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유기실란 전구체 및 산소를 이용하여 기재 상에 SiOx 박막을 PECVD에 의해 형성하는 단계;유기실란 전구체를 이용하여 상기 SiOx 박막 상에 소수성 1 차 박막을 PECVD에 의해 형성하는 단계; 및,불화탄소계 가스 전구체를 이용하여 상기 1 차 박막 상에 소유성 2 차 박막을 PECVD에 의해 형성하는 단계를 포함하는,내마모성, 소수성 및 소유성을 갖는 코팅막의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 SiOx 박막을 형성한 후, 플라즈마 처리하는 것을 추가 수행하는 것인, 내마모성, 소수성 및 소유성을 갖는 코팅막의 제조 방법
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제 2 항에 있어서,상기 SiOx 박막을 플라즈마 처리하는 것은 O2 플라즈마 또는 Ar 플라즈마에 의해 수행되는 것인, 내마모성, 소수성 및 소유성을 갖는 코팅막의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 유기실란 전구체는 SixCyHz (x는 1 내지 4이고, y는 3 내지 8이며, 및 z는 10 내지 24임)를 포함하는 것인, 내마모성, 소수성 및 소유성을 갖는 코팅막의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 불화탄소계 가스 전구체는 CxFy (x는 1 내지 3, y는 4 내지 8임)를 포함하는 것인, 내마모성, 소수성 및 소유성을 갖는 코팅막의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 1 차 박막은 5 MHz 내지 30 MHz의 RF 파워를 이용한 PECVD에 의해 형성되는 것인, 내마모성, 소수성 및 소유성을 갖는 코팅막의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 2 차 박막은 10 kHz 내지 300 kHz의 MF 파워를 이용한 PECVD에 의해 형성되는 것인, 내마모성, 소수성 및 소유성을 갖는 코팅막의 제조 방법
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제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의해 제조되고, 내마모성, 소수성 및 소유성을 가지는, 코팅막
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제 8 항에 있어서,물 접촉각이 110° 이상이고, 기름 접촉각은 80° 이상이며, 연필경도는 7 H 이상인 것인, 코팅막
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