요약 | 롤투롤 패턴 형성 장치는 기판을 일 방향으로 이송하며, 상호 이격된 복수의 롤부, 상기 복수의 롤부 중 이웃하는 롤부 사이에서 상기 기판 상에 위치하며, 상기 기판에 패턴을 형성하는 패턴 형성부, 상기 기판을 사이에 두고 상기 패턴 형성부와 대응하고 있으며, 상기 기판을 흡착하는 흡착부, 및 상기 패턴 형성부와 이웃하며, 상기 패턴에 광을 조사하는 광 조사부 및 상기 기판에 상기 패턴이 형성되고, 상기 패턴에 광이 조사되도록 상기 롤부, 상기 패턴 형성부, 상기 흡착부 및 상기 광 조사부를 제어하는 제어부를 포함한다. |
---|---|
Int. CL | H01L 21/027 (2006.01) |
CPC | H01L 21/0273(2013.01) H01L 21/0273(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020120084553 (2012.08.01) |
출원인 | 한국과학기술연구원 |
등록번호/일자 | 10-1343010-0000 (2013.12.12) |
공개번호/일자 | |
공고번호/일자 | (20131218) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 등록 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2012.08.01) |
심사청구항수 | 18 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국과학기술연구원 | 대한민국 | 서울특별시 성북구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 임정아 | 대한민국 | 경기 고양시 일산서구 |
2 | 송용원 | 대한민국 | 대전 중구 |
3 | 홍재민 | 대한민국 | 서울 성북구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 유미특허법인 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 서림빌딩 **층 (역삼동) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국과학기술연구원 | 서울특별시 성북구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2012.08.01 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0617712-01 |
2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2013.03.13 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2013.04.09 | 수리 (Accepted) | 9-1-2013-0024869-05 |
4 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2013.05.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0376527-00 |
5 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2013.07.25 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2013-0674841-97 |
6 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2013.07.25 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0674838-59 |
7 | 등록결정서 Decision to grant |
2013.11.29 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0833979-65 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.02.19 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5022002-69 |
번호 | 청구항 |
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1 |
1 기판을 일 방향으로 이송하며, 상호 이격된 복수의 롤부;상기 복수의 롤부 중 이웃하는 롤부 사이에서 상기 기판 상에 위치하며, 상기 기판에 패턴을 형성하는 패턴 형성부;상기 기판을 사이에 두고 상기 패턴 형성부와 대응하고 있으며, 상기 기판을 흡착하는 흡착부; 및상기 패턴 형성부와 이웃하며, 상기 패턴에 광을 조사하는 광 조사부; 및상기 기판에 상기 패턴이 형성되고, 상기 패턴에 광이 조사되도록 상기 롤부, 상기 패턴 형성부, 상기 흡착부 및 상기 광 조사부를 제어하는 제어부를 포함하며,상기 기판은 플렉서블(flexible)하며,상기 롤부는,상기 기판 상에 위치하고, 상기 기판의 일 부분을 지지하며 회전하는 제1 서브롤; 및상기 기판을 사이에 두고 상기 제1 서브롤과 대응하며, 상기 기판의 타 부분을 지지하며 회전하는 제2 서브롤을 포함하며,상기 제어부는 상기 제1 서브롤과 상기 제2 서브롤 사이의 간격을 조절하는 롤투롤 패턴 형성 장치 |
2 |
2 삭제 |
3 |
3 제1항에서,상기 제어부는 상기 기판의 판면과 나란한 제1 방향, 상기 기판의 판면과 나란하며 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향, 및 상기 제2 방향과 교차하며 상기 기판의 판면과 수직인 제3 방향 각각으로 상기 패턴 형성부를 구동하는 롤투롤 패턴 형성 장치 |
4 |
4 제1항에서,상기 흡착부는 공기를 흡입하는 하나 이상의 제1 흡입구를 포함하는 롤투롤 패턴 형성 장치 |
5 |
5 제1항에서,상기 광 조사부가 조사하는 상기 광은 백색 펄스광(pulsed light)인 패턴 형성 장치 |
6 |
6 제1항에서,상기 흡착부와 이웃하여 상기 기판을 사이에 두고 상기 광 조사부와 대응하고 있으며, 상기 기판을 평탄화하는 평탄화부를 더 포함하는 패턴 형성 장치 |
7 |
7 제6항에서,상기 평탄화부는 공기를 흡입하는 하나 이상의 제2 흡입구를 포함하는 롤투롤 패턴 형성 장치 |
8 |
8 제6항에서,상기 흡착부와 상기 기판 사이에 형성되는 압력은 상기 평탄화부와 상기 기판 사이에 형성되는 압력 대비 큰 롤투롤 패턴 형성 장치 |
9 |
9 제8항에서,상기 흡착부와 상기 기판 사이에 형성되는 압력은 0 |
10 |
10 제1항, 제3항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 롤투롤 패턴 형성 장치를 제공하는 단계;상기 상호 이격된 복수의 롤부에 기판을 지지시키는 단계;상기 복수의 롤부를 회전시켜 상기 기판의 일 영역을 상기 패턴 형성부에 대응시키는 단계;상기 패턴 형성부를 이용하여 상기 기판의 일 영역에 패턴을 형성하는 단계;상기 복수의 롤부를 회전시켜 상기 기판의 일 영역을 상기 광 조사부에 대응시키는 단계; 및상기 광 조사부를 이용하여 상기 패턴에 광을 조사하여 상기 패턴을 소성 또는 소결하는 단계를 포함하며,상기 기판은 플렉서블한 롤투롤 패턴 형성 방법 |
11 |
11 삭제 |
12 |
12 제10항에서,상기 광은 백색 펄스광인 롤투롤 패턴 형성 방법 |
13 |
13 제12항에서,상기 백색 펄스광의 펄스 에너지는 0 |
14 |
14 제12항에서,상기 백색 펄스광의 조사 시간은 0 |
15 |
15 제12항에서,상기 백색 펄스광의 펄스 횟수는 1 내지 99회인 롤투롤 패턴 형성 방법 |
16 |
16 제10항에서,상기 패턴 형성부를 이용하여 상기 기판의 일 영역에 패턴을 형성하는 단계는 상기 흡착부에 상기 기판의 일 영역을 흡착시키고 수행하는 롤투롤 패턴 형성 방법 |
17 |
17 제16항에서,상기 흡착부와 상기 기판의 일 영역 사이의 압력은 0 |
18 |
18 제10항에서,상기 복수의 롤부를 회전시켜 상기 기판의 일 영역을 상기 광 조사부에 대응시키는 단계는 상기 흡착부에 흡착된 상기 기판의 일 영역을 흡착 해제시키고 수행하는 롤투롤 패턴 형성 방법 |
19 |
19 제6항에 따른 롤투롤 패턴 형성 장치를 제공하는 단계;상기 상호 이격된 복수의 롤부에 기판을 지지시키는 단계;상기 복수의 롤부를 회전시켜 상기 기판의 일 영역을 상기 패턴 형성부에 대응시키는 단계;상기 흡착부에 상기 기판의 일 영역을 흡착시키고 상기 패턴 형성부를 이용하여 상기 기판의 일 영역에 패턴을 형성하는 단계;상기 복수의 롤부를 회전시켜 상기 기판의 일 영역을 상기 광 조사부에 대응시키는 단계; 및상기 평탄화부에 상기 기판의 일 영역을 평탄화시키고 상기 광 조사부를 이용하여 상기 패턴에 광을 조사하여 상기 패턴을 소성 또는 소결하는 단계를 포함하는 롤투롤 패턴 형성 방법 |
20 |
20 제19항에서,상기 평탄화부와 상기 기판의 일 영역 사이의 압력은 0 |
지정국 정보가 없습니다 |
---|
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | US09248471 | US | 미국 | FAMILY |
2 | US20140037863 | US | 미국 | FAMILY |
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | US2014037863 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
2 | US9248471 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
---|---|---|---|---|
1 | 지식경제부 | 한국기계연구원 | 지식경제부기타 | 나노잉크를 이용한 박막형 슈퍼캐패시터 연속 생산공정 및 시스템 개발(2M29410) |
공개전문 정보가 없습니다 |
---|
특허 등록번호 | 10-1343010-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20120801 출원 번호 : 1020120084553 공고 연월일 : 20131218 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20131129 청구범위의 항수 : 18 유별 : H01L 21/027 발명의 명칭 : 롤투롤 패턴 형성 장치 및 롤투롤 패턴 형성 방법 존속기간(예정)만료일 : |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 한국과학기술연구원 서울특별시 성북구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 373,500 원 | 2013년 12월 12일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 305,200 원 | 2016년 12월 01일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 305,200 원 | 2017년 12월 01일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 218,000 원 | 2018년 12월 03일 | 납입 |
제 7 년분 | 금 액 | 392,000 원 | 2019년 12월 03일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2012.08.01 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0617712-01 |
2 | 선행기술조사의뢰서 | 2013.03.13 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 | 2013.04.09 | 수리 (Accepted) | 9-1-2013-0024869-05 |
4 | 의견제출통지서 | 2013.05.30 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0376527-00 |
5 | [명세서등 보정]보정서 | 2013.07.25 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2013-0674841-97 |
6 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2013.07.25 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0674838-59 |
7 | 등록결정서 | 2013.11.29 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2013-0833979-65 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.02.19 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5022002-69 |
기술정보가 없습니다 |
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과제고유번호 | 1345197055 |
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세부과제번호 | 2E2273 |
연구과제명 | 차세대 신개념 전자소자 기술 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 기초기술연구회 |
연구주관기관명 | 한국과학기술연구원 |
성과제출연도 | 2012 |
연구기간 | 201101~201312 |
기여율 | 0.5 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
과제고유번호 | 1415110582 |
---|---|
세부과제번호 | B551179-10-01-00 |
연구과제명 | 나노잉크를 이용한 박막형 슈퍼캐패시터 연속 생산공정 및 시스템 개발 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 산업기술연구회 |
연구주관기관명 | 한국기계연구원 |
성과제출연도 | 2010 |
연구기간 | 201007~201306 |
기여율 | 0.5 |
연구개발단계명 | 개발연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
과제고유번호 | 1711006028 |
---|---|
세부과제번호 | B551179-10-01-00 |
연구과제명 | 나노잉크를 이용한 박막형 슈퍼캐패시터 연속 생산공정 및 시스템 개발 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 미래창조과학부 |
연구관리전문기관명 | |
연구주관기관명 | |
성과제출연도 | 2013 |
연구기간 | 201007~201506 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 개발연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
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