 하는 표면처리장치
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제2항에 있어서,상기 진공 플라즈마 처리에서, 처리시간은 60초 이하인 것을 특징으로 하는 표면처리장치
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제1항에 있어서,상기 모재는, 알루미늄, 구리, 또는 니켈을 포함하는 것을 특징으로 하는 표면처리장치
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제1항에 있어서,상기 리드 단자 필름은 폴리올레핀, 폴리올레핀 공중합체 및 변성 폴리올레핀으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 표면처리장치
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제1항에 있어서,상기 리드 단자 필름 공급장치는, 리드 단자 필름이 임시 부착되어 있는 이송필름을 롤-투-롤 방식으로 공급하기 위한 한 쌍의 필름 언와인더 및 필름 리와인더를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면처리장치
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제8항에 있어서,상기 리드 단자 필름 공급장치는,상기 필름 언와인더와 필름 리와인더 사이에서 연속적으로 공급되는 이송필름으로부터 낱장 형태의 리드 단자 필름을 분리해내기 위한 분리기; 및상기 분리된 리드 단자 필름을 부착 및 픽업하여 모재 상에 안착시키기 위한 흡착노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 표면처리장치
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제1항에 있어서,상기 가압 프레스의 내부에는 발열수단이 내장되어 있는 것을 특징으로 하는 표면처리장치
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제1항에 있어서,상기 반응용기의 일 측에는 내부가스의 배기를 위한 진공펌프가 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 표면처리장치
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제1항에 있어서,상기 반응용기의 타 측에는 상기 플라즈마 처리장치에 의해 플라즈마화되는 원료가스의 도입관이 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 표면처리장치
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