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고분자 나노 입자를 이용한 나노 구조체의 밀도 제어 방법

  • 기술번호 : KST2015145789
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 수직 성장하는 ZnO 나노 구조체를 액상으로 성장시키기 위해, 씨드(seed) 층을 형성할 때 사용하는 전구체 용액에 고분자 입자를 혼합함으로써, 생성되는 나노 구조체의 밀도를 제어하는 방법에 관한 것이다.본 발명에 따르는 고분자 나노 입자를 이용한 나노 구조체의 밀도는,아연 전구체 용액에 고분자 입자를 첨가하여 혼합하는 단계;상기 고분자 입자가 혼합된 아연 전구체 용액을 기판상에 도포하고, 안정화하는 단계;상기 기판을 열처리하여 고분자 입자를 제거하여 씨드 층을 형성하는 단계;상기 씨드 층 상에 나노 와이어 구조체를 성장시키는 단계에 의해 제어되는 것을 구성적 특징으로 한다.
Int. CL B82Y 40/00 (2011.01) B82B 3/00 (2006.01)
CPC C08J 5/005(2013.01) C08J 5/005(2013.01) C08J 5/005(2013.01) C08J 5/005(2013.01)
출원번호/일자 1020100132342 (2010.12.22)
출원인 전자부품연구원
등록번호/일자 10-1291061-0000 (2013.07.24)
공개번호/일자 10-2012-0070848 (2012.07.02) 문서열기
공고번호/일자 (20130801) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.12.22)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이경일 대한민국 경기도 과천시
2 조진우 대한민국 경기도 성남시 분당구
3 김성현 대한민국 경기도 용인시 수지구
4 김선민 대한민국 서울특별시 성동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 홍순우 대한민국 서울특별시 서초구 서초중앙로 **, 영진벤처빌딩 *층 (서초동)(라온국제특허법률사무소)
2 김해중 대한민국 서울특별시 서초구 서초중앙로 **, 영진벤처빌딩 *층 라온국제특허법률사무소 (서초동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 전자부품연구원 경기도 성남시 분당구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.12.22 수리 (Accepted) 1-1-2010-0847802-15
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2011.01.03 수리 (Accepted) 1-1-2011-0002290-32
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.10.17 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.11.22 수리 (Accepted) 9-1-2012-0087771-05
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.01.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0046469-43
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.03.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0249006-32
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.03.22 수리 (Accepted) 1-1-2013-0248996-28
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.17 수리 (Accepted) 4-1-2013-0013766-37
9 등록결정서
Decision to grant
2013.07.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0502711-73
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
아연 전구체 용액에 고분자 입자를 첨가하여 혼합하는 단계;상기 고분자 입자가 혼합된 아연 전구체 용액을 기판상에 도포하고, 안정화하는 단계;상기 기판을 열처리하여 고분자 입자를 제거하여 씨드 층을 형성하는 단계;상기 씨드 층 상에 나노 와이어 구조체를 성장시키는 단계를 포함하고,상기 씨드 층의 각각의 씨드 사이의 간격은 상기 고분자 입자의 크기에 따라 조절되는 것을 특징으로 하는고분자 나노 입자를 이용한 나노 구조체의 밀도 제어 방법
2 2
제 1 항에 있어서,상기 고분자 입자는 친수성 중합체인 것을 특징으로 하는고분자 나노 입자를 이용한 나노 구조체의 밀도 제어 방법
3 3
제 1 항에 있어서,상기 고분자 입자는 상기 아연 전구체 용액에 첨가되기 전에 표면처리되는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는고분자 나노 입자를 이용한 나노 구조체의 밀도 제어 방법
4 4
제 1 항에 있어서,상기 고분자 입자의 크기 및 농도는 고분자 입자의 분자량을 조절함으로써 변경되는 것을 특징으로 하는고분자 나노 입자를 이용한 나노 구조체의 밀도 제어 방법
5 5
제 1 항에 있어서,상기 고분자 입자는 폴리비닐알코올, 비닐알코올, 에틸렌, 코폴리머, 폴리아미드, 셀룰로오스 중 하나인 것을 특징으로 하는고분자 나노 입자를 이용한 나노 구조체의 밀도 제어 방법
6 6
제 1 항에 있어서,상기 기판상에 도포된 고분자 입자가 혼합된 아연 전구체 용액의 안정화는 프리베이킹에 의해 이뤄지는 것을 특징으로 하는고분자 나노 입자를 이용한 나노 구조체의 밀도 제어 방법
7 7
제 1 항에 있어서,상기 기판의 열처리는 200℃ 내지 500℃에서 실시되는 것을 특징으로 하는고분자 나노 입자를 이용한 나노 구조체의 밀도 제어 방법
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패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 전자부품연구원 산업기술산업원천기술개발 액상공정 기반 나노구조체 제작기술