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MgO 층이 삽입된 산화아연 나노구조체 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015143587
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 MgO 층이 삽입된 산화아연 나노구조체의 제조방법은 기판 상에 마그네슘(Mg)을 함유하는 전구체 및 산소가 공급되는 S1 단계; 기판 상에 비정질의 마그네슘 산화막 층(MgO 층)이 성장되는 S2 단계; 마그네슘(Mg)을 함유하는 전구체의 공급을 중단하고 아연(Zn)을 함유하는 전구체 및 산소가 공급되는 S3 단계; 및 마그네슘 산화막 층 상에 산화아연(ZnO) 나노선이 성장하는 S4 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따른 MgO 층이 삽입된 산화아연 나노구조체의 제조방법은 기판 상에 비정질의 MgO 층을 성장시켜 박막을 형성하는 효과를 제공하고, 기판 상에 성장시킨 비정질의 MgO 층 상에 산화아연 나노선을 균일하고 고밀도의 수직 나노선으로 성장시키는 효과를 제공하며, 이에 의하여 궁극적으로 기판과 고밀도의 나노선 사이에 비정질의 MgO 층이 삽입된 기판-MgO 박막-ZnO 나노선의 구조를 가진 나노구조체를 제공하는 효과가 있다.
Int. CL B82Y 40/00 (2011.01) B82B 3/00 (2006.01) C23C 16/44 (2006.01)
CPC B82B 3/0038(2013.01) B82B 3/0038(2013.01) B82B 3/0038(2013.01) B82B 3/0038(2013.01)
출원번호/일자 1020110026546 (2011.03.24)
출원인 성균관대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2012-0098360 (2012.09.05) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020110017557   |   2011.02.28
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.03.24)
심사청구항수 17

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조형균 대한민국 경기도 수원시 장안구
2 김동찬 대한민국 부산광역시 사하구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김인철 대한민국 서울특별시 서초구 반포대로**길 **, 매강빌딩*층 에이치앤에이치 H&H 국제특허법률사무소 (서초동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.03.24 수리 (Accepted) 1-1-2011-0217411-57
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2011.11.01 불수리 (Non-acceptance) 1-1-2011-0858052-71
3 서류반려이유통지서
Notice of Reason for Return of Document
2011.11.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2011-0103350-68
4 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2011.11.30 수리 (Accepted) 1-1-2011-0951533-35
5 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2011.11.30 수리 (Accepted) 1-1-2011-0951605-24
6 서류반려통지서
Notice for Return of Document
2011.12.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2011-0115900-06
7 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.04.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090770-53
9 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.05.23 수리 (Accepted) 9-1-2012-0039856-17
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.06.20 수리 (Accepted) 4-1-2012-5131828-19
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.06.27 수리 (Accepted) 4-1-2012-5137236-29
12 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.02.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0135691-38
13 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2013.05.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0377945-49
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.02.23 수리 (Accepted) 4-1-2017-5028829-43
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판 상에 마그네슘(Mg)을 함유하는 전구체 및 산소가 공급되는 S1 단계;기판 상에 비정질의 마그네슘 산화막 층(MgO 층)이 성장되는 S2 단계;마그네슘(Mg)을 함유하는 전구체의 공급을 중단하고 아연(Zn)을 함유하는 전구체 및 산소가 공급되는 S3 단계; 및마그네슘 산화막 층 상에 산화아연(ZnO) 나노선이 성장하는 S4 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 MgO 층이 삽입된 산화아연 나노구조체의 제조방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 S1 및 S2 단계를 거쳐 성장되는 MgO 층의 두께가 5 내지 20 nm인 것을 특징으로 하는 MgO 층이 삽입된 산화아연 나노구조체의 제조방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 S1 및 S2 단계에서 마그네슘(Mg)을 함유하는 전구체가 1 내지 5 μmol/min의 유량으로 20 내지 30분간 공급되는 것을 특징으로 하는 MgO 층이 삽입된 산화아연 나노구조체의 제조방법
4 4
제1항에 있어서,상기 S1 내지 S4 단계가 500 내지 600℃의 온도에서 1 torr 미만의 압력으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 MgO 층이 삽입된 산화아연 나노구조체의 제조방법
5 5
제1항에 있어서, 기판 상에 공급되는 마그네슘(Mg)과 산소의 유량비는 1 : 800 내지 1 : 1,440이고 아연(Zn)과 산소의 유량비는 1 : 180 내지 1 : 200인 것을 특징으로 하는 MgO 층이 삽입된 산화아연 나노구조체의 제조방법
6 6
제1항에 있어서,상기 마그네슘(Mg)을 함유하는 전구체는 비스-사이클로펜타디닐마그네슘(Cp2Mg), 이오딘화메틸마그네슘(MeMgI) 및 디메틸마그네슘(Et2Mg)으로 이루어진 일군으로부터 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 MgO 층이 삽입된 산화아연 나노구조체의 제조방법
7 7
제1항에 있어서,상기 아연(Zn)을 함유한 전구체는 디메틸아연[Zn(CH3)2], 디에틸아연[Zn(C2H5)2], 아연아세테이트[Zn(OOCCH3)2H2O], 아연아세테이트 무수물[Zn(OOCCH3)2] 및 아연 아세틸아세토네이트[Zn(C5H7O2)2]으로 이루어진 일군으로부터 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 MgO 층이 삽입된 산화아연 나노구조체의 제조방법
8 8
제1항에 있어서,상기 마그네슘(Mg)을 함유한 전구체 및 상기 아연(Zn)을 함유하는 전구체는 불활성 기체로 이루어진 캐리어 가스에 의해 공급되는 것을 특징으로 하는 MgO 층이 삽입된 산화아연 나노구조체의 제조방법
9 9
제8항에 있어서,상기 캐리어 가스는 500 내지 600℃의 온도에서 1 torr 미만의 압력으로 공급되는 것을 특징으로 하는 MgO 층이 삽입된 산화아연 나노구조체의 제조방법
10 10
제1항에 있어서,상기 산소는 산소함유 가스에 의해 공급되며, 상기 산소함유 가스는 산소, 오존, 이산화질소, 수증기 및 이산화탄소로 이루어진 일군으로부터 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 MgO 층이 삽입된 산화아연 나노구조체의 제조방법
11 11
제10항에 있어서,상기 산소함유 가스는 500 내지 600℃의 온도에서 1 torr 미만의 압력으로 공급되는 것을 특징으로 하는 MgO 층이 삽입된 산화아연 나노구조체의 제조방법
12 12
제1항에 있어서,상기 S4 단계에서 성장되는 ZnO 나노선은 MgO 층 상에 수직되는 방위로 성장되어 형성되는 것을 특징으로 하는 MgO 층이 삽입된 산화아연 나노구조체의 제조방법
13 13
제1항에 있어서,상기 S4 단계에서 성장되는 ZnO 나노선은 직경이 15~25nm인 것을 특징으로 하는 MgO 층이 삽입된 산화아연 나노구조체의 제조방법
14 14
제1항에 있어서,상기 MgO 층 및 ZnO 나노선의 성장은 유기금속 화학기상증착법, 기상 에피택시 및 분자빔 에피택시로 이루어진 일군으로부터 선택된 어느 하나로 수행되는 것을 특징으로 하는 MgO 층이 삽입된 산화아연 나노구조체의 제조방법
15 15
제1항에 있어서,상기 기판은 실리콘 기판 또는 GsAs 기판인 것을 특징으로 하는 MgO 층이 삽입된 산화아연 나노구조체의 제조방법
16 16
제1항에 있어서,상기 ZnO 나노선은 우르짜이트(wurtzite) 결정 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 MgO 층이 삽입된 산화아연 나노구조체의 제조방법
17 17
제1항 내지 제16항 중 어느 하나의 제조방법에 의하여 제조되는 것을 특징으로 하는 MgO 층이 삽입된 산화아연 나노구조체
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 성균관대학교 원천기술개발사업-미래유망융합기술파이오니어사업 고효율 와이어 태양전지 제작을 위한 신공정 연구
2 교육과학기술부 성균관대학교 중견연구자지원사업(핵심연구:개인) 친환경 열전소자 응용을 위한 다성분계 신산화물 열전소재 개발 연구