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그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치

  • 기술번호 : KST2015122776
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 그리드(Grid) 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치에 관한 것으로, 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치로서, 폴리머 안정화 챔버; 상기 폴리머 안정화 챔버 내로 폴리머를 투입하는 폴리머 투입구; 상기 폴리머 안정화 챔버 외로 폴리머를 배출하는 폴리머 배출구; 상기 폴리머 안정화 챔버 내에 배치되고, 상기 폴리머 투입구로부터 폴리머 배출구로 폴리머를 이송하는 이송부; 상기 폴리머 안정화 챔버 내에 배치되어 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 방전부; 및 상기 플라즈마 방전부에 전력을 인가하는 전력 공급원; 을 포함하되, 상기 플라즈마 방전부는 상기 이송부에 인접하게 배치된 그리드 구조의 제 1 전극 및 상기 제 1 전극에 인접하게 배치된 제 2 전극을 포함하는 구성을 가짐으로써, 플라즈마를 폴리머 근방에서 방전시켜 안정화 반응을 촉진하되, 플라즈마와 폴리머 사이의 직접적인 접촉을 방지하게 함으로써 폴리머의 손상 또는 변형을 방지하는 효과를 가진다.
Int. CL B01J 19/08 (2006.01) C08J 3/00 (2006.01) C08J 7/18 (2006.01)
CPC B01J 19/081(2013.01) B01J 19/081(2013.01) B01J 19/081(2013.01) B01J 19/081(2013.01)
출원번호/일자 1020130015033 (2013.02.12)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-1480815-0000 (2015.01.05)
공개번호/일자 10-2014-0101636 (2014.08.20) 문서열기
공고번호/일자 (20150113) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.02.12)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이헌수 대한민국 서울 노원구
2 이성호 대한민국 경기 안양시 동안구
3 조성무 대한민국 서울 성북구
4 김소영 대한민국 전북 전주시 완산구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영철 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 **, **층 케이씨엘특허법률사무소 (수송동, 석탄회관빌딩)
2 김 순 영 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 **, **층 케이씨엘특허법률사무소 (수송동, 석탄회관빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.02.12 수리 (Accepted) 1-1-2013-0125936-04
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.12.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.01.09 수리 (Accepted) 9-1-2014-0001155-76
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.06.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0433054-11
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.08.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0797582-07
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.08.22 수리 (Accepted) 1-1-2014-0797583-42
8 등록결정서
Decision to grant
2014.12.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0882778-67
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번호 청구항
1 1
그리드 구조를 이용한 탄소 섬유 제조용 폴리머 안정화 장치로서,폴리머 안정화 챔버;상기 폴리머 안정화 챔버 내로 폴리머를 투입하는 폴리머 투입구;상기 폴리머 안정화 챔버 외로 폴리머를 배출하는 폴리머 배출구;상기 폴리머 안정화 챔버 내에 배치되고, 상기 폴리머 투입구로부터 폴리머 배출구로 폴리머를 이송하는 이송부;상기 폴리머 안정화 챔버 내에 배치되어 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 방전부; 및상기 플라즈마 방전부에 전력을 인가하는 전력 공급원; 을 포함하되,상기 플라즈마 방전부는 상기 이송부에 인접하게 배치된 그리드 구조의 제 1 전극 및 상기 제 1 전극에 인접하게 배치된 제 2 전극을 포함하며, 상기 제 1 전극의 외부 표면 또는 제 2 전극의 내부 표면에 추가적인 부도체 층이 형성되는 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
2 2
제 1 항에 있어서,상기 폴리머 안정화 챔버에 인접하여 배치되고, 상기 폴리머 안정화 챔버 내의 온도를 제어하는 온도 제어 장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
3 3
제 1 항에 있어서,상기 폴리머 안정화 챔버 내부의 온도는 150 내지 300℃ 인 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
4 4
제 1 항에 있어서,상기 폴리머 안정화 챔버는 헬륨, 아르곤, 산소, 수증기 및 산소를 포함하는 가스로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상의 가스 혼합물이 채워지는 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
5 5
제 1 항에 있어서,상기 플라즈마 방전부에서 제 1 전극과 상기 제 1 전극에 인접하게 배치된 제 2 전극 사이에 스페이서(spacer)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
6 6
그리드 구조를 이용한 탄소 섬유 제조용 폴리머 안정화 장치로서,폴리머 안정화 챔버;상기 폴리머 안정화 챔버 내로 폴리머를 투입하는 폴리머 투입구;상기 폴리머 안정화 챔버 외로 폴리머를 배출하는 폴리머 배출구;상기 폴리머 안정화 챔버 내에 배치되고, 상기 폴리머 투입구로부터 폴리머 배출구로 폴리머를 이송하는 이송부;상기 폴리머 안정화 챔버 내에 배치되어 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 방전부; 및상기 플라즈마 방전부에 전력을 인가하는 전력 공급원; 을 포함하되,상기 플라즈마 방전부는 상기 이송부에 인접하게 배치된 그리드 구조의 제 1 전극 및 상기 제 1 전극에 인접하게 배치된 제 2 전극을 포함하며, 상기 폴리머 안정화 챔버는 격벽으로 분리되는 복수개 이상의 구획으로 나누어지고,상기 복수개 이상의 구획 중 일 구획에서 하나 이상의 플라즈마 방전부가 상기 이송부와 병렬로 배치되는 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
7 7
제 1 항에 있어서,상기 플라즈마 방전부는 상기 이송부를 따라 복수개 이상이 직렬로 배치되는 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
8 8
제 1 항에 있어서,상기 그리드 구조의 제 1 전극은 그물망 형태, 복수의 구멍을 가진 모판 형태, 나선형 안테나 형태 및 일정한 방향으로 배열된 선형으로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 하나 이상의 형태인 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
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삭제
10 10
제 1 항에 있어서,상기 폴리머는 폴리아크릴로니트릴(PAN), 피치(Pitch), 리그닌(lignin), 셀룰로오스(cellulose), 폴리올레핀(polyolefin) 및 아크릴(acrylic)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 폴리머를 포함하는 혼합물인 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
11 11
제 1 항에 있어서,상기 폴리머는 섬유 또는 박막 형태인 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
12 12
제 1 항에 있어서, 상기 이송부는 상기 플라즈마 방전부를 복수회 이상 통과하는 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
13 13
제 1 항에 있어서,상기 폴리머 안정화 챔버는 복수개 이상이 직렬로 배치되는 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
14 14
그리드 구조를 이용한 탄소 섬유 제조용 폴리머 안정화 장치로서,폴리머 안정화 챔버;상기 폴리머 안정화 챔버 내로 폴리머를 투입하는 폴리머 투입구;상기 폴리머 안정화 챔버 외로 폴리머를 배출하는 폴리머 배출구;상기 폴리머 안정화 챔버 내에 배치되고, 상기 폴리머 투입구로부터 폴리머 배출구로 폴리머를 이송하는 이송부;상기 폴리머 안정화 챔버 내에 배치되어 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 방전부; 및상기 플라즈마 방전부에 전력을 인가하는 전력 공급원; 을 포함하되,상기 플라즈마 방전부는 상기 이송부에 인접하게 배치된 그리드 구조의 제 1 전극, 상기 제 1 전극에 인접하게 배치된 제 2 전극 및 상기 제 2 전극에 인접하게 배치된 그리드 구조의 제 3 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
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그리드 구조를 이용한 탄소 섬유 제조용 폴리머 안정화 장치로서,폴리머 안정화 챔버;상기 폴리머 안정화 챔버 내로 폴리머를 투입하는 폴리머 투입구;상기 폴리머 안정화 챔버 외로 폴리머를 배출하는 폴리머 배출구;상기 폴리머 안정화 챔버 내에 배치되고, 상기 폴리머 투입구로부터 폴리머 배출구로 폴리머를 이송하는 이송부;상기 폴리머 안정화 챔버 내에 배치되어 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 방전부; 및상기 플라즈마 방전부에 전력을 인가하는 전력 공급원; 을 포함하되,상기 플라즈마 방전부는 상기 이송부에 인접하게 배치된 그리드 구조의 제 1 전극, 상기 제 1 전극에 인접하게 배치된 제 2 전극 및 제 3 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 그리드 구조를 이용한 폴리머 안정화 장치
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삭제
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1 지식경제부 한국산업기술평가원 소재원천기술개발사업 탄소섬유 저가화 기술(2M31330)