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물질의 결정구조를 이용한 패턴 형성 방법 및 장치

  • 기술번호 : KST2015158746
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 물질의 결정구조를 이용한 패턴 형성 방법 및 장치에 관한것으로써, 결정구조를 갖는 물질을 투과 전자 현미경의 챔버에 위치시키고, 전자선을 조사하고, 결정구조를 갖는 물질을 투과 및 회절된 전자 빔의 간섭을 이용하여 피조사 물질의 표면에 결정구조를 갖는 물질의 격자 이미지를 위상 콘트라스트 영상법을 이용하여 형성하고, 이렇게 형성된 결정구조를 갖는 물질의 격자 이미지로 패턴을 형성함으로써 제어가능한 방법으로 양자점을 형성할 수 있다.결정구조, 투과 전자 현미경, 위상 콘트라스트법, 웨이퍼, 단전자 반도체 소자
Int. CL H01L 21/26 (2011.01) B82Y 30/00 (2011.01)
CPC
출원번호/일자 1020010017694 (2001.04.03)
출원인 재단법인서울대학교산학협력재단
등록번호/일자 10-0462055-0000 (2004.12.07)
공개번호/일자 10-2002-0077962 (2002.10.18) 문서열기
공고번호/일자 (20041217) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2002.08.23)
심사청구항수 20

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인서울대학교산학협력재단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김기범 대한민국 서울 관악구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 권혁록 대한민국 서울특별시 종로구 경희궁길 **, *층 리앤권법률특허사무소 (신문로*가, 서광빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인서울대학교산학협력재단 대한민국 서울특별시 관악구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2001.04.03 수리 (Accepted) 1-1-2001-0075573-02
2 전자문서첨부서류제출서
Submission of Attachment to Electronic Document		 2001.04.06 수리 (Accepted) 1-1-2001-5098415-18
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2001.11.09 수리 (Accepted) 4-1-2001-0126432-06
4 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2002.08.23 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2002-0272177-80
5 출원심사청구서
Request for Examination		 2002.08.23 수리 (Accepted) 1-1-2002-0272182-19
6 출원인변경신고서
Applicant change Notification		 2003.11.19 수리 (Accepted) 1-1-2003-5219123-11
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2003.11.19 수리 (Accepted) 4-1-2003-0061264-43
8 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2004.04.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
9 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2004.05.14 수리 (Accepted) 9-1-2004-0026628-44
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2004.06.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0239868-17
11 대리인 선임 신고서
Notification of assignment of agent		 2004.08.19 수리 (Accepted) 1-1-2004-0370514-19
12 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2004.08.19 수리 (Accepted) 1-1-2004-0370045-18
13 의견서
Written Opinion		 2004.09.16 수리 (Accepted) 1-1-2004-0419835-42
14 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2004.09.16 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2004-0419846-44
15 등록결정서
Decision to grant		 2004.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0508689-84
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2008-5015497-73
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.08.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5100909-62
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.20 수리 (Accepted) 4-1-2015-5036045-28
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

물질의 결정 구조를 이용하여 패턴을 형성하기 위해 투과전자현미경을 변형한 장치에 있어서,

상기 물질을 통과하는 전자빔을 조사하는 전자총;

상기 전자총에 의해 조사되는 상기 전자빔을 집속하는 제1집속수단;

상기 전자빔을 일정한 지점에 집속시키는 제2집속수단;

상기 전자빔에 의해 통과되는 상기 물질을 탑재하기 위한 탑재수단;

상기 물질을 통과하면서 나뉘어지는 투과빔과 회절빔에 의해 격자 이미지를 형성하기 위한 형성수단;

상기 형성수단에 의해 형성된 상기 격자 이미지를 확대 또는 축소하기 위한 다수의 렌즈군; 및

상기 렌즈군 사이 또는 그 아래에 개제시켜 상기 물질의 격자 이미지를 피조사 물질에 일정한 크기의 패턴으로 형성할 수 있는 피조사 물질 이동장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 물질의 결정 구조를 이용한 패턴 형성 장치

2 2

제 1 항에 있어서,

상기 격자 이미지는 위상 콘트라스트 영상법을 이용하여 형성함을 특징으로 하는 물질의 결정 구조를 이용한 패턴 형성 장치

3 3

제 1 항에 있어서,

결정 구조를 갖는 상기 물질은 수십 나노미터 두께를 갖도록 처리하여 사용함을 특징으로 하는 물질의 결정 구조를 이용한 패턴 형성 장치

4 4

제 1 항에 있어서,

상기 피조사 물질은 반도체기판임을 특징으로 하는 물질의 결정 구조를 이용한 패턴 형성 장치

5 5

제 1 항에 있어서,

상기 피조사 물질 이동장치는 다수의 웨이퍼가 실장되는 웨이퍼 카세트를 포함하는 웨이퍼 이동장치이며, 웨이퍼는 상기 다수의 렌즈군 사이에 개제됨을 특징으로 하는 물질의 결정 구조를 이용한 패턴 형성 장치

6 6

제 4 항에 있어서,

상기 반도체기판을 소스 영역과 드레인 영역이 형성된 기판위에 게이트 산화막이 형성되고, 그 위에 비정질 실리콘이 증착되며 그 위에 감광제가 형성된 것을 특징으로 하는 물질의 결정 구조를 이용한 패턴 형성 장치

7 7

제 1 항에 있어서,

집속을 위한 상기 제1집속수단은 콘덴서 렌즈임을 특징으로 하는 물질의 결정 구조를 이용한 패턴 형성 장치

8 8

제 1 항에 있어서,

집속을 위한 상기 제2집속수단은 대물렌즈임을 특징으로 하는 물질의 결정 구조를 이용한 패턴 형성 장치

9 9

물질의 결정 구조를 이용하여 패턴을 형성하기 위해 투과전자현미경을 변형한 장치에 있어서,

상기 물질을 통과하는 전자빔을 조사하는 전자총;

상기 전자총에 의해서 조사되는 전자빔을 일정 지점에 집속하는 수단;

상기 전자빔에 의해 통과되는 상기 물질을 탑재하기 위한 탑재수단;

상기 물질을 통과하면서 나뉘어지는 투과빔과 회절빔에 의해 격자 이미지를 형성하기 위한 형성수단;

상기 형성수단에 의해 형성된 상기 격자 이미지를 확대 또는 축소하기 위한 다수의 렌즈군; 및

상기 렌즈군 사이 또는 그 아래에 개제시켜 상기 물질의 격자 이미지를 피조사 물질에 일정한 크기의 패턴으로 형성할 수 있는 피조사 물질 이동장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 물질의 결정 구조를 이용한 패턴 형성 장치

10 10

제 9 항에 있어서,

상기 격자 이미지는 위상 콘트라스트 영상법을 이용하여 형성함을 특징으로 하는 물질의 결정 구조를 이용한 패턴 형성 장치

11 11

제 9 항에 있어서, 상기 피조사 물질은 반도체 소자임을 특징으로 하는 물질의 결정 구조를 이용한 패턴 형성 장치

12 12

제 9 항에 있어서,

상기 피조사 물질 이동장치는 다수의 웨이퍼가 실장되는 웨이퍼 카세트를 포함하는 웨이퍼 이동장치이며, 웨이퍼는 상기 다수의 렌즈군 사이에 개제됨을 특징으로 하는 물질의 결정 구조를 이용한 패턴 형성 장치

13 13

제 11 항에 있어서, 상기 반도체 소자는 소스 영역과 드레인 영역이 형성된 기판상에 게이트 산화막과 비정질 실리콘을 증착한 후, 감광제가 형성됨을 특징으로 하는 물질의 결정 구조를 이용한 패턴 형성 장치

14 14

변형된 투과전자 현미경의 챔버내에 결정 구조를 갖는 물질을 위치시키는 단계;

상기 변형된 투과전자 현미경내의 상기 물질에 전자빔을 조사하는 단계;

피조사 물질의 표면상에 상기 물질을 통과한 투과전자빔과 회절전자빔의 간섭을 이용한 결과로써 형성된 상기 물질의 격자 이미지로부터 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크로써 재료의 결정 구조를 이용하여 패턴을 형성하는 방법

15 15

제 14 항에 있어서,

상기 격자 이미지는 위상 콘트라스트 영상법에 의해 형성됨을 특징으로 하는 마스크로써 재료의 결정 구조를 이용하여 패턴을 형성하는 방법

16 16

제 14 항에 있어서,

상기 피조사 물질은 감광 물질임을 특징으로 하는 마스크로써 재료의 결정 구조를 이용하여 패턴을 형성하는 방법

17 17

변형된 투과전자 현미경의 챔버내에 결정 구조를 갖는 물질을 위치시키는 단계;

상기 변형된 투과전자 현미경내의 상기 물질에 전자빔을 조사하는 단계;

반도체 기판상의 감광 물질의 표면상에 상기 물질을 통과한 투과전자빔과 회절전자빔의 간섭을 이용한 결과로써 형성된 상기 물질의 격자 이미지로부터 패턴을 형성하는 단계;

상기 감광물질을 패터닝하는 단계;

플라즈마 공정을 사용하여 반도체 기판상의 상기 물질을 에칭하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크로써 재료의 결정 구조를 이용하여 양자점을 형성하는 방법

18 18

제 17 항에 있어서,

상기 물질의 격자 이미지는 위상 콘트라스트 영상법을 이용하여 형성함을 특징으로 하는 마스크로써 재료의 결정 구조를 이용하여 패턴을 형성하는 방법

19 19

반도체 기판;

상기 반도체 기판에 위치되는 소오스 영역;

상기 반도체 기판에 위치되며 상기 소오스 영역으로부터 이격되는 드레인 영역;

상기 소오스 영역과 드레인 영역 사이에 위치되며, 패터닝 마스크로써 물질의 결정구조를 이용하여 실리콘층을 패터닝하여 형성되는 상기 반도체 기판 영역상의 양자점 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자

20 20

제 19 항에 있어서,

상기 물질의 격자 이미지는 위상 콘트라스트 영상법에 의해 형성됨을 특징으로 하는 반도체 소자

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1 EP01287549 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
2 JP16519865 JP 일본 FAMILY
3 US06855481 US 미국 FAMILY
4 US20030155523 US 미국 FAMILY
5 WO2002082518 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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1 EP1287549 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
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3 JP2004519865 JP 일본 DOCDBFAMILY
4 JP2004519865 JP 일본 DOCDBFAMILY
5 JP2004519865 JP 일본 DOCDBFAMILY
6 US2003155523 US 미국 DOCDBFAMILY
7 US6855481 US 미국 DOCDBFAMILY
8 WO02082518 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
9 WO02082518 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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