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1
차례로 배치된 제1 애노드 전극, 제1 분리판 및 제1 캐소드 전극을 구비하는 제1 셀;
상기 제1 셀과 동일 평면 내에서 상기 제1 셀과 이격하여 위치하며, 차례로 배치된 제2 애노드 전극, 제2 분리판 및 제2 캐소드 전극을 구비하는 제2 셀;
상기 제1 셀의 일 변에 인접하여 위치한 제1 처리액이 유입되는 제1 유입구와 상기 제1 셀의 다른 변에 인접하여 위치한 상기 제1 처리액이 배출되는 제1 유출구; 및
상기 제2 셀의 일 변에 인접하여 위치한 제2 처리액이 유입되는 제2 유입구와 상기 제2 셀의 다른 변에 인접하여 위치한 상기 제2 처리액이 배출되는 제2 유출구를 포함하고,
상기 셀들에서 상기 처리액들은 상기 제1 및 제2 유입구에서 각각 상기 제1 및 제2 유출구로 흐르며, 상기 셀들의 폭은 상기 처리액들의 진행방향을 따라 점차 감소되는 축전탈이온 장치
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2 |
2
제1항에 있어서,
상기 전극들은 다공성 카본 전극인 축전탈이온 장치
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3 |
3
제1항에 있어서,
상기 전극들은 카본페이퍼 전극, 카본섬유 전극, 카본컴포짓 전극, 카본펠트 전극 또는 카본클로스 전극인 축전탈이온 장치
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4 |
4
제1항에 있어서,
상기 분리판들은 다공성 시트인 축전탈이온 장치
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5 |
5
제1항에 있어서,
상기 제1 셀 및 제2 셀 각각의 외측부는 접착제에 의해 접착되는 것을 특징으로 하는 축전탈이온 장치
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6 |
6
제1항에 있어서,
분리부에 의해 분리된 제1 및 제2 관통부를 구비하는 지지체를 더 포함하되, 상기 제1 및 제2 셀은 각각 상기 제1 및 제2 관통부 내에 수용되는 축전탈이온 장치
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7 |
7
제1항에 있어서,
상기 제1 셀들을 바라보는 양면상에 위치하는 제1 애노드 전류집전체 및 제1 캐소드 전류집전체; 및
상기 제2 셀들을 바라보는 양면상에 위치하는 제2 애노드 전류집전체 및 제2 캐소드 전류집전체를 더 포함하는 축전탈이온 장치
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8 |
8
제1항에 있어서,
상기 제1 및 제2 셀들을 마주보는 양면상에 위치하는 제1 체결판 및 제2 체결판을 더 포함하는 축전탈이온 장치
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9
삼각형의 형상을 가지며, 차례로 배치된 제1 애노드 전극, 제1 분리판 및 제1 캐소드 전극을 구비하는 제1 셀;
상기 제1 셀과 동일 평면 내에 배치되고, 상기 제1 셀과 이격되되, 삼각형의 형상을 가지며, 차례로 배치된 제2 애노드 전극, 제2 분리판 및 제2 캐소드 전극을 구비하는 제2 셀;
상기 셀들의 일변에 인접하여 위치하며, 제1 및 제2 처리액이 각각 유입되는 제1 및 제2 유입구; 및
상기 셀들의 일변과 마주보는 꼭지점에 인접하여 위치하며, 제1 및 제2 처리액이 각각 배출되는 제1 및 제2 유출구를 포함하는 축전탈이온 장치
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10 |
10
반원의 형상을 가지며, 차례로 배치된 제1 애노드 전극, 제1 분리판 및 제1 캐소드 전극을 구비하는 제1 셀;
상기 제1 셀과 동일 평면 내에 배치되고, 상기 제1 셀과 이격되되, 반원의 형상을 가지며, 차례로 배치된 제2 애노드 전극, 제2 분리판 및 제2 캐소드 전극을 구비하는 제2 셀;
상기 셀들의 일변에 인접하여 위치하며, 제1 및 제2 처리액이 각각 유입되는 제1 및 제2 유입구; 및
상기 셀들의 일변과 마주보는 호에 인접하여 위치하며, 제1 및 제2 처리액이 각각 배출되는 제1 및 제2 유출구를 포함하는 축전탈이온 장치
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11 |
11
차례로 배치된 제1 애노드 전극, 제1 분리판 및 제1 캐소드 전극을 구비하는 제1 셀; 상기 제1 셀과 동일 평면 내에서 상기 제1 셀과 이격하여 위치하며, 차례로 배치된 제2 애노드 전극, 제2 분리판 및 제2 캐소드 전극을 구비하는 제2 셀; 상기 제1 셀의 일 변에 인접하여 위치한 제1 처리액이 유입되는 제1 유입구와 상기 제1 셀의 다른 변에 인접하여 위치한 상기 제1 처리액이 배출되는 제1 유출구; 및 상기 제2 셀의 일 변에 인접하여 위치한 제2 처리액이 유입되는 제2 유입구와 상기 제2 셀의 다른 변에 인접하여 위치한 상기 제2 처리액이 배출되는 제2 유출구를 포함하고, 상기 셀들에서 상기 처리액들은 상기 제1 및 제2 유입구에서 각각 상기 제1 및 제2 유출구로 흐르며, 상기 셀들의 폭은 상기 처리액들의 진행방향을 따라 점차 감소되는 축전탈이온 장치를 제공하는 단계;
상기 제1 유입구 및 제2 유입구 중 적어도 어느 하나 내에 처리액들을 주입하는 단계;
상기 제1 셀 및 제2 셀 중 적어도 어느 하나에 전압을 인가하여, 상기 셀을 탈이온단계로 도입시키는 단계; 및
상기 탈이온단계가 완료된 상기 셀의 전압을 제거하여 상기 셀을 재생단계로 도입시키는 단계를 포함하는 축전탈이온 장치의 동작방법
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12
제11항에 있어서,
제1 셀 및 제2 셀의 어느 하나에 직류전원을 인가하는 단계 및 또 다른 어느 하나의 셀의 전원을 제거하는 단계를 동시에 수행하는 축전탈이온 장치의 동작방법
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