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고분자 몰드를 이용하여 다양한 미세 패턴을 형성하는 방법
- 기술번호 : KST2014012437
- 담당센터 : 대전기술혁신센터
- 전화번호 : 042-610-2279
| 요약 | 본 발명은 고분자 몰드를 이용하여 다양한 미세패턴을 형성하는 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, (a) 양각의 패턴을 갖는 실리콘 몰드에 고분자 용액을 주입하고 경화처리하여 고분자 복제몰드를 형성하는 단계; (b) 미세패턴이 형성될 기판상에 고분자 박막을 형성하는 단계; (c) 상기 (b)단계의 고분자 박막 상에 상기 (a)단계에서 수득된 고분자 복제몰드를 접촉시킨 다음 열처리하는 단계; (d) 상기 (c)단계의 고분자 복제 몰드를 분리하여 고분자 박막의 미세패턴을 형성하는 단계; 및 (e) 상기 (d)단계에서 형성된 고분자 박막의 미세패턴을 식각하여 다양한 형태 및 크기의 고분자 미세패턴을 형성하는 단계를 포함하는 고분자 몰드를 이용한 다양한 형태 및 크기의 미세패턴 제조방법에 관한 것이다.본 발명은 하나의 고분자 몰드를 이용하여 기본 몰드가 가진 패턴에서 새롭고 다양화된 패턴을 제공하는 효과가 있다. 본 발명은 또한 패턴의 제작 공정에 따라서 마이크로미터 수준의 패턴을 나노미터 수준의 패턴으로 만들어 줄 수 있으며 이는 기존 패턴의 제작 단가에서 획기적인 절감을 가져오는 효과를 갖는다.나노패턴, PDMS, 캐필러리 리쏘그래피, 나노임프린트 |
|---|---|
| Int. CL | B82Y 40/00 (2011.01) G03F 7/00 (2011.01) H01L 21/027 (2011.01) |
| CPC | G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) |
| 출원번호/일자 | 1020070073233 (2007.07.23) |
| 출원인 | 한국과학기술원 |
| 등록번호/일자 | 10-0879790-0000 (2009.01.14) |
| 공개번호/일자 | |
| 공고번호/일자 | (20090122) 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 소멸 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2007.07.23) |
| 심사청구항수 | 20 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 정희태 | 대한민국 | 대전 유성구 |
| 2 | 정진미 | 대한민국 | 대전 유성구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 이처영 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 언주로 ***, **층 (역삼동, 윤익빌딩)(*T국제특허법률사무소) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 한국과학기술원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2007.07.23 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0530167-92 |
| 2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2008.05.02 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2008.06.11 | 수리 (Accepted) | 9-1-2008-0035006-15 |
| 4 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2008.07.25 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0389403-89 |
| 5 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2008.09.22 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2008-0665292-57 |
| 6 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2008.09.22 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0665268-61 |
| 7 | 등록결정서 Decision to grant |
2009.01.09 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2009-0011232-04 |
| 8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
| 9 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 10 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 14 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 다음의 단계를 포함하는, 고분자 몰드를 이용한 다양한 형태와 크기를 가지는 미세패턴의 제조방법:(a) 양각의 패턴을 갖는 실리콘 몰드에 경성 PDMS를 형성하는 모노머, 촉매 및 개시제의 혼합용액을 스핀코팅한 후, 연성 PDMS를 형성하는 모노머 및 개시제를 혼합한 용액을 주입한 다음 경화처리 하여 연성 PDMS(polydimethylsiloxane)와 경성 PDMS 복합체 몰드를 형성하는 단계;(b) 미세패턴이 형성될 기판상에 고분자 박막을 형성하는 단계;(c) 상기 (b)단계의 고분자 박막 상에 상기 (a)단계에서 수득된 연성 PDMS와 경성 PDMS 복합체 몰드를 접촉시킨 다음 열처리하는 단계; (d) 상기 (c)단계의 연성 PDMS와 경성 PDMS 복합체 몰드를 분리하여 고분자 박막의 미세패턴을 형성하는 단계; 및(e) 상기 (d)단계에서 형성된 고분자 박막의 미세패턴을 식각하여 다양한 형태 및 크기의 고분자 미세패턴을 형성하는 단계 |
| 2 |
2 제1항에 있어서, 상기 (a)단계의 실리콘 몰드의 패턴은 가로 및 세로의 길이가 다른 형상인 것을 특징으로 하는 방법 |
| 3 |
3 제1항에 있어서, 상기 (a)단계의 실리콘 몰드의 패턴은 타원형 또는 직사각형인 것을 특징으로 하는 방법 |
| 4 |
4 삭제 |
| 5 |
5 삭제 |
| 6 |
6 제1항에 있어서, 상기 (b)단계의 고분자 박막의 유리전이온도는 PDMS 몰드의 유리전이온도 미만인 것을 특징으로 하는 방법 |
| 7 |
7 제1항에 있어서, 상기 (b)단계의 고분자 박막은 폴리스타이렌(polystyrene, PS)박막인 것을 특징으로 하는 방법 |
| 8 |
8 제1항에 있어서, 상기 (b)단계의 고분자 박막의 두께에 따라 상기 미세패턴의 크기 및 모양을 조절하는 것을 특징으로 하는 방법 |
| 9 |
9 제1항에 있어서, 상기 (c)단계의 열처리는 고분자 박막의 유리전이온도 이상으로 가열하여 수행되는 것을 특징으로 하는 방법 |
| 10 |
10 제1항에 있어서, 상기 (e)단계의 식각은 반응성 이온 식각인 것을 특징으로 하는 방법 |
| 11 |
11 제1항에 있어서, 상기 (e)단계의 식각 지속시간에 따라 상기 미세패턴의 크기 및 모양을 조절하는 것을 특징으로 하는 방법 |
| 12 |
12 다음의 단계를 포함하는, 고분자 몰드를 이용하여 실리콘 기판에 다양한 형태와 크기를 갖는 미세패턴을 제조하는 방법:(a) 양각의 패턴을 갖는 실리콘 몰드에 경성 PDMS를 형성하는 모노머, 촉매 및 개시제의 혼합용액을 스핀코팅한 후, 연성 PDMS를 형성하는 모노머 및 개시제를 혼합한 용액을 주입한 다음 경화처리 하여 연성 PDMS와 경성 PDMS 복합체 몰드를 형성하는 단계;(b) 미세패턴이 형성될 기판상에 실리콘 박막을 형성하여 실리콘 기판을 제조하는 단계;(c) 상기 (b)단계의 실리콘 기판상에 고분자 박막을 형성하는 단계;(d) 상기 (c)단계의 고분자 박막 상에 상기 (a)단계에서 수득된 연성 PDMS와 경성 PDMS 복합체 몰드를 접촉시킨 다음 열처리하는 단계;(e) 상기 (d)단계의 연성 PDMS와 경성 PDMS 복합체 몰드를 분리하여 고분자 박막의 미세패턴을 형성하는 단계; (f) 상기 (e)단계에서 형성된 고분자 박막의 미세패턴을 식각하여 다양한 형태 및 크기의 고분자 미세패턴을 형성하는 단계; 및(g) 상기 (f)단계에서 형성된 고분자 미세패턴을 마스크로 하여 이온 식각공정을 통해 상기 미세패턴을 실리콘 기판으로 전이시키는 단계 |
| 13 |
13 다음의 단계를 포함하는, 고분자 몰드를 이용하여 세라믹 기판에 다양한 형태와 크기를 갖는 미세패턴을 제조하는 방법:(a) 양각의 패턴을 갖는 실리콘 몰드에 경성 PDMS를 형성하는 모노머, 촉매 및 개시제의 혼합용액을 스핀코팅한 후, 연성 PDMS를 형성하는 모노머 및 개시제를 혼합한 용액을 주입한 다음 경화처리 하여 연성 PDMS와 경성 PDMS 복합체 몰드를 형성하는 단계;(b) 미세패턴이 형성될 기판상에 세라믹 박막을 형성하여 세라믹 기판을 제조하는 단계;(c) 상기 (b)단계의 세라믹 기판상에 고분자 박막을 형성하는 단계;(d) 상기 (c)단계의 고분자 박막 상에 상기 (a)단계에서 수득된 연성 PDMS와 경성 PDMS 복합체 몰드를 접촉시킨 다음 열처리하는 단계;(e) 상기 (d)단계의 연성 PDMS와 경성 PDMS 복합체 몰드를 분리하여 고분자 박막의 미세패턴을 형성하는 단계; (f) 상기 (e)단계에서 형성된 고분자 박막의 미세패턴을 식각하여 다양한 형태 및 크기의 고분자 미세패턴을 형성하는 단계; 및(g) 상기 (f)단계에서 형성된 고분자 미세패턴을 마스크로 하여 이온 식각공정을 통해 상기 미세패턴을 세라믹 기판으로 전이시키는 단계 |
| 14 |
14 다음의 단계를 포함하는, 고분자 몰드를 이용하여 금속 기판에 다양한 형태와 크기를 갖는 미세패턴을 제조하는 방법:(a) 양각의 패턴을 갖는 실리콘 몰드에 경성 PDMS를 형성하는 모노머, 촉매 및 개시제의 혼합용액을 스핀코팅한 후, 연성 PDMS를 형성하는 모노머 및 개시제를 혼합한 용액을 주입한 다음 경화처리 하여 연성 PDMS와 경성 PDMS 복합체 몰드를 형성하는 단계;(b) 미세패턴이 형성될 기판상에 금속 박막을 형성하여 금속 기판을 제조하는 단계;(c) 상기 (b)단계의 금속 기판상에 고분자 박막을 형성하는 단계;(d) 상기 (c)단계의 고분자 박막 상에 상기 (a)단계에서 수득된 연성 PDMS와 경성 PDMS 복합체 몰드를 접촉시킨 다음 열처리하는 단계;(e) 상기 (d)단계의 연성 PDMS와 경성 PDMS 복합체 몰드를 분리하여 고분자 박막의 미세패턴을 형성하는 단계; (f) 상기 (e)단계에서 형성된 고분자 박막의 미세패턴을 식각하여 다양한 형태 및 크기의 고분자 미세패턴을 형성하는 단계; 및(g) 상기 (f)단계에서 형성된 고분자 미세패턴을 마스크로 하여 이온 밀링공정을 통해 상기 미세패턴을 금속 기판으로 전이시키는 단계 |
| 15 |
15 제12항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 (a)단계의 실리콘 몰드의 패턴은 가로 및 세로의 길이가 다른 형상인 것을 특징으로 하는 방법 |
| 16 |
16 제12항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 (a)단계의 실리콘 몰드의 패턴은 타원형 또는 직사각형인 것을 특징으로 하는 방법 |
| 17 |
17 삭제 |
| 18 |
18 삭제 |
| 19 |
19 제12항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 (c)단계의 고분자 박막의 유리전이온도는 PDMS 몰드의 유리전이온도 미만인 것을 특징으로 하는 방법 |
| 20 |
20 제12항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 (c)단계의 고분자 박막은 PS(polystyrene) 박막인 것을 특징으로 하는 방법 |
| 21 |
21 제12항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 (c)단계의 고분자 박막의 두께에 따라 상기 미세패턴의 크기 및 모양을 조절할 수 있는 것을 특징으로 하는 방법 |
| 22 |
22 제12항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 (d)단계의 열처리는 고분자 박막의 유리전이온도 이상으로 가열하여 수행되는 것을 특징으로 하는 방법 |
| 23 |
23 제12항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 (f)단계의 식각은 반응성 이온 식각인 것을 특징으로 하는 방법 |
| 24 |
24 제12항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 (f)단계의 식각 지속시간에 따라 상기 미세패턴의 크기 및 모양을 조절할 수 있는 것을 특징으로 하는 방법 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 패밀리정보가 없습니다 |
|---|
| 국가 R&D 정보가 없습니다. |
|---|
| 공개전문 정보가 없습니다 |
|---|
- 본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
- 데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
- 법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.
| 특허 등록번호 | 10-0879790-0000 |
|---|
권리란
| 표시번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
출원 연월일 : 20070723 출원 번호 : 1020070073233 공고 연월일 : 20090122 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20090109 청구범위의 항수 : 20 유별 : H01L 21/027 발명의 명칭 : 고분자 몰드를 이용하여 다양한 미세 패턴을 형성하는 방법 존속기간(예정)만료일 : 20140115 |
특허권자란
| 순위번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
(권리자) 한국과학기술원 대전광역시 유성구... |
등록료란
| 제 1 - 3 년분 | 금 액 | 412,500 원 | 2009년 01월 15일 | 납입 |
| 제 4 년분 | 금 액 | 480,000 원 | 2012년 01월 11일 | 납입 |
| 제 5 년분 | 금 액 | 480,000 원 | 2013년 01월 08일 | 납입 |
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| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 | 2007.07.23 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0530167-92 |
| 2 | 선행기술조사의뢰서 | 2008.05.02 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 3 | 선행기술조사보고서 | 2008.06.11 | 수리 (Accepted) | 9-1-2008-0035006-15 |
| 4 | 의견제출통지서 | 2008.07.25 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0389403-89 |
| 5 | [명세서등 보정]보정서 | 2008.09.22 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2008-0665292-57 |
| 6 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2008.09.22 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0665268-61 |
| 7 | 등록결정서 | 2009.01.09 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2009-0011232-04 |
| 8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.02.01 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5019983-17 |
| 9 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157968-69 |
| 10 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5157993-01 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2014.12.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2014-5158129-58 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.04.24 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5081392-49 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5108396-12 |
| 14 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.06.12 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5131486-63 |
| 기술번호 | KST2014012437 |
|---|---|
| 자료제공기관 | NTB |
| 기술공급기관 | 한국과학기술원 |
| 기술명 | 고분자 몰드를 이용하여 다양한 미세 패턴을 형성하는 방법 |
| 기술개요 |
본 발명은 고분자 몰드를 이용하여 다양한 미세패턴을 형성하는 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, (a) 양각의 패턴을 갖는 실리콘 몰드에 고분자 용액을 주입하고 경화처리하여 고분자 복제몰드를 형성하는 단계; (b) 미세패턴이 형성될 기판상에 고분자 박막을 형성하는 단계; (c) 상기 (b)단계의 고분자 박막 상에 상기 (a)단계에서 수득된 고분자 복제몰드를 접촉시킨 다음 열처리하는 단계; (d) 상기 (c)단계의 고분자 복제 몰드를 분리하여 고분자 박막의 미세패턴을 형성하는 단계; 및 (e) 상기 (d)단계에서 형성된 고분자 박막의 미세패턴을 식각하여 다양한 형태 및 크기의 고분자 미세패턴을 형성하는 단계를 포함하는 고분자 몰드를 이용한 다양한 형태 및 크기의 미세패턴 제조방법에 관한 것이다.본 발명은 하나의 고분자 몰드를 이용하여 기본 몰드가 가진 패턴에서 새롭고 다양화된 패턴을 제공하는 효과가 있다. 본 발명은 또한 패턴의 제작 공정에 따라서 마이크로미터 수준의 패턴을 나노미터 수준의 패턴으로 만들어 줄 수 있으며 이는 기존 패턴의 제작 단가에서 획기적인 절감을 가져오는 효과를 갖는다.나노패턴, PDMS, 캐필러리 리쏘그래피, 나노임프린트 |
| 개발상태 | 기술개발완료 |
| 기술의 우수성 | |
| 응용분야 | 반도체 |
| 시장규모 및 동향 | |
| 희망거래유형 | 기술매매,라이센스, |
| 사업화적용실적 | |
| 도입시고려사항 |
| 과제고유번호 | 1355047999 |
|---|---|
| 세부과제번호 | R0A-2007-000-20037-0 |
| 연구과제명 | 바이오물질이고정된나노튜브다층막의전기적특성연구 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국과학재단 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2007 |
| 연구기간 | 200707~201206 |
| 기여율 | 0.5 |
| 연구개발단계명 | 응용연구 |
| 6T분류명 | BT(생명공학기술) |
| 과제고유번호 | 1355048408 |
|---|---|
| 세부과제번호 | kaist27 |
| 연구과제명 | 생체모방성유무기나노복합구조제어및응용 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 과학기술부 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2007 |
| 연구기간 | 200701~200712 |
| 기여율 | 0.5 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | NT(나노기술) |
| 과제고유번호 | 1345100051 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 2007-0056798 |
| 연구과제명 | 바이오물질이고정된나노튜브다층막의전기적특성연구 |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 한국과학기술원 |
| 성과제출연도 | 2009 |
| 연구기간 | 200707~201206 |
| 기여율 | 1 |
| 연구개발단계명 | 응용연구 |
| 6T분류명 | BT(생명공학기술) |
특허성과
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