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나노탄소를 산화제와 혼합하여 산화 나노탄소를 제공하는 단계;상기 산화 나노탄소를 용매와 혼합하여 분산액을 제공하는 단계;상기 분산액에서 상기 용매를 제거하고 건조시켜 나노탄소 필름을 제조하는 단계; 및상기 나노탄소 필름을 염기성 세척액으로 세척하는 단계를 포함하는, 산화된 나노탄소 기반의 투명 전도성 필름의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 나노탄소 필름을 기판에 전사하는 단계; 및상기 기판을 열처리하는 단계를 더 포함하는, 산화된 나노탄소 기반의 투명 전도성 필름의 제조방법
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제2항에 있어서,상기 열처리하는 단계는,80 ℃ 내지 200 ℃에서 1분 내지 5분 동안 가열하는, 산화된 나노탄소 기반의 투명 전도성 필름의 제조방법
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제2항에 있어서,상기 기판 일면에 전사된 상기 나노탄소 필름에 화합물을 도핑하는 단계를 더 포함하는, 산화된 나노탄소 기반의 투명 전도성 필름의 제조방법
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제4항에 있어서,상기 화합물은, 질산, 황산, 염화티오닐(Thionyl Chloride) 및 염화 금(Gold Chloride) 중 하나를 포함하는, 산화된 나노탄소 기반의 투명 전도성 필름의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 산화 나노탄소는 산화 탄소나노튜브, 그래핀 옥사이드, 산화 그래핀 나노리본 중 하나를 포함하는, 산화된 나노탄소 기반의 투명 전도성 필름의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 산화제는, 질산, 황산, 과망간산칼륨, 과산화수소 중 하나를 포함하는, 산화된 나노탄소 기반의 투명 전도성 필름의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 산화 나노탄소를 제공하는 단계는,상기 나노탄소를 상기 산화제에 1mg/ml 내지 7mg/ml 범위로 혼합하여, 60℃ 내지 110℃ 의 온도범위에서 1시간 내지 120시간 동안 산화 공정이 진행되는, 산화된 나노탄소 기반의 투명 전도성 필름의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 산화 나노탄소를 제공하는 단계 이후,상기 산화 나노탄소와 혼합된 산성 물질을 제거하는 단계를 더 포함하는, 산화된 나노탄소 기반의 투명 전도성 필름의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 분산액을 제공하는 단계는,상기 분산액을 초음파 처리하는 단계를 포함하는, 산화된 나노탄소 기반의 투명 전도성 필름의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 용매는,증류수, N,N-디메틸포름아미드 (N,N-dimethylformamide), 디클로로벤젠(Dichlorobenzene), 테트라히드로퓨란(Tetrahydrofuran), N-메틸-2-피롤리돈(N-methyl-2-pyrrolidone) 및 클로로포름(Chloroform) 중 하나를 포함하는, 산화된 나노탄소 기반의 투명 전도성 필름의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 나노탄소 필름을 제조하는 단계는,상기 분산액을 감압여과장치에 투입하여 상기 용매를 제거하는 단계를 포함하고,상기 감압여과장치 내의 여과막은, 양극 산화알루미늄(Anodic Aluminum Oxide), 초산염 셀룰로오스(Cellulose Acetate) 및 질산염 셀룰로오스(Cellulose Nitrate) 중 하나를 포함하는, 산화된 나노탄소 기반의 투명 전도성 필름의 제조방법
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제12항에 있어서,상기 나노탄소 필름을 제조하는 단계는,상기 여과막을 화학적 방법을 통해 제거하는 단계를 더 포함하는, 산화된 나노탄소 기반의 투명 전도성 필름의 제조방법
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제13항에 있어서,상기 여과막은 양극 산화알루미늄이고,상기 화학적 방법을 통해 제거하는 단계는, 1M 내지 5M 농도의 강염기 수용액에 상기 여과막을 침지하는, 산화된 나노탄소 기반의 투명 전도성 필름의 제조방법
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