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그리드 구조를 이용한 탄소 섬유 제조용 폴리머 안정화 장치로서,폴리머 안정화 챔버;상기 폴리머 안정화 챔버 내로 폴리머를 투입하는 폴리머 투입구;상기 폴리머 안정화 챔버 외로 폴리머를 배출하는 폴리머 배출구;상기 폴리머 안정화 챔버 내에 배치되고, 상기 폴리머 투입구로부터 폴리머 배출구로 폴리머를 이송하는 이송부;상기 폴리머 안정화 챔버 내에 배치되어 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 방전부; 및상기 플라즈마 방전부에 전력을 인가하는 전력 공급원; 을 포함하되,상기 플라즈마 방전부는 상기 이송부에 인접하게 배치된 그리드 구조의 제 1 전극 및 상기 제 1 전극에 인접하게 배치된 제 2 전극을 포함하며, 상기 제 1 전극의 외부 표면 또는 제 2 전극의 내부 표면에 추가적인 부도체 층이 형성되는 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
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제 1 항에 있어서,상기 폴리머 안정화 챔버에 인접하여 배치되고, 상기 폴리머 안정화 챔버 내의 온도를 제어하는 온도 제어 장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
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제 1 항에 있어서,상기 폴리머 안정화 챔버 내부의 온도는 150 내지 300℃ 인 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
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제 1 항에 있어서,상기 폴리머 안정화 챔버는 헬륨, 아르곤, 산소, 수증기 및 산소를 포함하는 가스로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상의 가스 혼합물이 채워지는 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
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제 1 항에 있어서,상기 플라즈마 방전부에서 제 1 전극과 상기 제 1 전극에 인접하게 배치된 제 2 전극 사이에 스페이서(spacer)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
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그리드 구조를 이용한 탄소 섬유 제조용 폴리머 안정화 장치로서,폴리머 안정화 챔버;상기 폴리머 안정화 챔버 내로 폴리머를 투입하는 폴리머 투입구;상기 폴리머 안정화 챔버 외로 폴리머를 배출하는 폴리머 배출구;상기 폴리머 안정화 챔버 내에 배치되고, 상기 폴리머 투입구로부터 폴리머 배출구로 폴리머를 이송하는 이송부;상기 폴리머 안정화 챔버 내에 배치되어 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 방전부; 및상기 플라즈마 방전부에 전력을 인가하는 전력 공급원; 을 포함하되,상기 플라즈마 방전부는 상기 이송부에 인접하게 배치된 그리드 구조의 제 1 전극 및 상기 제 1 전극에 인접하게 배치된 제 2 전극을 포함하며, 상기 폴리머 안정화 챔버는 격벽으로 분리되는 복수개 이상의 구획으로 나누어지고,상기 복수개 이상의 구획 중 일 구획에서 하나 이상의 플라즈마 방전부가 상기 이송부와 병렬로 배치되는 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
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제 1 항에 있어서,상기 플라즈마 방전부는 상기 이송부를 따라 복수개 이상이 직렬로 배치되는 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
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제 1 항에 있어서,상기 그리드 구조의 제 1 전극은 그물망 형태, 복수의 구멍을 가진 모판 형태, 나선형 안테나 형태 및 일정한 방향으로 배열된 선형으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 하나 이상의 형태인 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
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제 1 항에 있어서,상기 폴리머는 폴리아크릴로니트릴(PAN), 피치(Pitch), 리그닌(lignin), 셀룰로오스(cellulose), 폴리올레핀(polyolefin) 및 아크릴(acrylic)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 폴리머를 포함하는 혼합물인 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
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제 1 항에 있어서,상기 폴리머는 섬유 또는 박막 형태인 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 이송부는 상기 플라즈마 방전부를 복수회 이상 통과하는 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
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제 1 항에 있어서,상기 폴리머 안정화 챔버는 복수개 이상이 직렬로 배치되는 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
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그리드 구조를 이용한 탄소 섬유 제조용 폴리머 안정화 장치로서,폴리머 안정화 챔버;상기 폴리머 안정화 챔버 내로 폴리머를 투입하는 폴리머 투입구;상기 폴리머 안정화 챔버 외로 폴리머를 배출하는 폴리머 배출구;상기 폴리머 안정화 챔버 내에 배치되고, 상기 폴리머 투입구로부터 폴리머 배출구로 폴리머를 이송하는 이송부;상기 폴리머 안정화 챔버 내에 배치되어 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 방전부; 및상기 플라즈마 방전부에 전력을 인가하는 전력 공급원; 을 포함하되,상기 플라즈마 방전부는 상기 이송부에 인접하게 배치된 그리드 구조의 제 1 전극, 상기 제 1 전극에 인접하게 배치된 제 2 전극 및 상기 제 2 전극에 인접하게 배치된 그리드 구조의 제 3 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
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그리드 구조를 이용한 탄소 섬유 제조용 폴리머 안정화 장치로서,폴리머 안정화 챔버;상기 폴리머 안정화 챔버 내로 폴리머를 투입하는 폴리머 투입구;상기 폴리머 안정화 챔버 외로 폴리머를 배출하는 폴리머 배출구;상기 폴리머 안정화 챔버 내에 배치되고, 상기 폴리머 투입구로부터 폴리머 배출구로 폴리머를 이송하는 이송부;상기 폴리머 안정화 챔버 내에 배치되어 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 방전부; 및상기 플라즈마 방전부에 전력을 인가하는 전력 공급원; 을 포함하되,상기 플라즈마 방전부는 상기 이송부에 인접하게 배치된 그리드 구조의 제 1 전극, 상기 제 1 전극에 인접하게 배치된 제 2 전극 및 제 3 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
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