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시편에 조사되고 상기 시편을 통과한 전자빔이 대물렌즈를 통과하여 형성한 투과빔과 회절빔의 위상차 이미지를 선명하게 하기 위한 대물렌즈 조리개에 있어서,상기 투과빔만을 통과시키는 투과빔 구멍; 및상기 시편의 격자 상수에 따라 상기 투과빔 구멍과의 거리가 정해지고, 상기 시편의 결정구조에 따라 개수와 방향이 정해져서 상기 회절빔만을 통과시키는 회절빔 통과 위치에 위치하는 다수의 회절빔 구멍으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 대물렌즈 조리개
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제1항에 있어서, 상기 시편이 실리콘 단결정이고, 상기 회절빔 구멍의 위치는 상기 실리콘 단결정의 회절상에서 111과 002 회절빔의 위치와 동일하며, 상기 111 회절빔에 대하여는 상기 투과빔 구멍과 상기 회절빔 구멍 사이의 거리 r111 = λL/d111이고, 상기 002 회절빔에 대하여는 r002 = λL/d002 이며, 상기 각 구멍의 지름은 2Lａ(여기서 a는 전자빔의 수렴반각)이하임을 특징으로 하는 대물렌즈 조리개
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제1항에 있어서,상기 시편이 실리콘 단결정이고, 상기 회절빔 구멍의 위치는 상기 실리콘 단결정의 회절상에서 111, 002, 220, 113, 222방향의 회절빔의 위치와 동일하며, 상기 각 회절빔에 대하여는 상기 투과빔 구멍과 상기 회절빔 구멍 사이의 거리는 각각 r111 = λL/d111, r002 = λL/d002, r220 = λL/d220, r113 = λL/d113, r222 = λL/d222 이며, 상기 각 구멍의 지름은 2Lａ(여기서 a는 전자빔의 수렴반각)이하임을 특징으로 하는 대물렌즈 조리개
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시편에 조사되고 시편을 통과한 전자빔이 대물렌즈를 통과하여 형성한 투과빔과 회절빔을 통과시키는 대물렌즈 조리개에 있어서,상기 투과빔만을 통과시키는 투과빔 구멍; 및상기 시편의 격자 상수에 따라 상기 투과빔 구멍과의 거리가 정해져서 상기 투과빔 구멍의 중심으로부터 상기 링 구멍의 중심까지의 거리는 λL/dhkl이고, 상기 회절빔만을 통과시키는 링 형태의 회절빔 구멍으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 대물렌즈 조리개
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시편에 조사되고 시편을 통과한 전자빔이 대물렌즈를 통과하여 형성한 투과빔과 회절빔을 통과시키는 대물렌즈 조리개를 가지는 원자이미지를 이용한 패턴형성장치에 있어서,상기 투과빔만을 통과시키는 투과빔 구멍; 및상기 시편의 격자 상수에 따라 상기 투과빔 구멍과의 거리가 정해지고, 상기 시편의 결정구조에 따라 개수와 방향이 정해져서 상기 회절빔만을 통과시키는 회절빔 통과 위치에 위치하는 다수의 회절빔 구멍으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 대물렌즈 조리개를 가짐을 특징으로 하는 원자이미지를 이용한 패턴형성장치
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제13항에 있어서, 상기 시편이 실리콘 단결정이고, 상기 회절빔 구멍의 위치는 상기 실리콘 단결정의 회절상에서 111과 002 회절빔의 위치와 동일하며, 상기 111 회절빔에 대하여는 상기 투과빔 구멍과 상기 회절빔 구멍 사이의 거리 r111 = λL/d111이고, 상기 002 회절빔에 대하여는 r002 = λL/d002 이며, 상기 각 구멍의 지름은 2Lａ(여기서 a는 전자빔의 수렴반각)이하인 대물렌즈 조리개를 가짐을 특징으로 하는 원자이미지를 이용한 패턴형성장치
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제13항에 있어서,상기 시편이 실리콘 단결정이고, 상기 회절빔 구멍의 위치는 상기 실리콘 단결정의 회절상에서 111, 002, 220, 113, 222 회절빔의 위치와 동일하며, 상기 각 방향의 회절빔에 대하여는 상기 투과빔 구멍과 상기 회절빔 구멍 사이의 거리는 각각 r111 = λL/d111, r002 = λL/d002, r220 = λL/d220, r113 = λL/d113, r222 = λL/d222 이며, 상기 각 구멍의 지름은 2Lａ(여기서 a는 전자빔의 수렴반각)이하인 대물렌즈 조리개를 가짐을 특징으로 하는 원자이미지를 이용한 패턴형성장치
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시편에 조사되고 시편을 통과한 전자빔이 대물렌즈를 통과하여 형성한 투과빔과 회절빔을 통과시키는 대물렌즈 조리개를 가지는 원자이미지를 이용한 패턴형성장치에 있어서,상기 투과빔만을 통과시키는 투과빔 구멍; 및상기 시편의 격자 상수에 따라 상기 투과빔 구멍과의 거리가 정해져서 상기 투과빔 구멍의 중심으로부터 상기 링 구멍의 중심까지의 거리는 λL/dhkl이고, 상기 회절빔만을 통과시키는 링 형태의 회절빔 구멍으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 대물렌즈 조리개를 가지는 것을 특징으로 하는 원자이미지를 이용한 패턴형성장치
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