맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

Ｔ-형 칼슘 채널에 활성을 가지는 5각형의 헤테로방향족 화합물

  • 기술번호 : KST2015123923
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 T-형 칼슘 채널에 대하여 약학적 활성을 보이는 5각형의 헤테로방향족 화합물 및 이의 약학적으로 허용 가능한 염, 이들 화합물의 제조방법, 그리고 이들 화합물이 유효성분으로 함유된 약제조성물에 관한 것이다. 상기한 5각형의 헤테로방향족 화합물 및 이의 약학적으로 허용 가능한 염은 T-형 칼슘채널과 관련된 질환 예를 들면 간질, 고혈압 등의 뇌질환, 협심증 등의 심장질환, 만성 통증, 신경성 통증 등의 통증질환, 및 암 질환의 치료용 약제로 유용하다.
Int. CL C07D 413/12 (2006.01) A61K 31/496 (2006.01) C07D 413/06 (2006.01) A61P 9/00 (2006.01)
CPC C07D 413/06(2013.01) C07D 413/06(2013.01) C07D 413/06(2013.01) C07D 413/06(2013.01)
출원번호/일자 1020110009730 (2011.01.31)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2012-0088398 (2012.08.08) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.01.31)
심사청구항수 7

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 배애님 대한민국 서울특별시 송파구
2 조용서 대한민국 서울특별시 동대문구
3 추현아 대한민국 서울특별시 서초구
4 최경일 대한민국 서울특별시 송파구
5 김동진 대한민국 서울특별시 노원구
6 서선희 대한민국 서울특별시 성북구
7 임혜원 대한민국 서울특별시 성북구
8 최기현 대한민국 경기도 구리시
9 송치만 대한민국 서울특별시 관악구
10 김윤정 대한민국 서울특별시 강동구
11 임건승 대한민국 서울특별시 영등포구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한라특허법인(유한) 대한민국 서울시 서초구 강남대로 ***(서초동, 남강빌딩 *층)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2011.01.31 수리 (Accepted) 1-1-2011-0078777-79
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.01.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0038656-42
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.03.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0203584-33
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.03.08 수리 (Accepted) 1-1-2013-0203583-98
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.07.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0519560-62
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2013.09.30 수리 (Accepted) 1-1-2013-0886379-65
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2013.12.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0899399-18
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
9 대리인선임신고서
Report on Appointment of Agent		 2015.12.23 수리 (Accepted) 1-1-2015-5033520-42
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
하기 화학식 1로 표시되는 5각형의 헤테로방향족 화합물 또는 약학적으로 허용 가능한 이의 염인 것을 특징으로 하는 화합물 :[화학식 1] 상기 화학식 1에서,X, Y, 및 Z는 서로 같거나 다른 것으로서 질소원자(N)이거나, 또는 C-R2를 나타내고; E는 -(CH2)qC(O)-, -(CH2)nN(R3)(CH2)mC(O)-, -(CH2)nN(R3)(CH2)m-, 또는 -(CH2)nN(R3)C(O)(CH2)m- 를 나타내고; R1은 (C6-C15 아릴)2메틸기, C5-C15 헤테로아릴메틸기, C6-C15 아릴기, C6-C15 아릴카보닐기, 또는 C6-C15 아릴설포닐기를 나타내고, 이때 상기 아릴은 할로, C1-C6 알킬, 및 C1-C6 할로알킬 중에서 선택된 1 내지 3개의 치환기로 치환 또는 비치환될 수 있고;R2는 수소원자, C1-C6 알킬기, 또는 C6-C15 아릴기를 나타내고;R3은 수소원자, 또는 C1-C6 알킬기를 나타내고; ℓ은 1 또는 2의 정수를 나타내고; q는 1 내지 6의 정수를 나타내고; n, 및 m은 서로 같거나 다른 것으로서 0 내지 6의 정수를 나타낸다
2 2
청구항 1에 있어서, 상기 X, Y, 및 Z는 서로 같거나 다른 것으로서 질소원자(N)이거나, 또는 C-R2를 나타내고; 상기 E는 -(CH2)qC(O)-, -(CH2)nN(R3)(CH2)mC(O)-, -(CH2)nN(R3)(CH2)m-, 또는 -(CH2)nN(R3)C(O)(CH2)m- 를 나타내고; 상기 R1은 치환 또는 비치환된 벤즈하이드릴기, 벤조[d]싸이아졸-2-일메틸기, 치환 또는 비치환된 페닐기, 치환 또는 비치환된 벤조일기, 또는 치환 또는 비치환된 페닐설포닐기를 나타내고, 이때 치환된 벤즈하이드릴, 페닐, 벤조일, 또는 페닐설포닐기는 각각 할로, C1-C6 알킬, 및 트리플루오로메틸 중에서 선택된 1 내지 3개의 치환기로 치환된 페닐, 벤즈하이드릴, 벤조일, 또는 페닐설포닐기를 나타내고;상기 R2는 수소원자, C1-C6 알킬기, 또는 페닐기를 나타내고;상기 R3은 수소원자, 또는 C1-C6 알킬기를 나타내고; 상기 ℓ은 1 또는 2의 정수를 나타내고; 상기 q는 1 내지 6의 정수를 나타내고; 상기 n, 및 m은 서로 같거나 다른 것으로서 0 내지 6의 정수를 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물
3 3
청구항 1에 있어서, 상기 X, Y, 및 Z는 서로 같거나 다른 것으로서 N, CH, C-메틸기, C-프로필기, C-아이소프로필기, C-아이소부틸기, 또는 C-페닐기를 나타내고; 상기 E는 -(CH2)2C(O)-, -(CH2)3C(O)-, -N(CH3)CH2C(O)-, -CH2NHCH2CH2-, 또는 -CH2NHC(O)CH2- 를 나타내고; 상기 R1은 벤즈하이드릴기, (할로페닐)2CH-, 페닐기, 할로페닐기, 다이할로페닐기, 메틸페닐기, 다이메틸페닐기, 트리플루오로메틸페닐기, 벤조일기, 할로벤조일기, 트리플루오로메틸벤조일기, 또는 벤조[d]싸이아졸-2-일메틸기를 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물
4 4
청구항 1에 있어서, 3-(3-페닐아이소옥사졸-5-일)-1-(4-페닐피페라진-1-일)프로판-1-온 (화합물번호 1);3-(3-페닐-1,2,4-옥사다이아졸-5-일)-1-(4-페닐피페라진-1-일)프로판-1-온 (화합물번호 2);4-(3-페닐아이소옥사졸-5-일)-1-(4-페닐피페라진-1일)부탄-1-온 (화합물번호 3);4-(3-페닐-1,2,4-옥사다이아졸-5-일)-1-(4-페닐피페라진-1-일)부탄-1-온 (화합물번호 4);1-(4-(3-클로로페닐)피페라진-1-일)-4-(3-페닐-1,2,4-옥사다이아졸-5-일)부탄-1-온 (화합물번호 5);1-(4-(3-클로로페닐)피페라진-1일)-4-(3-페닐아이소옥사졸-5-일)부탄-1-온 (화합물번호 6);1-(4-(3-클로로페닐)피페라진-1-일)-3-(3-페닐아이소옥사졸-5-일)프로판-1-온 (화합물번호 7);1-(4-(4-클로로페닐)피페라진-1-일)-4-(3-페닐-1,2,4-옥사다이아졸-5-일)부탄-1-온 (화합물번호 8);1-(4-(4-클로로페닐)피페라진-1-일)-3-(3-페닐-1,2,4-옥사다이아졸-5-일)프로판-1-온 (화합물번호 9);1-(4-(4-클로로페닐)피페라진-1-일)-4-(3-페닐아이소옥사졸-5-일)부탄-1-온 (화합물번호 10);1-(4-(4-클로로페닐)피페라진-1-일)-3-(3-페닐아이소옥사졸-5-일)프로판-1-온 (화합물번호 11);1-(4-(2-클로로페닐)피페라진-1-일)-4-(3-페닐-1,2,4-옥사다이아졸-5-일)부탄-1-온 (화합물번호 12);1-(4-(4-클로로페닐)피페라진-1-일)-3-(3-페닐-1,2,4-옥사다이아졸-5-일)프로판-1-온 (화합물번호 13);1-(4-(2-클로로페닐)피페라진-1-일)-4-(3-페닐아이소옥사졸-5-일)부탄-1-온 (화합물번호 14);1-(4-벤즈하이드릴피페라진-1-일)-4-(3-페닐-1,2,4-옥사다이아졸-5-일)부탄-1-온 (화합물번호 15);1-(4-벤즈하이드릴피페라진-1-일)-4-(3-페닐아이소옥사졸-5-일)부탄-1-온 (화합물번호 16);1-(4-벤즈하이드릴피페라진-1-일)-3-(3-페닐-1,2,4-옥사다이아졸-5-일)프로판-1-온 (화합물번호 17);1-(4-(2-클로로페닐)피페라진-1-일)-3-(3-페닐아이소옥사졸-5-일)프로판-1-온 (화합물번호 18);1-(4-벤즈하이드릴피페라진-1-일)-3-(3-페닐아이소옥사졸-5-일)프로판-1-온 (화합물번호 19);2-((4-페닐-2-프로필옥사졸-5-일)메틸아미노)-1-(4-페닐피페라진-1-일)에탄논 (화합물번호 20);1-(4-벤즈하이드릴피페라진-1-일)-2-((4-페닐-2-프로필옥사졸-5-일)메틸아미노)에탄논(화합물번호 21);1-(4-(비스(4-플루오로페닐)메틸)피페라진-1-일)-2-((4-페닐-2-프로필옥사졸-5-일)메틸아미노)에탄논 (화합물번호 22);2-((4-페닐-5-프로필옥사졸-2-일)메틸아미노)-1-(4-페닐피페라진-1-일)에탄논 (화합물번호 23);2-((5-메틸-4-페닐옥사졸-2-일)메틸아미노)-1-(4-페닐피페라진-1-일)에탄논 (화합물번호 24);1-(4-벤즈하이드릴피페라진-1-일)-2-((4-페닐-5-프로필옥사졸-2-일)메틸아미노)에탄논 (화합물번호 25);1-(4-비스(4-플루오로페닐)메틸)피페라진-1-일)-2-((4-페닐-5-프로필옥사졸-2-일)메틸아미노)에탄논 (화합물번호 26);2-((2-메틸-4-페닐옥사졸-5-일)메틸아미노)-1-(4-페닐피페라진-1-일)에탄논 (화합물번호 27);1-(4-벤즈하이드릴피페라진-1-일)-2-((2-메틸-4-페닐옥사졸-5-일)메틸아미노)에탄논 (화합물번호 28);1-(4-비스(4-플루오로페닐)메틸)피페라진-1-일)-2-((2-메틸-4-페닐옥사졸-5-일)메틸아미노)에탄논 (화합물번호 29);2-((4-페닐-2-프로필옥사졸-5-일)메틸아미노)-1-(4-(3-(트리플루오로메틸)페닐)피페라진-1-일)에탄논 (화합물번호 30);1-(4-(2,4-다이메틸페닐)피페라진-1-일)-2-((4-페닐-5-프로필옥사졸-2-일)메틸아미노)에탄논 (화합물번호 31);1-(4-(2,3-다이메틸페닐)피페라진-1-일)-2-((4-페닐-5-프로필옥사졸-2-일)메틸아미노)에탄논 (화합물번호 32);1-(4-(3,4-다이메틸페닐)피페라진-1-일)-2-((4-페닐-5-프로필옥사졸-2-일)메틸아미노)에탄논 (화합물번호 33);1-(4-(2,4-다이메틸페닐)피페라진-1-일)-2-((5-메틸-4-페닐옥사졸-2-일)메틸아미노)에탄논 (화합물번호 34);2-((2-메틸-4-페닐옥사졸-5-일)메틸아미노)-1-(4-3-(트리플루오로메틸)페닐)피페라진-1-일)에탄논 (화합물번호 35);1-(4-(2,4-다이메틸페닐)피페라진-1-일)-2-((2-메틸-4-페닐옥사졸-5-일)메틸아미노)에탄논 (화합물번호 36);1-(4-(2,3-다이메틸페닐)피페라진-1-일)-2-((2-메틸-4-페닐옥사졸-5-일)메틸아미노)에탄논 (화합물번호 37);1-(4-벤즈하이드릴피페라진-1-일)-2-((5-메틸-4-페닐옥사졸-2-일)메틸아미노)에탄논 (화합물번호 38);1-(4-(2,4-다이메틸페닐)피페라진-1-일)-2-((4-페닐-2-프로필옥사졸-5-일)메틸아미노)에탄논 (화합물번호 39);1-(4-(2,3-다이메틸페닐)피페라진-1-일)-2-((4-페닐-2-프로필옥사졸-5-일)메틸아미노)에탄논 (화합물번호 40);1-(4-(3,4-다이메틸페닐)피페라진-1-일)-2-((4-페닐-2-프로필옥사졸-5-일)메틸아미노)에탄논 (화합물번호 41);2-((4-페닐-2-프로필옥사졸-5-일)메틸아미노)-1-(4-(3-(트리플루오로메틸)페닐)피페라진-1-일)에탄논 (화합물번호 42);1-(4-(3,4-다이에틸페닐)피페라진-1-일)-2-((5-메틸-4-페닐옥사졸-2-일)메틸아미노)에탄논 (화합물번호 43);1-(4-(2,3-다이메틸페닐)피페라진-1-일)-2-((5-메틸-4-페닐옥사졸-2-일)메틸아미노)에탄논 (화합물번호 44);1-(4-(3-클로로페닐)피페라진-1-일)-4-(3-페닐-1,2,4-옥사다이아졸-5-일)부탄-1-온 (화합물번호 45);2-(4-(2,4-다이메틸페닐)피페라진-1-일)-N-((3-아이소프로필아이소옥사졸-5-일)메틸)에탄아민 (화합물번호 46);2-(4-(2,3-다이메틸페닐)피페라진-1-일)-N-((3-아이소프로필아이소옥사졸-5-일)메틸)에탄아민 (화합물번호 47);N-((3-아이소프로필아이소옥사졸-5-일)메틸)-2-(4-(3-(트리플루오로메틸)페닐)피페라진-1-일)에탄아민 (화합물번호 48);1-(4-(3,4-다이메틸페닐)피페라진-1-일)-2-((2-메틸-4-페닐옥사졸-5-일)메틸아미노)에탄논 (화합물번호 49);2-((2-메틸-4-페닐옥사졸-5-일)메틸아미노)-1-(4-(3-(트리플루오로메틸)페닐)피페라진-1-일)에탄논 (화합물번호 50);2-(4-(2,3-다이메틸페닐)피페라진-1-일)-N-((3-메틸아이소옥사졸-5-일)메틸)에탄아민 (화합물번호 51);2-(4-(3,4-다이메틸페닐)피페라진-1-일)-N-((3-메틸아이소옥사졸-5-일)메틸)에탄아민 (화합물번호 52);N-((3-메틸아이소옥사졸-5-일)메틸)-2-(4-(3-(트리플루오로메틸)페닐)피페라진-1-일)에탄아민 (화합물번호 53);N-((5-아이소부틸-4-페닐옥사졸-2-일)메틸)-2-(4-페닐피페라진-1-일)아세타마이드 (화합물번호 54);2-(4-벤즈하이드릴피페라진-1-일)-N-((5-아이소부틸-4-페닐옥사졸-2-일)메틸)아세타마이드 (화합물번호 55);2-(4-(비스(4-플루오로페닐)메틸)피페라진-1-일)-N-((5-아이소부틸-4-페닐옥사졸-2-일)메틸)아세타마이드 (화합물번호 56);2-(4-(비스(4-클로로페닐)메틸)피페라진-1-일)-N-((5-아이소부틸-4-페닐옥사졸-2-일)메틸)아세타마이드 (화합물번호 57);N-((5-아이소부틸-4-페닐옥사졸-2-일)메틸)-2-(4-(3-(트리플루오로메틸)페닐)피페라진-1-일)아세타마이드 (화합물번호 58);2-(4-(2,3-다이메틸페닐)피페라진-1-일)-N-((5-아이소부틸-4-페닐옥사졸-2-일)메틸)아세타마이드 (화합물번호 59);2-(4-(3,4-다이메틸페닐)피페라진-1-일)-N-((5-아이소부틸-4-페닐옥사졸-2-일)메틸)아세타마이드 (화합물번호 60);2-(4-2,4-다이메틸페닐)피페라진-1-일)-N-((5-아이소부틸-4-페닐옥사졸-2-일)메틸)아세타마이드 (화합물번호 61);N-((5-아이소부틸-4-페닐옥사졸-2-일)메틸)-2-((4-페닐설포닐)-1,4-다이아제판-1-일)아세타마이드 (화합물번호 62);2-(4-(4-플루오로페닐설포닐)-1,4-다이아제판-1-일)-N-((5-아이소부틸-4-페닐옥사졸-2-일)메틸)아세타마이드 (화합물번호 63);2-(4-(벤조[d]싸이아졸-2-일메틸)피페라진-1-일)-N-((5-아이소부틸-4-페닐옥사졸-2-일)메틸)아세타마이드 (화합물번호 64);N-((5-아이소부틸-4-페닐옥사졸-2-일)메틸)-2-(4-(3-(트리플루오로메틸)벤조일-1,4-다이아제판-1-일)아세타마이드 (화합물번호 65);2-(4-(4-플루오로벤조일)-1,4-다이아제판-1-일)-N-((5-아이소부틸-4-페닐옥사졸-2-일)메틸)아세타마이드 (화합물번호 66);N-((5-아이소부틸-4-페닐옥사졸-2-일)메틸)-2-(4-(3-(트리플루오로메틸)벤조일)피페라진-1-일)아세타마이드 (화합물번호 67);1-(4-(4--클로로페닐)피페라진-1-일)-2-((4-페닐-5-프로필옥사졸-2-일)메틸아미노)에탄논 (화합물번호 68);1-(4-(2,3-다이클로로페닐)피페라진-1-일)-2-((4-페닐-5-프로필옥사졸-2-일)메틸아미노)에탄논 (화합물번호 69);1-(4-(3,4-다이클로로페닐)피페라진-1-일)-2-((4-페닐-5-프로필옥사졸-2-일)메틸아미노)에탄논 (화합물번호 70) ; 및 약학적으로 허용 가능한 이들의 염으로부터 선택된 것임을 특징으로 하는 화합물
5 5
상기 청구항 1 내지 4항 중에서 선택된 어느 한 항의 화합물이 유효성분으로 포함되어 있는, 간질, 고혈압, 협심증, 만성 통증, 신경성 통증, 및 암으로부터 선택된 질환의 치료 및 예방용 약학 조성물
6 6
하기 화학식 3a로 표시되는 카보클로라이드 화합물과 하기 화학식 2a로 표시되는 헤테로고리 아민화합물을 알킬아민 염기 존재하에서 결합반응시켜, 하기 화학식 1a로 표시되는 알칸논 결합그룹(E)을 갖는 헤테로방향족 화합물을 제조하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 헤테로방향족 화합물의 제조방법 : 상기 반응식에서, X, Y, Z, R1, ℓ, 및 n은 각각 상기 청구항 1에서 정의한 바와 같다
7 7
하기 화학식 3b로 표시되는 알데하이드 화합물과 하기 화학식 2b로 표시되는 아민화합물을 아세트산, 분자체, 및 소듐 트리아세톡시보로하이드라이드 (NaBH(OAc)3)의 존재하에서 결합반응시켜, 하기 화학식 1b로 표시되는 아미노알칸논 결합그룹(E)을 갖는 헤테로방향족 화합물을 제조하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 헤테로방향족 화합물의 제조방법 : 상기 반응식에서, X, Y, Z, R1, ℓ, m, 및 n은 각각 상기 청구항 1에서 정의한 바와 같다
8 8
하기 화학식 3b로 표시되는 알데하이드 화합물과 하기 화학식 2c로 표시되는 아민화합물을 아세트산, 분자체, 및 소듐 트리아세톡시보로하이드라이드 (NaBH(OAc)3)의 존재하에서 결합반응시켜, 하기 화학식 1c로 표시되는 아민 결합그룹(E)을 갖는 헤테로방향족 화합물을 제조하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 헤테로방향족 화합물의 제조방법 : 상기 반응식에서, X, Y, Z, R1, ℓ, m, 및 n은 각각 상기 청구항 1에서 정의한 바와 같다
9 9
하기 화학식 3d로 표시되는 클로라이드 화합물과 하기 화학식 2d로 표시되는 헤테로고리 아민화합물을 알킬아민 염기의 존재하에서 결합반응시켜 하기 화학식 17d로 표시되는 화합물을 제조하는 과정; 및하기 화학식 17d로 표시되는 화합물과 R1 치환기 함유 알데하이드 화합물 또는 클로라이드 화합물과 반응시켜, 하기 화학식 1d로 표시되는 아마이드 결합그룹(E)을 갖는 헤테로방향족 화합물을 제조하는 과정; 을 포함하는 것을 특징으로 하는 헤테로방향족 화합물의 제조방법 : 상기 반응식에서, X, Y, Z, R1, ℓ, m, 및 n은 각각 상기 청구항 1에서 정의한 바와 같다
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.