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비휘발성 메모리 소자 및 그 제조방법(ONE TRANSISTOR-TYPE NONVOLATILE MEMORY DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME)

  • 기술번호 : KST2016006120
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 한 가지 양태에 따라서, 기판을 제공하는 단계; 소스-드레인 전극을 형성하는 단계; 채널 층을 형성하는 단계; 상기 채널 층 상에 이온성 액체-고분자 복합체 박막을 형성하는 단계; 게이트 전극을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 이온성 액체-고분자 복합체 박막은 이온성 액체와 절연성 고분자의 혼합 용액으로부터 형성되며, 상기 이온-고분자 복합체 박막은 절연막 및 전하 저장층으로 이용되는 것을 특징으로 하는 비휘발성 메모리 소자 제조 방법이 제공된다.
Int. CL H01L 21/8247 (2006.01) H01L 27/115 (2006.01) H01L 29/788 (2006.01)
CPC H01L 21/8239(2013.01)
출원번호/일자 1020140092498 (2014.07.22)
출원인 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1603502-0000 (2016.03.09)
공개번호/일자 10-2016-0011741 (2016.02.02) 문서열기
공고번호/일자 (20160316) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.07.22)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박철민 대한민국 서울특별시 마포구
2 황선각 대한민국 서울특별시 서대문구
3 박태준 대한민국 서울특별시 영등포구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김승욱 대한민국 서울특별시 서초구 강남대로 ***, ***호(서초동, 두산베어스텔)(아이피마스터특허법률사무소)
2 이채형 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길 ** (대치동 동구빌딩 *층) Neo국제특허법률사무소

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 서울특별시 서대문구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.07.22 수리 (Accepted) 1-1-2014-0687804-46
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.09.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5114224-78
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2015.03.10 수리 (Accepted) 1-1-2015-0231160-69
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2015.03.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2015.05.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2015-0032743-24
6 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2015.07.24 수리 (Accepted) 1-1-2015-0721089-29
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.08.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0555888-34
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.10.16 수리 (Accepted) 1-1-2015-0999698-11
9 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.11.16 수리 (Accepted) 1-1-2015-1111516-62
10 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.12.15 수리 (Accepted) 1-1-2015-1225396-64
11 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2016.01.18 수리 (Accepted) 1-1-2016-0052537-14
12 지정기간연장 관련 안내서
Notification for Extension of Designated Period
2016.01.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2016-0008512-90
13 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.02.12 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0139701-68
14 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.02.12 수리 (Accepted) 1-1-2016-0139696-16
15 등록결정서
Decision to grant
2016.02.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0140818-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판을 제공하는 단계;소스-드레인 전극을 형성하는 단계;채널 층을 형성하는 단계;상기 채널 층 상에 이온성 액체-고분자 복합체 박막을 형성하는 단계;게이트 전극을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 이온성 액체-고분자 복합체 박막은 이온성 액체와 절연성 고분자의 혼합 용액으로부터 형성되며, 상기 이온성 액체-고분자 복합체 박막은 절연막 및 전하 저장층으로 이용되고, 상기 이온성 액체-고분자 복합체 박막에서 상기 이온성 액체가 고분자 중에 혼입되어 고분자 절연막의 커패시턴스를 증대시키며, 상기 이온성 액체-고분자 복합체 박막과 채널 층 사이의 계면에서 음이온과 양이온이 게이트 바이어스에 따라 포집 및 탈포집되는 것을 특징으로 하는 비휘발성 메모리 소자 제조 방법
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
청구항 1에 있어서, 상기 채널 층은 폴리(3-헥실씨오펜)(P3HT), pentacene, 6,13-bis(triisopropylsilylethynyl) pentacene (TIPS-pentacene), poly-[bis(4-phenyl)(2,4,6-trimethylphenyl)amine] (PTAA), fullerene, poly(benzimidazobenzophenanthroline)(BBL) 및 poly{[N,N9-bis(2-octyldodecyl)-naphthalene-1,4,5,8-bis(dicarboximide)-2,6-diyl]-alt-5,59-(2,29-bithiophene)} (P(NDI2OD-T2))을 포함하는 군에서 선택되는 재료를 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 비휘발성 메모리 소자 제조 방법
5 5
청구항 4에 있어서, 상기 이온성 액체-고분자 복합체 박막의 고분자는 poly(vinylidene fluoride-co-trifluoroethylene) (PVDF-TrFE), poly(vinylidene fluoride- co-hexafluoropropylene) (PVDF-HFP) 또는 poly(vinylidene-fluoride-trifluoroethylene-chlorotrifluoroethylene) (PVDF-TrFE-CTFE)인 것을 특징으로 하는 비휘발성 메모리 소자 제조 방법
6 6
청구항 5에 있어서, 상기 이온성 액체-고분자 복합체 박막의 이온성 액체는 1-ethyl-3-methylimidazolium bis(trifluoromethylsulfonyl) amide ([EMI][TFSA]), LiTFSI, lithium bis(trifluoromethylsulfonyl)imide (LiTFSI), 1-butyl-3-methylimidazolium hexafluorophosphate ([BMIM]BF6) 및 1-ethyl-3-methylimidazolium n-octylsulfate([EMIM]OctOSO3)를 포함하는 군으로부터 선택되는 이온성 액체인 것을 특징으로 하는 비휘발성 메모리 소자 제조 방법
7 7
청구항 1에 있어서, 상기 비휘발성 메모리 소자는 1T(one transistor)-형 비휘발성 메모리 소자인 것을 특징으로 하는 비휘발성 메모리 소자 제조 방법
8 8
1T(one transistor)-형 비휘발성 메모리 소자로서,기판과,상기 기판 상에 형성된 소스-드레인 전극과;채널 층과;상기 채널 층 상에 형성된 이온성 액체-고분자 복합체 박막과;상기 박막 상에 형성된 게이트 전극을 포함하고, 상기 이온성 액체-고분자 복합체 박막은 이온성 액체와 절연성 고분자의 혼합 용액으로부터 형성되며, 상기 이온성 액체-고분자 복합체 박막은 절연막 및 전하 저장층으로 이용되고, 상기 이온성 액체-고분자 복합체 박막에서 상기 이온성 액체가 고분자 중에 혼입되어 고분자 절연막의 커패시턴스를 증대시키며, 상기 이온성 액체-고분자 복합체 박막과 채널 층 사이의 계면에서 음이온과 양이온이 게이트 바이어스에 따라 포집 및 탈포집되는 것을 특징으로 하는 1T-형 비휘발성 메모리 소자
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삭제
10 10
삭제
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청구항 8에 있어서, 상기 채널 층은 P3HT, pentacene, TIPS-pentacene, PTAA, fullerene, BBL 및 P(NDI2OD-T2)을 포함하는 군에서 선택되는 재료를 이용하여를 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 1T-형 비휘발성 메모리 소자
12 12
청구항 11에 있어서, 상기 이온성 액체-고분자 복합체 박막의 고분자는 PVDF-TrFE, PVDF-HFP 또는 PVDF-TrFE-CTFE인 것을 특징으로 하는 1T-형 비휘발성 메모리 소자
13 13
청구항 12에 있어서, 상기 이온성 액체-고분자 복합체 박막의 이온성 액체는 EMI[TFSA], LiTFSI, [BMIM]BF6 및 [EMIM]OctOSO3를 포함하는 군에서 선택되는 이온성 액체인 것을 특징으로 하는 1T-형 비휘발성 메모리 소자
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.