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스템프 몰드의 제작방법(Method for Fabricating Stamp Mold)

  • 기술번호 : KST2017006241
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 매크로 프리패턴이 형성된 기판에 마스크 물질을 증착하거나 기판에 마스크 물질을 도포한 다음 매크로 프리패턴을 형성한 후, 에칭을 통하여 마스크 물질을 매크로 프리패턴의 측면에 재증착시키고, 매크로 프리패턴을 제거하여 마스크 물질 패턴을 형성시키는 스템프 몰드의 제작방법에 관한 것으로, 고가의 장비를 이용하는 기존의 전자빔(electron-beam)을 이용한 스템프 제작방식에 비해 공정비용이 저렴하고 생산효율성이 높으며, 병렬식 나노패턴을 구현할 수 있고, 대면적 기판에도 적용할 수 있는 10 nm대 초고해상도의 스템프 몰드를 제작할 수 있다.
Int. CL G03F 7/00 (2015.10.22) G03F 7/16 (2015.10.22) H01L 21/033 (2015.10.22) H01L 21/3065 (2015.10.22)
CPC G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01)
출원번호/일자 1020150128278 (2015.09.10)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2017-0030848 (2017.03.20) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.09.10)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정희태 대한민국 대전광역시 유성구
2 장성우 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 장제환 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, **층 (역삼동, 윤익빌딩)(*T국제특허법률사무소)
2 이처영 대한민국 서울특별시 강남구 언주로 ***, **층 (역삼동, 윤익빌딩)(*T국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2015.09.10 수리 (Accepted) 1-1-2015-0881354-32
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2016.05.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2016.06.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2016-0068589-11
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.06.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0420031-47
5 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2016.06.27 수리 (Accepted) 1-1-2016-0620677-10
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.08.09 수리 (Accepted) 1-1-2016-0773561-66
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.08.09 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0773562-12
8 심사처리보류(연기)보고서
Report of Deferment (Postponement) of Processing of Examination
2016.12.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2016-0174494-81
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2017.02.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0108413-89
10 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2017.03.10 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2017-0240105-48
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.03.10 수리 (Accepted) 1-1-2017-0240104-03
12 등록결정서
Decision to Grant Registration
2017.03.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0215880-64
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
다음 단계를 포함하는 스템프 몰드의 제작방법:(a) 매크로 프리패턴이 형성된 기판에 마스크 물질을 증착하는 단계;(b) 에칭을 통하여 상기 마스크 물질을 상기 매크로 프리패턴의 측면에 재증착시키는 단계;(c) 상기 매크로 프리패턴을 제거하여 마스크 물질 패턴을 형성하는 단계;(d) 상기 형성된 마스크 물질 패턴을 마스크로 하여 기판을 에칭하는 단계; 및(e) 상기 형성된 마스크 물질 패턴을 제거하는 단계,상기 에칭은 밀링으로 수행하고, 0
2 2
다음 단계를 포함하는 스템프 몰드의 제작방법:(a) 기판에 마스크 물질을 도포한 다음, 매크로 프리패턴을 형성하는 단계; (b) 에칭을 통하여 상기 마스크 물질을 상기 매크로 프리패턴의 측면에 재증착시키는 단계;(c) 상기 매크로 프리패턴을 제거하여 마스크 물질 패턴을 형성하는 단계;(d) 상기 형성된 마스크 물질 패턴을 마스크로 하여 기판을 에칭하는 단계; 및(e) 상기 형성된 마스크 물질 패턴을 제거하는 단계,상기 에칭은 밀링으로 수행하고, 0
3 3
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4 4
삭제
5 5
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 (a) 단계에서 프리패턴은 45~90°의 각도를 갖는 것을 특징으로 하는 스템프 몰드의 제작방법
6 6
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 매크로 프리패턴은 기판 상에 프리패턴 물질을 증착시키고 리소그래피 또는 임프린팅 공정을 수행하여 형성하는 것을 특징으로 하는 스템프 몰드의 제작방법
7 7
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8 8
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9 9
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10 10
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 스템프 몰드는 나노임프린트, 리소그래피 또는 마스크 용도인 것을 특징으로 하는 스템프 몰드의 제작방법
11 11
삭제
12 12
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 한국과학기술원 원천기술개발사업〉글로벌프론티어연구개발사업〉나노기반소프트일렉트로닉스연구 2차 스퍼터링 현상을 이용한 유연기판 용 10nm대 나노패터닝 공정기술의 개발
2 미래창조과학부 한국과학기술원 도약연구지원사업 새로운 방식의 나노패턴 기술 개발과 응용