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폴리머 안정화 방법 및 장치

  • 기술번호 : KST2015121972
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 폴리머 안정화 방법 및 장치에 관한 것이다. 본 발명에서는 액체 표면 또는 내부에서 폴리머와 반응하는 활성종 물질을 생성하여 이를 액체 내에 함침된 폴리머와 반응시킴으로써 폴리머 구조의 안정화 반응을 일으킨다. 본 발명에 의하면 활성종 물질의 생성을 위한 플라즈마 발생시 이온들의 충돌에 의한 손상 및 국부적으로 급격히 발생하는 반응에 의한 열 손상을 감소시킬 수 있다. 또한 본 발명에서는 액체 내부에서 폴리머의 안정화 반응이 진행되므로 기체 내에서 안정화 반응이 진행될 때에 비해 반응 중 생성되는 가스가 주변의 공기와 거의 섞이지 않은 채 포집될 수 있다. 따라서 유해가스의 처리면에서 유리한 효과가 있다.
Int. CL B01J 19/08 (2006.01) C08J 3/28 (2006.01) H05H 1/00 (2006.01) C08J 7/18 (2006.01)
CPC B01J 19/088(2013.01) B01J 19/088(2013.01) B01J 19/088(2013.01)
출원번호/일자 1020110130961 (2011.12.08)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-1334297-0000 (2013.11.22)
공개번호/일자 10-2013-0064377 (2013.06.18) 문서열기
공고번호/일자 (20131129) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.12.08)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이헌수 대한민국 서울특별시 노원구
2 이성호 대한민국 전라북도 완주군

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 정태훈 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 ***, A동 ****호(문정동, 엠스테이트)(특허법인 티앤아이)
2 진수정 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 ***, A동 ****호(문정동, 엠스테이트)(특허법인 티앤아이)
3 배성호 대한민국 경상북도 경산시 박물관로*길**, ***호(사동, 태화타워팰리스)(특허법인 티앤아이(경상북도분사무소))
4 오용수 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 ***, A동 ****호(문정동, 엠스테이트)(특허법인 티앤아이)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.12.08 수리 (Accepted) 1-1-2011-0975703-52
2 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.04.06 불수리 (Non-acceptance) 1-1-2012-0274927-19
3 서류반려이유통지서
Notice of Reason for Return of Document
2012.04.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2012-0046287-42
4 서류반려통지서
Notice for Return of Document
2012.05.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2012-0063116-08
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.09.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.10.24 수리 (Accepted) 9-1-2012-0079315-66
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.05.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0337884-25
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.07.11 수리 (Accepted) 1-1-2013-0625868-81
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.07.11 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0625870-73
10 등록결정서
Decision to grant
2013.11.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0801602-85
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
액체 내에 폴리머를 함침시키고, 상기 액체 표면과 근접한 위치 또는 액체 내부에서 플라즈마를 방전함으로써 활성종 물질이 액체 내에서 생성되거나 기체 상에서 만들어져 액체 내부로 확산되며, 액체 내부에서 상기 활성종 물질에 의해 폴리머 구조의 안정화 반응이 일어나고, 상기 안정화 반응에 따라 생성되는 폐가스를 공기와 분리하여 포집하는 것을 특징으로 하는 폴리머 안정화 방법
2 2
제1항에서,상기 활성종 물질은 O, O3, OH, NxOy 또는 그 이온인 것을 특징으로 하는 폴리머 안정화 방법
3 3
제1항에서, 상기 폴리머는 섬유 형태인 것을 특징으로 하는 폴리머 안정화 방법
4 4
제1항에서,상기 액체를 끓는점 이하의 온도로 가열하는 것을 특징으로 하는 폴리머 안정화 방법
5 5
제1항에서,상기 액체의 끓는점을 증가시켜, 상압에서의 액체의 끓는점 이상에서 공정을 진행하는 것을 특징으로 하는 폴리머 안정화 방법
6 6
제1항에서,상기 폴리머 구조의 안정화 반응을 연속하여 병렬적으로 일어나게 하는 것을 특징으로 하는 폴리머 안정화 방법
7 7
삭제
8 8
폴리머가 함침된 액체를 포함하는 반응 챔버, 상기 액체의 근방에 위치하거나 상기 액체에 전부 또는 일부가 함침된 플라즈마 발생기, 상기 플라즈마 발생기와 연결되어 액체 표면 또는 내부에서 플라즈마를 발생시키는 전원, 상기 폴리머의 안정화 과정에서 발생하는 폐가스를 공기와 분리하여 포집하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리머 안정화 장치
9 9
제8항에서,상기 반응 챔버는 복수 개가 병렬적으로 연결된 것을 특징으로 하는 폴리머 안정화 장치
10 10
제8항에서,상기 반응 챔버에는 액체에 흐름을 주는 수단이 구비된 것을 특징으로 하는 폴리머 안정화 장치
11 11
제8항에서,상기 반응 챔버에는 액체를 가압하는 수단이 구비된 것을 특징으로 하는 폴리머 안정화 장치
12 12
제8항에서,상기 폴리머는 반응 챔버 내부의 액체에 함침되어 있는 것을 특징으로 하는 폴리머 안정화 장치
13 13
제8항에서,상기 반응 챔버 내부는 제한된 영역에서 액체의 대류현상이 일어나는 것을 특징으로 하는 폴리머 안정화 장치
14 14
제8항에서,상기 액체는 반응 챔버 내부에서 가열되거나 또는 반응 챔버 외부에서 가열되어 반응 챔버로 공급되는 것을 특징으로 하는 폴리머 안정화 장치
15 15
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.