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축전탈이온 장치 및 이의 동작방법

  • 기술번호 : KST2015174201
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 축전탈이온 장치 및 축전탈이온 장치의 동작방법을 제공한다. 상기 축전탈이온 장치는 제1 및 제2 처리액이 각각 유입되는 제1 및 제2 유입구, 상기 제1 및 제2 유입구와 마주보는 영역에 위치하며, 제1 및 제2 처리액이 각각 배출되는 제1 및 제2 유출구, 상기 제1 처리액의 진행방향으로 폭이 점차 감소되는 형상을 가지며, 차례로 배치된 제1 애노드 전극, 제1 분리판 및 제1 캐소드 전극을 구비하는 제1 셀, 및 상기 제1 셀과 동일 평면 내에 배치되고, 상기 제1 셀과 이격되되, 상기 제2 처리액의 진행방향으로 폭이 점차 감소되는 형상을 가지며, 차례로 배치된 제2 애노드 전극, 제2 분리판 및 제2 캐소드 전극을 구비하는 제2 셀을 포함한다. CDI 장치, 축전탈이온 장치, 수처리 장치
Int. CL C25B 9/08 (2006.01) C02F 1/463 (2006.01) C02F 103/02 (2006.01)
CPC C02F 1/4691(2013.01) C02F 1/4691(2013.01) C02F 1/4691(2013.01) C02F 1/4691(2013.01)
출원번호/일자 1020090041104 (2009.05.12)
출원인 광주과학기술원
등록번호/일자 10-1065492-0000 (2011.09.08)
공개번호/일자 10-2010-0122187 (2010.11.22) 문서열기
공고번호/일자 (20110916) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.05.12)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 문승현 대한민국 광주광역시 북구
2 서석준 대한민국 광주광역시 북구
3 이재영 대한민국 광주광역시 북구
4 이주영 대한민국 광주광역시 북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인이상 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로 ***(양재동, 우도빌딩 *층)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.05.12 수리 (Accepted) 1-1-2009-0282758-38
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.12.02 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.01.12 수리 (Accepted) 9-1-2011-0000822-39
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.01.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0039768-56
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.03.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0203099-21
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.03.21 수리 (Accepted) 1-1-2011-0203074-91
7 등록결정서
Decision to grant
2011.09.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0499799-27
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.09.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5187089-85
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
차례로 배치된 제1 애노드 전극, 제1 분리판 및 제1 캐소드 전극을 구비하는 제1 셀; 상기 제1 셀과 동일 평면 내에서 상기 제1 셀과 이격하여 위치하며, 차례로 배치된 제2 애노드 전극, 제2 분리판 및 제2 캐소드 전극을 구비하는 제2 셀; 상기 제1 셀의 일 변에 인접하여 위치한 제1 처리액이 유입되는 제1 유입구와 상기 제1 셀의 다른 변에 인접하여 위치한 상기 제1 처리액이 배출되는 제1 유출구; 및 상기 제2 셀의 일 변에 인접하여 위치한 제2 처리액이 유입되는 제2 유입구와 상기 제2 셀의 다른 변에 인접하여 위치한 상기 제2 처리액이 배출되는 제2 유출구를 포함하고, 상기 셀들에서 상기 처리액들은 상기 제1 및 제2 유입구에서 각각 상기 제1 및 제2 유출구로 흐르며, 상기 셀들의 폭은 상기 처리액들의 진행방향을 따라 점차 감소되는 축전탈이온 장치
2 2
제1항에 있어서, 상기 전극들은 다공성 카본 전극인 축전탈이온 장치
3 3
제1항에 있어서, 상기 전극들은 카본페이퍼 전극, 카본섬유 전극, 카본컴포짓 전극, 카본펠트 전극 또는 카본클로스 전극인 축전탈이온 장치
4 4
제1항에 있어서, 상기 분리판들은 다공성 시트인 축전탈이온 장치
5 5
제1항에 있어서, 상기 제1 셀 및 제2 셀 각각의 외측부는 접착제에 의해 접착되는 것을 특징으로 하는 축전탈이온 장치
6 6
제1항에 있어서, 분리부에 의해 분리된 제1 및 제2 관통부를 구비하는 지지체를 더 포함하되, 상기 제1 및 제2 셀은 각각 상기 제1 및 제2 관통부 내에 수용되는 축전탈이온 장치
7 7
제1항에 있어서, 상기 제1 셀들을 바라보는 양면상에 위치하는 제1 애노드 전류집전체 및 제1 캐소드 전류집전체; 및 상기 제2 셀들을 바라보는 양면상에 위치하는 제2 애노드 전류집전체 및 제2 캐소드 전류집전체를 더 포함하는 축전탈이온 장치
8 8
제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2 셀들을 마주보는 양면상에 위치하는 제1 체결판 및 제2 체결판을 더 포함하는 축전탈이온 장치
9 9
삼각형의 형상을 가지며, 차례로 배치된 제1 애노드 전극, 제1 분리판 및 제1 캐소드 전극을 구비하는 제1 셀; 상기 제1 셀과 동일 평면 내에 배치되고, 상기 제1 셀과 이격되되, 삼각형의 형상을 가지며, 차례로 배치된 제2 애노드 전극, 제2 분리판 및 제2 캐소드 전극을 구비하는 제2 셀; 상기 셀들의 일변에 인접하여 위치하며, 제1 및 제2 처리액이 각각 유입되는 제1 및 제2 유입구; 및 상기 셀들의 일변과 마주보는 꼭지점에 인접하여 위치하며, 제1 및 제2 처리액이 각각 배출되는 제1 및 제2 유출구를 포함하는 축전탈이온 장치
10 10
반원의 형상을 가지며, 차례로 배치된 제1 애노드 전극, 제1 분리판 및 제1 캐소드 전극을 구비하는 제1 셀; 상기 제1 셀과 동일 평면 내에 배치되고, 상기 제1 셀과 이격되되, 반원의 형상을 가지며, 차례로 배치된 제2 애노드 전극, 제2 분리판 및 제2 캐소드 전극을 구비하는 제2 셀; 상기 셀들의 일변에 인접하여 위치하며, 제1 및 제2 처리액이 각각 유입되는 제1 및 제2 유입구; 및 상기 셀들의 일변과 마주보는 호에 인접하여 위치하며, 제1 및 제2 처리액이 각각 배출되는 제1 및 제2 유출구를 포함하는 축전탈이온 장치
11 11
차례로 배치된 제1 애노드 전극, 제1 분리판 및 제1 캐소드 전극을 구비하는 제1 셀; 상기 제1 셀과 동일 평면 내에서 상기 제1 셀과 이격하여 위치하며, 차례로 배치된 제2 애노드 전극, 제2 분리판 및 제2 캐소드 전극을 구비하는 제2 셀; 상기 제1 셀의 일 변에 인접하여 위치한 제1 처리액이 유입되는 제1 유입구와 상기 제1 셀의 다른 변에 인접하여 위치한 상기 제1 처리액이 배출되는 제1 유출구; 및 상기 제2 셀의 일 변에 인접하여 위치한 제2 처리액이 유입되는 제2 유입구와 상기 제2 셀의 다른 변에 인접하여 위치한 상기 제2 처리액이 배출되는 제2 유출구를 포함하고, 상기 셀들에서 상기 처리액들은 상기 제1 및 제2 유입구에서 각각 상기 제1 및 제2 유출구로 흐르며, 상기 셀들의 폭은 상기 처리액들의 진행방향을 따라 점차 감소되는 축전탈이온 장치를 제공하는 단계; 상기 제1 유입구 및 제2 유입구 중 적어도 어느 하나 내에 처리액들을 주입하는 단계; 상기 제1 셀 및 제2 셀 중 적어도 어느 하나에 전압을 인가하여, 상기 셀을 탈이온단계로 도입시키는 단계; 및 상기 탈이온단계가 완료된 상기 셀의 전압을 제거하여 상기 셀을 재생단계로 도입시키는 단계를 포함하는 축전탈이온 장치의 동작방법
12 12
제11항에 있어서, 제1 셀 및 제2 셀의 어느 하나에 직류전원을 인가하는 단계 및 또 다른 어느 하나의 셀의 전원을 제거하는 단계를 동시에 수행하는 축전탈이온 장치의 동작방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.