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표면에 고종횡비 나노 구조들을 포함하는 부직포 및 상기 나노 구조 상에 형성된 소수성 박막을 포함하는 고분자 표면체를 포함하고,상기 나노 구조는, 폭이 10 내지 30 ㎚이고, 길이가 500 내지 1000 ㎚인 것이며, 상기 고분자 표면체는 순수에 대한 접촉각이 150도 이상, 접촉각 이력이 10도 미만이고, 헥산에 대한 접촉각이 20도 미만으로 초소수성 및 친유성을 함께 가지는 것인, 유수분리용 소재
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제1항에 있어서, 상기 고분자 표면체에 포함되는 부직포의 재질은 PET, PP, PTFE 및 PVDF로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나인 것인 유수분리용 소재
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제1항에 있어서, 상기 소수성 박막은 불소 박막, 불소 함유 탄소 박막 및 유기 수소화 규소 박막 중 어느 하나의 소수성 박막인 것인 유수분리용 소재
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제1항에 있어서,상기 소수성 박막은 HMDSO(Hexamethyldisiloxane)를 포함하는 것인, 유수분리용 소재
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-100 Vb 내지 -1000 Vb의 전압 범위에서 수행하는 플라즈마 처리 또는 이온빔 처리로써 부직포의 표면에 고종횡비 나노 구조를 형성하는 단계; 및상기 나노 구조가 형성된 부직포 표면에 소수성 박막을 형성하여 고분자 표면체를 제조하는 단계;를 포함하고,상기 나노 구조는, 폭이 10 내지 30 nm이고, 길이가 500 내지 1000 nm인 것이며,상기 고분자 표면체는 순수에 대한 접촉각이 150도 이상, 접촉각 이력이 10도 미만이고, 헥산에 대한 접촉각이 20도 미만으로 초소수성 및 친유성을 함께 가지는 것인, 유수분리용 소재의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 고분자 표면체에 포함되는 부직포의 재질은 PET, PP, PTFE 및 PVDF로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나인 것인, 유수분리용 소재의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 소수성 박막은 불소 박막, 불소 함유 탄소 박막 및 유기 수소화 규소 박막 중 어느 하나의 소수성 박막인 것인, 유수분리용 소재의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 소수성 박막은 HMDSO(Hexamethyldisiloxane)를 포함하는 것인, 유수분리용 소재의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 플라즈마 처리는 O2, CH4 및 Ar으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나의 가스를 이용하는 것인, 유수분리용 소재의 제조방법
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