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계층화 구조물 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2016002452
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 계층화 구조물의 형상, 그 형상에 따른 계층화 구조물의 공학적 효과, 그 공학적 효과의 증대 방법, 신규 소재 또는 부품에 대한 계층화 구조물의 응용 방법, 계층화 구조물의 대량 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명은 계층화 구조물 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 내부의 기지(Matrix)에 나노(Nano) 스케일 영역의 특성 길이를 가지는 적어도 하나 이상의 나노 오브젝트(Object)가 일정한 패턴(Pattern)에 의해 배열된 것을 특징으로 하는 계층화 구조물을 포함한다. 본 발명에 따르면, 나노 스케일 영역에서 발생하는 우수한 특성을 거시적인 스케일 영역의 구조물에서도 활용할 수 있으며, 크기 스케일이 서로 다른 구조물들을 상이한 크기 스케일에 무관하게 간편히 연계할 수 있다. 계층화, 나노 스케일, 기지, 리소그라피
Int. CL G03F 7/00 (2006.01) B81B 7/00 (2006.01) B81B 1/00 (2006.01)
CPC B81B 7/00(2013.01) B81B 7/00(2013.01) B81B 7/00(2013.01)
출원번호/일자 1020080082721 (2008.08.25)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-1022016-0000 (2011.03.07)
공개번호/일자 10-2010-0024049 (2010.03.05) 문서열기
공고번호/일자 (20110316) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.08.25)
심사청구항수 16

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김재현 대한민국 대전광역시 유성구
2 이학주 대한민국 대전광역시 유성구
3 현승민 대한민국 대전광역시 유성구
4 최현주 대한민국 대전광역시 유성구
5 최병익 대한민국 대전광역시 유성구
6 김기돈 대한민국 대전광역시 유성구
7 최대근 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 팬코리아특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, 역삼***빌딩 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.08.25 수리 (Accepted) 1-1-2008-0601861-48
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2009.08.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2009.09.15 수리 (Accepted) 9-1-2009-0052648-95
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2010.07.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0309163-10
5 [대리인사임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Resignation of Agent] Report on Agent (Representative)		 2010.08.02 수리 (Accepted) 1-1-2010-0497563-32
6 [대리인사임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Resignation of Agent] Report on Agent (Representative)		 2010.08.02 수리 (Accepted) 1-1-2010-0497560-06
7 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2010.08.10 수리 (Accepted) 1-1-2010-0514348-77
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2010.09.10 수리 (Accepted) 1-1-2010-0590287-40
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2010.09.10 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0590288-96
10 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal		 2010.12.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0572271-45
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.01.17 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2011-0037656-58
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.01.17 수리 (Accepted) 1-1-2011-0037654-67
13 등록결정서
Decision to grant		 2011.02.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0112479-13
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
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번호 청구항
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계층화 구조물의 제조 방법에 있어서, (a) 제 1 모재(Substrate) 상에 제 1 기지(Matrix)를 형성하는 단계; (b) 상기 제 1 기지 상에 나노(Nano) 스케일 영역의 특성 길이를 가지는 적어도 하나 이상의 나노 오브젝트(Object)를 일정한 제 1 패턴에 의해 배열하는 단계; (c) 상기 (b) 단계의 제 1 패턴 상에 제 2 기지를 스핀 코팅으로 형성하는 단계; 및 (d) 상기 제 1 모재를 분리하여 제 1 블럭을 형성하는 단계;를 포함하며, 상기 (d) 단계 이후에, (e) 제 2 모재 상에 적어도 하나 이상의 상기 제 1 블럭을 일정한 제 2 패턴에 의해 배열하는 단계; (f) 상기 (e) 단계의 상기 제 2 패턴 상에 제 3 기지를 형성하는 단계; 및 (g) 상기 제 2 모재를 분리하여 제 2 블럭을 형성하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 계층화 구조물의 제조 방법
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제 14 항에 있어서, 상기 제 1 기지 또는 상기 제 2 기지는 폴리머(Polymer)인 것을 특징으로 하는 계층화 구조물의 제조 방법
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제 14 항에 있어서, 상기 특성 길이는 1 nm 내지 100 nm인 것을 특징으로 하는 계층화 구조물의 제조 방법
17 17
제 14 항에 있어서, 상기 나노 오브젝트는 양자 점(Quantum Dot), 나노 스피어(Nano Sphere), 나노 입자(Nano Particle), 나노 튜브(Nano Tube), 나노 와이어(Nano Wire) 및 나노 스케일 영역의 선 패턴(Line Pattern) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 계층화 구조물의 제조 방법
18 18
제 14 항에 있어서, 상기 패턴은 광학 리소그라피(Lithography), 소프트(Soft) 리소그라피, 홀로그라픽(Holographic) 리소그라피, 나노 임프린트(Imprint), 쉐도우 마스크(Shadow Mask) 및 금속 트랜스퍼 프린팅(Transfer Printing) 방법 중 어느 하나의 방법에 의해 형성된 것을 특징으로 하는 계층화 구조물의 제조 방법
19 19
제 14 항에 있어서, 상기 (a) 단계는, (a1) 상기 제 1 기지를 형성하기 전에 상기 제 1 모재 상에 희생층을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 계층화 구조물의 제조 방법
20 20
제 14 항에 있어서, 상기 (d) 단계는, (d1) 상기 제 2 기지 상에 PR(Photo Resist) 패턴 또는 무기물 패턴을 형성한 후 에칭하는 단계; 및 (d2) 상기 PR 또는 무기물을 제거하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 계층화 구조물의 제조 방법
21 21
제 20 항에 있어서, 상기 PR 패턴 또는 무기물 패턴은 광학 리소그라피 또는 임프린트 리소그라피 방법을 사용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 계층화 구조물의 제조 방법
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제 14 항에 있어서, 상기 (e) 단계는, (e1) 상기 제 1 블럭을 척(chuck)을 이용하여 상기 제 2 모재 상에 부착하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 계층화 구조물의 제조 방법
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제 14 항에 있어서, 상기 (e) 단계는, (e2) 상기 제 1 블럭을 배열하기 전 상기 제 2 모재 상에 점착 강화층을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 계층화 구조물의 제조 방법
25 25
제 24 항에 있어서, 상기 점착 강화층은 자기 조립 단분자층(Self-Assembled Monolayer) 또는 폴리머 접착제층인 것을 특징으로 하는 계층화 구조물의 제조 방법
26 26
제 14 항에 있어서, 상기 제 2 블럭의 크기는 상기 제 1 블럭의 크기보다 5배 내지 100배 큰 것을 특징으로 하는 계층화 구조물의 제조 방법
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계층화 구조물의 제조 방법에 있어서, (A) 나노 스케일 영역의 특성 길이를 가지는 적어도 하나 이상의 제 1 블럭(Block) 및 상기 제 1 블럭의 크기보다 큰 적어도 하나 이상의 제 2 블럭을 형성하는 단계; (B) 모재(Substrate) 상에 상기 제 2 블럭을 부착하며, 상기 제 2 블럭 상에 상기 제 1 블럭을 부착하는 단계; 및 (C) 상기 모재를 분리하는 단계;를 포함하며, 상기 (B) 단계는, (B1) 상기 제 2 블럭 또는 제 1 블럭을 척(chuck)을 이용하여 상기 모재 또는 제 2 블럭 상에 부착하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 계층화 구조물의 제조 방법
28 28
제 27 항에 있어서, 상기 제 2 블럭의 크기는 상기 제 1 블럭의 크기보다 5배 내지 100배 큰 것을 특징으로 하는 계층화 구조물의 제조 방법
29 29
삭제
30 30
제 27 항에 있어서, 상기 (B) 단계는, (B2) 상기 제 2 블럭을 부착하기 전 상기 모재 상에 점착 강화층을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 계층화 구조물의 제조 방법
31 31
제 30 항에 있어서, 상기 점착 강화층은 자기 조립 단분자층(Self-Assembled Monolayer) 또는 폴리머 접착제층인 것을 특징으로 하는 계층화 구조물의 제조 방법
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1 과학기술부 한국기계연구원 21세기 프론티어 사업 10nm급 측정 원천기술개발