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나노와이어가 전사될 기판상에 점착제를 코팅하기 위한 점착제 코팅부;나노와이어가 기판면에 대해 평행하게 형성된 나노와이어 형성 기판과 상기 나노와이어가 전사될 기판을 서로 밀착시켜 나노와이어를 전사하는 나노와이어 전사부;상기 점착제 코팅부와 상기 나노와이어 전사부 사이에 위치하여 공정 기판을 이송하기 위한 기판 이송부; 및상기 점착제 코팅부, 상기 나노와이어 전사부 및 상기 기판 이송부를 제어하기 위한 시스템 제어부를 포함하는 나노와이어 자동 전사시스템
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제 1 항에 있어서,상기 점착제 코팅부, 상기 나노와이어 전사부 및 상기 기판 이송부는 하나의 챔버내에 존재하는 나노와이어 자동 전사시스템
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제 1 항에 있어서, 상기 점착제 코팅부, 상기 나노와이어 전사부 및 상기 기판 이송부는 각각 다른 챔버내에 존재하는 나노와이어 자동 전사시스템
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제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,상기 점착제 코팅부는,기판을 로딩하기 위한 기판 스테이지;상기 기판을 상하 이동시키기 위한 리프트 핀;상기 기판을 상기 기판 스테이지에 고정하기 위한 공기 흡입 노즐;상기 기판상에 점착제를 도포하기 위한 점착제 도포부; 및상기 기판을 회전시키기 위한 기판 회전부를 포함하는 나노와이어 자동 전사시스템
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제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,상기 기판 이송부는, 이송용 암인 나노와이어 자동 전사시스템
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제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,상기 기판 전사부는, 상기 나노와이어가 형성된 기판을 로딩하기 위한 상부 기판 스테이지; 및상기 나노와이어가 전사될 타기판을 로딩하기 위한 하부 기판 스테이지를 포함하는 나노와이어 자동 전사시스템
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제 2 항에 있어서,상기 점착제 코팅부는, 측면에 상기 점착제의 튐 방지를 위한 보호부를 더 포함하는 나노와이어 자동 전사시스템
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제 4 항에 있어서,상기 기판 스테이지는, 기판의 정렬을 위하여 기판이 로딩되는 영역의 외곽에 적어도 하나 이상의 단차를 포함하는 나노와이어 자동 전사시스템
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제 4 항에 있어서,상기 공기 흡입 노즐은 공기 흡입 펌프와 연결된 나노와이어 자동 전사시스템
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제 4 항에 있어서,상기 점착제 도포부는, 분무 노즐, 분무 스프레이 및 로울러 중 어느 하나인 나노와이어 자동 전사시스템
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제 4 항에 있어서,상기 기판 회전부는 스핀모터인 나노와이어 자동 전사시스템
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제 5 항에 있어서, 상기 이송용 암은, 병진 운동, 회전 운동 및 상하 운동 중 어느 하나 이상을 수행하는 나노와이어 자동 전사시스템
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제 6 항에 있어서,상기 하부 기판 스테이지는, 저면에 기판 정렬 수단을 포함하는 나노와이어 자동 전사시스템
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제 6 항에 있어서,상기 하부 기판 스테이지는, 로드 셀과 연결된 나노와이어 자동 전사시스템
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제 6 항에 있어서,상기 상부 기판 스테이지와 상기 하부 기판 스테이지는 서로 대향되는 나노와이어 자동 전사시스템
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제 6 항에 있어서,상기 상부 기판 스테이지와 상기 하부 기판 스테이지는 일렬로 정렬된 나노와이어 자동 전사시스템
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제 8 항에 있어서,상기 단차의 두께는, 로딩되는 기판의 두께와 동일하고, 상기 단차의 폭은 로딩되는 기판의 폭과 동일한 나노와이어 자동 전사시스템
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제 13 항에 있어서,상기 상부 기판 스테이지 및 상기 하부 기판 스테이지는, 나노와이어 전사 압력을 조절하기 위한 압력 조절부를 포함하는 나노와이어 자동 전사시스템
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제 13 항에 있어서,상기 상부 기판 스테이지 및 상기 하부 기판 스테이지는, 기판에 열을 인가하고 제어하기 위한 온도 제어부를 포함하는 나노와이어 자동 전사시스템
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제 13 항에 있어서,상기 상부 기판 스테이지 및 상기 하부 기판 스테이지는, 기판 고정을 위한 공기 흡입 노즐을 포함하는 나노와이어 자동 전사시스템
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제 13 항에 있어서,상기 상부 기판 스테이지 및 상기 하부 기판 스테이지는 회전운동, 병진운동 및 상하운동 중 어느 하나 이상을 수행하는 나노와이어 자동 전사시스템
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제 16 항에 있어서,상기 상부 기판 스테이지는 180°회전하여 상기 하부 기판 스테이지와 대향되게 접촉하는 나노와이어 자동 전사시스템
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제 18 항에 있어서,상기 하부 기판 스테이지는 길이가 서로 다른 복수의 리프트 핀을 포함하는 나노와이어 자동 전사시스템
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제 19 항에 있어서,상기 상부 기판 스테이지 및 하부 기판 스테이지는 길이가 서로 동일한 복수의 리프트 핀을 포함하는 나노와이어 자동 전사시스템
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제 19 항에 있어서,상기 기판 정렬 수단은, 정렬 마크 확인을 위한 슬릿, 렌즈, CCD 카메라, 적외선 센서 중 적어도 어느 하나 이상을 포함하는 나노와이어 자동 전사시스템
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제 20 항에 있어서,상기 상부 기판 스테이지 및 상기 하부 기판 스테이지는 회전운동 및 병진운동하는 나노와이어 자동 전사시스템
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나노와이어 전사부를 구동함에 있어서,하부 기판 스테이지에 나노와이어가 형성된 기판을 로딩하는 단계;적어도 하나 이상의 리프트 핀을 이용하여 상기 기판을 상부 기판 스테이지로 들어올리는 단계;상기 상부 기판 스테이지에 상기 기판을 고정하는 단계;상기 하부 기판 스테이지에 점착제가 코팅된 타기판을 로딩하는 단계; 및 상기 상부 기판 스테이지를 하강시켜, 상기 상부 기판 스테이지와 상기 하부 기판 스테이지가 밀착시키는 단계를 포함하는 나노와이어 자동 전사시스템 구동방법
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나노와이어 전사부를 구동함에 있어서,상부 기판 스테이지에 나노와이어가 형성된 기판을 로딩하는 단계;하부 기판 스테이지에 점착제가 코팅된 타기판을 로딩하는 단계; 및상기 상부 기판 스테이지를 상기 하부 기판 스테이지가 존재하는 방향으로 180°회전하여 상기 상부 기판 스테이지와 상기 하부 기판 스테이지를 밀착시키는 단계를 포함하는 나노와이어 자동 전사시스템 구동방법
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제 27 항 또는 제 28 항에 있어서,상기 상부 기판 스테이지와 상기 하부 기판 스테이지를 밀착시키는 단계 이후, 열을 가하는 단계를 더 포함하는 나노와이어 자동 전사시스템 구동방법
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제 27 항 또는 제 28 항에 있어서,상기 상부 기판 스테이지와 상기 하부 기판 스테이지를 밀착시키는 단계 이후, 압력을 가하는 단계를 더 포함하는 나노와이어 자동 전사시스템 구동방법
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제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,상기 기판 전사부는, 상기 나노와이어가 형성된 기판 및 상기 나노와이어가 전사될 타기판을 로딩하기 위한 하부 기판 스테이지; 상기 나노와이어의 전사시 압력을 가하기 위한 롤러; 및상기 롤러의 이송을 위한 롤러 이송부를 포함하는 나노와이어 자동 전사시스템
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제 31 항에 있어서,상기 하부 기판 스테이지는상기 나노와이어가 형성된 기판을 상하 이동시키기 위한 제1리프트 핀; 및상기 나노와이어가 전사될 타기판을 상하 이동시키기 위한 제2리프트 핀을 포함하는 나노와이어 자동 전사시스템
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제 31 항에 있어서,상기 롤러 이송부는 상·하·좌·우 이동하는 나노와이어 자동 전사시스템
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제 32 항에 있어서,상기 제2리프트 핀은 상기 나노와이어가 형성된 기판의 로딩 영역 외측에 위치하는 나노와이어 자동 전사시스템
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