[KST2022005044][인하대학교] |
레지스트 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법 |
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[KST2020005519][인하대학교] |
고불소화 공중합체 및 고불소계 용제를 이용한 안료 분산체 및 이를 이용한 포토패터닝 방법 |
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[KST2019022842][인하대학교] |
고불소계 용제로 가공이 가능한 고불소화 포지티프형 전자선 레지스트 |
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[KST2023002589][인하대학교] |
아세탈계 화합물, 아세탈계 프리폴리머, 아세탈계 폴리머 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물 |
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[KST2022018932][인하대학교] |
반도체 장치의 제조 방법 |
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[KST2020013397][인하대학교] |
우수한 분산 안정성을 갖는 안료 분산액, 이의 제조방법, 및 이를 이용한 포토패터닝 방법 |
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[KST2023010715][인하대학교] |
포토리소그래피용 레지스트 화합물 및 언더레이어 화합물, 이를 이용하여 형성된 다층 구조 및 이를 이용한 반도체 소자의 제조방법 |
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[KST2016005060][인하대학교] |
나노 물질 패턴의 제조방법(Method for fabrication pattern of nano material) |
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[KST2022018936][인하대학교] |
신규 화합물 및 이를 포함하는 극자외선용 포토레지스트 조성물 |
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[KST2024000219][인하대학교] |
다양한 기판에 코팅이 가능한 광가교/광패터닝 가능 고분자 및 그 응용 |
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[KST2015158336][인하대학교] |
탄성에너지를 고려한 캔틸레버 멤스 구조 해석 방법 |
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[KST2015158531][인하대학교] |
카오스 혼합형 마이크로 채널의 제작 방법 |
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[KST2024000225][인하대학교] |
4개 이상의 불소 원자를 포함하는 리간드가 결합된 유기금속화합물, 이를 포함하는 레지스트 조성물 및 이를 이용한 반도체 장치의 제조 방법 |
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[KST2019035880][인하대학교] |
고불소계 용제에 용해성을 가지는 고불소화 고분자를 포함하는 레지스트 재료 |
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[KST2019022869][인하대학교] |
기계적 물성 가변 자극감응형 액정 고분자-셀룰로오스 나노결정 다중층 복합소재 |
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[KST2014056373][인하대학교] |
단방향으로 수평 성장된 산화아연 나노로드 어레이 제조방법 |
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[KST2016005061][인하대학교] |
나노 물질 패턴의 제조방법(Method for fabrication pattern of nano material) |
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[KST2020011361][인하대학교] |
레지스트 화합물, 이를 사용한 패턴 형성 방법, 및 이를 사용한 반도체 소자 제조 방법 |
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[KST2021005078][인하대학교] |
고불소화 공중합체와 고불소계 용제를 이용한 적색 안료 분산체 및 이를 이용한 포토패터닝 방법 |
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[KST2021002874][인하대학교] |
레지스트 화합물, 이를 사용한 패턴 형성 방법, 및 이를 사용한 반도체 소자 제조 방법 |
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[KST2022013904][인하대학교] |
스피로피란 구조를 포함하는 고불소화 고분자 포토레지스트 및 이를 이용한 유기전자소자의 제조방법 |
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