맞춤기술찾기

이전대상기술

광택특성이 향상된 플라스틱 및 플라스틱 표면의 광택 처리 방법

  • 기술번호 : KST2015123935
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 고분자 재료의 표면에 이온 플라즈마를 조사하여 표면 경화층과 표면 나노 구조를 형성하여 고분자 재료의 표면에서의 굴절률을 변화시킴으로써 표면 광택을 다양화할 수 있는 광택특성이 향상된 플라스틱 및 플라스틱 표면의 광택 처리 방법에 관한 것이다. 본 발명은 아르곤 이온 플라즈마로 폴리프로필렌(PP) 표면을 간단하게 표면처리함으로써 0.1~1,000 나노미터의 두께를 갖는 표면 경화층을 형성하고, 1~1,000나노미터의 폭을 갖는 나노 패턴을 형성하는 방법을 제공하고, 이온 플라즈마 처리에 따른 고분자 재료 표면의 조성변화를 측정 및 표면을 관찰하여 표면 경질화 및 광투과도를 정량적으로 평가함으로써 광택의 다변화에 대한 특성을 평가하였다. 따라서, 본 발명은 광택이 다양화된 고분자 소재를 고분자 소재의 색상 향상에 의한 고급화를 이룰 수 있는 자동차의 내외장재, 핸드폰 및 소형 가전 제품 및 가정용 내외장재 등의 다양한 분야에 적용할 수 있다. 나노 패턴, 플라즈마, 광택, 표면 처리
Int. CL C08J 7/18 (2006.01.01) C08J 3/28 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020090090292 (2009.09.23)
출원인 현대자동차주식회사, 기아자동차주식회사, 한국과학기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2011-0032679 (2011.03.30) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.09.23)
심사청구항수 6

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 현대자동차주식회사 대한민국 서울특별시 서초구
2 기아자동차주식회사 대한민국 서울특별시 서초구
3 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 장용준 대한민국 경기도 성남시 분당구
2 이기춘 대한민국 서울특별시 송파구
3 박상선 대한민국 경기도 안양시 동안구
4 이광렬 대한민국 서울특별시 서초구
5 문명운 대한민국 서울특별시 성북구
6 에스케이, 파루크 아메드 인도 서울특별시 성북구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한라특허법인(유한) 대한민국 서울시 서초구 강남대로 ***(서초동, 남강빌딩 *층)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.09.23 수리 (Accepted) 1-1-2009-0585886-47
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2010-5007856-87
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.01.15 수리 (Accepted) 4-1-2010-5007920-12
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.04.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0200021-14
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2011.06.13 수리 (Accepted) 1-1-2011-0442303-46
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2011.07.13 수리 (Accepted) 1-1-2011-0536348-16
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2011.08.12 수리 (Accepted) 1-1-2011-0623538-14
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.09.14 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0714168-25
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.09.14 수리 (Accepted) 1-1-2011-0714167-80
11 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2012.03.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0178816-66
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.10.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5222831-58
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.01.10 수리 (Accepted) 4-1-2013-0000510-63
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.01.10 수리 (Accepted) 4-1-2013-0000509-16
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
16 대리인선임신고서
Report on Appointment of Agent
2015.12.23 수리 (Accepted) 1-1-2015-5033520-42
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.01.22 수리 (Accepted) 4-1-2016-5009725-79
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.09.18 수리 (Accepted) 4-1-2017-5150878-54
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.09.04 수리 (Accepted) 4-1-2018-5179063-18
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.07.25 수리 (Accepted) 4-1-2019-5148973-60
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.07.26 수리 (Accepted) 4-1-2019-5150191-76
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
고분자 재료(20)의 표면에 이온 플라즈마를 조사하여 나노패턴과 경화층(10)이 형성되어 고광택특성이 구현된 플라스틱
2 2
고분자 재료(20)의 표면에 이온 플라즈마를 조사하여 나노패턴과 경화층(10)을 형성하는 플라스틱 표면의 광택 처리 방법
3 3
청구항 2에 있어서, 상기 이온 플라즈마의 처리시 조사시간, 전압 및 챔버 내 압력 중 적어도 하나를 조절하여 나노 패턴과 경화층(10)의 깊이를 조절하는 것을 특징으로 하는 플라스틱 표면의 광택 처리 방법
4 4
청구항 2에 있어서, 상기 고분자 재료(20)는 PP, Nylon 6, Nylon 66, PC, PI, PS, PE, PMMA, PDMS, PLGA, 히드로겔, PET, 실리콘 고무 중 어느 하나로 이루어진 플라스틱, 또는 PC/ABS, PC/SAN, PC/PBT 중 적어도 하나이상의 혼합물로 이루어진 플라스틱인 것을 특징으로 하는 플라스틱 표면의 광택 처리 방법
5 5
청구항 2에 있어서, 상기 고분자 재료(20)의 표면에 이온 플라즈마 형태로 조사하여 그 표면에 나노 구조 및 경화층(10)이 형성되는 것을 특징으로 하는 플라스틱 표면의 광택 처리 방법
6 6
청구항 2에 있어서, 상기 고분자 재료(20)의 표면에 이온빔 형태로 조사하여 그 표면에 나노 구조 및 경화층(10)이 형성되는 것을 특징으로 하는 플라스틱 표면의 광택 처리 방법
7 7
청구항 2에 있어서, 상기 고분자 재료(20)의 표면에 플라즈마 형태로 조사하여 그 표면에 나노 구조 및 경화층(10)이 형성되는 것을 특징으로 하는 플라스틱 표면의 광택 처리 방법
지정국 정보가 없습니다
순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - 패밀리정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US20110070411 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - DOCDB 패밀리 정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 DE102010027782 DE 독일 DOCDBFAMILY
2 US2011070411 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.