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(a) 적어도 한 면이 오픈된 성형틀을 마련하는 단계;
(b) 상기 성형틀 내부에 젤 타입의 전도성 물질을 채우되, 상기 젤 타입의 전도성 물질이 오픈된 면의 표면까지 채워지도록 하는 단계;
(c) 상기 성형틀의 상기 오픈된 면에 탄소나노튜브를 접촉시켜 상기 탄소나노튜브의 선단이 상기 젤 타입의 전도성 물질에 매립되도록 하는 단계; 및
(d) 상기 성형틀을 제거하는 단계를 포함하는 전계전자방출원 제조방법
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제 1 항에 있어서,
상기 성형틀은 유리 또는 금속으로 형성된 튜브를 사용하는 것을 특징으로 하는 전계전자방출원 제조방법
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제 1 항에 있어서,
상기 젤 타입의 전도성 물질은 그라파이트 접착제(Graphite Adhesive) 조성물로 이루어지는 물질 또는 전도성 고분자 물질을 사용하는 것을 특징으로 하는 전계전자방출원 제조방법
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4
제 3 항에 있어서,
상기 그라파이트 접착제(Graphite Adhesive) 조성물은 그라파이트, 바인더 및 유기 용제로 이루어지는 것을 특징으로 하는 전계전자방출원 제조방법
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제 3 항에 있어서,
상기 전도성 고분자 물질은 폴리아세틸렌(Polyacetylene), 폴리아닐린(Polyaniline), 폴리피롤(Polypyrrole), 폴리티오펜(Polythiophene) 및 폴리설퍼니트리드(Poly Sulfur Nitride) 중 선택된 하나 이상의 물질이 사용되는 것을 특징으로 하는 전계전자방출원 제조방법
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6 |
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제 3 항에 있어서,
상기 전도성 고분자 물질은 그라파이트(Graphite) 또는 탄소나노입자로 이루어지는 도전성 필러(Filler)를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계전자방출원 제조방법
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제 1 항에 있어서,
상기 탄소나노튜브는 다중벽 탄소나노튜브(Multi-Wall Carbon NanoTube; MWCNT), 단일벽 탄소나노튜브(Single-Walled Carbon Nanotube, SWCNT) 및 이중벽 탄소나노튜브(Double-Walled Carbon Nanotube, DWCNT) 중 하나 이상 사용하는 것을 특징으로 하는 전계전자방출원 제조방법
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8
제 1 항에 있어서,
상기 탄소나노튜브는 수직정렬된 타입, 경사정렬된 타입 및 파우더 타입 중 선택된 하나 이상 사용하는 것을 특징으로 하는 전계전자방출원 제조방법
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제 1 항에 있어서,
상기 (c) 단계 및 상기 (d) 단계 사이에, 상기 젤 타입의 전도성 물질을 소성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전계전자방출원 제조방법
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10 |
10
제 1 항에 있어서,
상기 (d) 단계 이후에 상기 탄소나노튜브의 선단이 매립된 상기 젤 타입의 전도성 물질 부분을 플라즈마 처리, 테이핑 처리 및 레이저 처리 중 하나 이상의 방법으로 표면 처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전계전자방출원 제조방법
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11
제 1 항 내지 제 10 항 중 선택된 어느 한 항의 방법으로 제조된 전계전자방출원
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12
제 11 항의 전계전자방출원을 포함하는 것을 특징으로 하는 전계전자방출 소자
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