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입자 생성 및 성장 현상 판독 장치 및 방법(Device and Method for Classification of New Particle Formation and Growth Events)

  • 기술번호 : KST2016011893
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 입자 생성 및 성장 현상 판독 장치 및 방법에 관한 것으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 입자 생성 및 성장 현상 판독 방법은, 에어로졸의 입경별 수농도를 측정하는 에어로졸 측정 단계; 상기 측정된 에어로졸의 입경별 수농도를, 핵생성 모드 에어로졸의 제1 구간의 제1 데이터와 에이트킨 모드 이상의 에어로졸의 제2 구간의 제2 데이터 및 상기 제1 및 제2 구간의 제3 데이터로 구분하여 산출하는 데이터 산출 단계; 및 상기 제1 내지 제3 데이터에 기초하여 입자 생성 및 성장 현상을 판독하는 데이터 분석 단계를 포함한다.
Int. CL G01N 15/02 (2006.01) G01N 27/02 (2006.01) G01N 21/17 (2006.01)
CPC G01N 15/02(2013.01) G01N 15/02(2013.01) G01N 15/02(2013.01)
출원번호/일자 1020140179593 (2014.12.12)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-1649993-0000 (2016.08.16)
공개번호/일자 10-2016-0071868 (2016.06.22) 문서열기
공고번호/일자 (20160822) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.12.12)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김진영 대한민국 서울특별시 성북구
2 김유미 대한민국 서울특별시 성북구
3 김상우 대한민국 서울특별시 관악구
4 김광열 미국 서울특별시 관악구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김 순 영 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 **, **층 케이씨엘특허법률사무소 (수송동, 석탄회관빌딩)
2 김영철 대한민국 서울특별시 종로구 종로*길 **, **층 케이씨엘특허법률사무소 (수송동, 석탄회관빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2014.12.12 수리 (Accepted) 1-1-2014-1211643-30
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2015.08.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2015.10.08 수리 (Accepted) 9-1-2015-0064905-57
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2016.03.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0222526-46
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2016.05.25 수리 (Accepted) 1-1-2016-0504000-33
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2016.05.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0504133-07
7 등록결정서
Decision to grant		 2016.08.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0569372-05
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
에어로졸의 입경별 수농도를 측정하는 에어로졸 측정부; 및상기 측정된 입경별 수농도를 핵생성 모드 에어로졸의 제1 구간의 제1 데이터와 에이트킨 모드 이상의 에어로졸의 제2 구간의 제2 데이터 및 상기 제1 및 제2 구간의 제3 데이터로 구분하여 산출하는 데이터 산출부와,상기 제1 데이터 내지 제3 데이터를 주기적 정상 경험 직교함수(CSEOF) 분석에 의한 주기적 정상 로딩 벡터(CSLV)와 주성분의 시계열(PC time series)로 나누고, 상기 제1 데이터에 제2 데이터를 회귀시켜 분석하고, 상기 제1 데이터의 주성분의 시계열의 진폭 그래프에서 진폭이 "0"보다 큰 경우 "핵생성 모드의 에어로졸 생성(NAF)"으로 분류하고, "0"이하인 경우 "핵생성 모드의 에어로졸 비-생성(non-NAF)"로 분류하고, 상기 제3 데이터의 주성분의 시계열의 진폭 그래프에서 진폭이 "0"보다 큰 경우 "에이트킨 모드 이상의 에어로졸 성장(AAG)"으로 분류하고, "0"이하인 경우 "에이트킨 모드 이상의 에어로졸 비-성장(non-AAG)"로 분류하는 데이터 분석부를 포함하는 정보 처리부를 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 생성 및 성장 현상 판독 장치
2 2
삭제
3 3
에어로졸의 입경별 수농도를 측정하는 에어로졸 측정 단계;상기 측정된 에어로졸의 입경별 수농도를, 핵생성 모드 에어로졸의 제1 구간의 제1 데이터와 에이트킨 모드 이상의 에어로졸의 제2 구간의 제2 데이터 및 상기 제1 및 제2 구간의 제3 데이터로 구분하여 산출하는 데이터 산출 단계; 및상기 제1 데이터 내지 제3 데이터를 주기적 정상 경험 직교함수(CSEOF) 분석에 의한 주기적 정상 로딩 벡터(CSLV)와 주성분의 시계열(PC time series)로 나누고, 상기 제1 데이터에 제2 데이터를 회귀시켜 분석하고, 상기 제1 데이터의 주성분의 시계열의 진폭 그래프에서 진폭이 "0"보다 큰 경우 "핵생성 모드의 에어로졸 생성(NAF)"으로 분류하고, "0"이하인 경우 "핵생성 모드의 에어로졸 비-생성(non-NAF)"로 분류하고, 상기 제3 데이터의 주성분의 시계열의 진폭 그래프에서 진폭이 "0"보다 큰 경우 "에이트킨 모드 이상의 에어로졸 성장(AAG)"으로 분류하고, "0"이하인 경우 "에이트킨 모드 이상의 에어로졸 비-성장(non-AAG)"로 분류하는 데이터 분석 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 생성 및 성장 현상 판독 방법
4 4
삭제
5 5
삭제
6 6
제 3 항에 있어서,상기 제1 데이터의 진폭이 "0"보다 큰 경우, 상기 제1 데이터의 진폭이 기 설정된 제1 기준값보다 큰 경우, "강한-생성"으로 분류하고, 상기 제1 데이터의 진폭이 상기 제1 기준값 이하인 경우, "약한-생성"으로 분류하는 것을 특징으로 하는 입자 생성 및 성장 현상 판독 방법
7 7
삭제
8 8
제 3 항에 있어서,상기 제3 데이터의 진폭이 "0"보다 큰 경우, 상기 제3 데이터의 진폭이 기 설정된 제2 기준값보다 큰 경우, "강한-성장"으로 분류하고, 상기 제3 데이터의 진폭이 상기 제2 기준값 이하인 경우, "약한-성장 "으로 분류하는 것을 특징으로 하는 입자 생성 및 성장 현상 판독 방법
9 9
제 6 항 또는 제 8 항에 있어서,상기 제1 기준값 또는 제2 기준값은 각각의 데이터가 관측된 날들의 진폭의 평균값인 것을 특징으로 하는 입자 생성 및 성장 현상 판독 방법
10 10
제 3 항에 있어서,상기 제1 또는 제3 데이터의 진폭은, 각각의 데이터가 관측된 날들의 기 설정된 시간 내의 진폭을 기준으로 하는 것을 특징으로 하는 입자 생성 및 성장 현상 판독 방법
11 11
제 3 항에 있어서,상기 제1 구간은 25 nm 미만의 입경을 갖는 입자들을 포함하고,상기 제2 구간은 25 nm 내지 1
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.