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기판 위에 폴리머 패턴을 형성하는 방법에 있어서,(a) 상기 기판 위에 감광성 폴리머를 도포하여 폴리머 막을 형성하는 단계;(b) 상기 폴리머 막 상에 포토마스크를 배치하는 단계; 및 (c) 상기 포토마스크를 통하여 임의의 방향으로 진행하는 광을 상기 폴리머 막에 조사하여, 상기 폴리머 패턴의 표면으로부터 상기 기판과 수직방향으로 오목한 패턴을 형성하고 상기 기판과 수평방향으로 연장되도록 하나 이상의 패턴을 형성하는 단계;를 포함하며, 상기 오목한 패턴의 수직 단면은 하나 이상의 곡면을 갖는 원 또는 타원의 형상이고, 상기 원 또는 타원의 중심 위쪽의 상부가 일직선상으로 절단된, 폴리머 패턴의 형성방법
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상기 (b) 단계는, (b-1) 수직으로 입사하는 광을 산란시켜 임의의 방향으로 진행하는 광으로 바꾸는 디퓨저를 상기 포토마스크 상에 설치하는 단계를 더 포함하는 폴리머 패턴 형성방법
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기판 위에 형성된 금속 박막 패턴에 있어서,상기 금속 박막 패턴은 상기 기판과 수직방향으로 오목한 패턴으로 형성되고, 상기 기판과 수평방향으로 연장되는 하나 이상의 패턴을 가지며, 상기 오목한 패턴의 수직 단면은 하나 이상의 곡면을 갖는 원 또는 타원의 형상이고, 상기 원 또는 타원의 중심 위쪽의 상부가 일직선상으로 절단된, 금속 박막 패턴
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제3항에 있어서,상기 금속 박막 패턴의 내부에는 폴리머가 채워져 있는, 금속 박막 패턴
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제3항에 있어서,상기 금속 박막 패턴의 내부는 빈 공간으로 형성되는, 금속 박막 패턴
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제3항에 있어서, 상기 금속 박막 패턴의 상부가 개구되어 형성되는, 금속 박막 패턴
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기판 위에 금속 박막 패턴을 형성하는 방법에 있어서,(a) 상기 기판 위에 감광성 폴리머를 도포하여 폴리머 막을 형성하는 단계;(b) 상기 폴리머 막 상에 포토마스크를 위치하는 단계; (c) 상기 포토마스크를 통하여 임의의 방향으로 진행하는 광을 상기 폴리머 막에 조사하여, 상기 기판과 수직방향으로 오목한 패턴으로 형성되고, 상기 기판과 수평방향으로 연장되는 하나 이상의 패턴을 가지며, 상기 오목한 패턴의 수직 단면은 하나 이상의 곡면을 갖는 원 또는 타원의 형상이고, 상기 원 또는 타원의 중심 위쪽의 상부가 일직선상으로 절단된 단면을 갖는 폴리머 패턴을 형성하는 단계; 및(d) 상기 폴리머 패턴 상에 금속 박막을 도포하는 단계;를 포함한, 금속 박막 패턴 형성방법
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제7항에 있어서, 상기 (b) 단계는, (b-1) 수직으로 입사하는 광을 산란시켜 임의의 방향으로 진행하는 광으로 바꾸는 디퓨저를 상기 포토마스크 상에 설치하는 단계를 더 포함하는 금속 박막 패턴 형성방법
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제7항에 있어서,상기 (d) 단계의 금속 박막을 도포하는 방법은,스퍼터링을 포함한 박막 증착법 또는 도금법을 포함한 후막 형성법으로 형성하는, 금속 박막 패턴 형성방법
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제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 (d) 폴리머 패턴 상에 금속 박막을 도포하는 단계 후, 리무버(remover)를 이용하여 상기 폴리머를 제거하는 단계를 더 포함하는, 금속 박막 패턴 형성방법
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제7항의 금속 박막 패턴 형성방법을 이용하여, 대향하는 전극과의 인가되는 전압에 따라 온-오프(닫힌 상태와 열린 상태)가 되도록 형성되는 커브드(curved) 금속 전극을 갖고, 상기 커브드(curved) 금속 전극의 수직 단면은 하나 이상의 곡면을 갖는 원 또는 타원의 형상이고, 상기 원 또는 타원의 중심 위쪽의 상부가 일직선상으로 절단된, 금속 박막 전극
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제7항의 금속 박막 패턴 형성방법을 이용하여 형성된, 수직 단면이 하나 이상의 곡면을 갖는 원 또는 타원의 형상이고, 상기 원 또는 타원의 중심 위쪽의 상부가 일직선상으로 절단된, 칸틸레버 빔(cantilever beam)
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기판 위에 형성된 금속 패턴에 있어서,상기 금속 패턴은 상기 기판과 수직방향으로 오목한 패턴으로 형성되고, 상기 기판과 수평방향으로 연장되는 하나 이상의 패턴을 가지며, 상기 오목한 패턴의 수직 단면은 하나 이상의 곡면을 갖는 원 또는 타원의 형상이고, 상기 원 또는 타원의 중심 위쪽의 상부가 일직선상으로 절단된, 금속 패턴
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기판 위에 금속 패턴을 형성하기 위한 방법에 있어서,(a) 상기 기판 위에 감광성 폴리머를 도포하여 폴리머 막을 형성하는 단계;(b) 상기 폴리머 막 상에 포토마스크를 위치하는 단계; (c) 상기 포토마스크를 통하여 임의의 방향으로 진행하는 광을 상기 폴리머 막에 조사하여, 상기 기판과 수직방향으로 오목한 패턴으로 형성되고, 상기 기판과 수평방향으로 연장되는 하나 이상의 패턴을 가지며, 상기 오목한 패턴의 수직 단면은 하나 이상의 곡면을 갖는 원 또는 타원의 형상이고, 상기 원 또는 타원의 중심 위쪽의 상부가 일직선상으로 절단된 단면을 갖는 폴리머 패턴을 형성하는 단계;(d) 상기 폴리머 패턴 상에 금속물질을 증착하는 단계; 및(e) 상기 폴리머 패턴을 리무버(remover)를 이용하여 제거하는 단계를 포함하는 금속 패턴 형성방법
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제14항에 있어서, 상기 (b) 단계는, (b-1) 수직으로 입사하는 광을 산란시켜 임의의 방향으로 진행하는 광으로 바꾸는 디퓨저를 상기 포토마스크 상에 설치하는 단계를 더 포함하는 금속 패턴 형성방법
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제14항에 있어서,상기 (d) 단계의 금속 증착 방법은 스퍼터링을 포함한 박막 증착법 또는 도금법을 포함한 후막 형성법인, 금속 패턴 형성방법
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제14항의 금속 패턴 형성방법으로 형성된, 원 또는 타원의 수직 단면을 갖고, 상기 원 또는 타원의 중심 위쪽의 상부가 일직선상으로 절단된 금속 배선
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플라스틱 몰드 구조에 있어서,상기 플라스틱 몰드 표면에 형성된 하나 이상의 돌출부의 수직단면의 전체 또는 일부분이 둥근 면을 갖고, 상기 돌출부의 수직 단면은 하나 이상의 곡면을 갖는 원 또는 타원의 형상이고, 상기 원 또는 타원의 중심 위쪽의 상부가 일직선상으로 절단된, 플라스틱 몰드 구조
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제18항에 있어서,상기 플라스틱 몰드 내부는 빈 공간으로 형성되는, 플라스틱 몰드 구조
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제18항에 있어서, 상기 빈 공간은 마이크로 스케일의 유체 경로로 사용되는 마이크로 플루이딕 채널(Micro Fluidic Channel)인, 플라스틱 몰드 구조
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플라스틱 몰드를 형성하는 방법에 있어서,(a) 기판 위에 감광성 폴리머를 도포하여 폴리머 막을 형성하는 단계;(b) 상기 폴리머 막 상에 포토마스크를 위치하는 단계;(c) 상기 포토마스크를 통하여 임의의 방향으로 진행하는 광을 상기 폴리머 막에 조사하여, 수직단면의 전체 또는 일부분이 둥근 면을 갖고, 상기 수직 단면은 하나 이상의 곡면을 갖는 원 또는 타원의 형상이고, 상기 원 또는 타원의 중심 위쪽의 상부가 일직선상으로 절단된 단면을 갖는 폴리머 패턴을 형성하는 단계;(d) 상기 감광성 폴리머의 특성과는 다른 감광성을 갖는 폴리머를 도포하여 고화시키는 단계; (e) 상기 고화된 폴리머와 상기 기판을 분리시키는 단계; 및(f) 상기 감광성 폴리머를 상기 고화된 폴리머로부터 제거하는 단계를 포함하는, 플라스틱 몰드 형성방법
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제21항의 플라스틱 몰드 형성방법에 의해 형성되는 플라스틱 몰드의 둥근 면을 가지는 돌출부를 이용하여 형성된, 수직단면의 전체 또는 일부분이 둥근 면을 갖고, 상기 수직 단면은 하나 이상의 곡면을 갖는 원 또는 타원의 형상이고, 상기 원 또는 타원의 중심 위쪽의 상부가 일직선상으로 절단된 단면을 갖는, 마이크로렌즈 어레이 구조
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제21항의 플라스틱 몰드 형성방법에 의해 형성되는 플라스틱 몰드의 둥근 면을 가지는 돌출부를 이용하여 형성된, 수직단면의 전체 또는 일부분이 둥근 면을 갖고, 상기 수직 단면은 하나 이상의 곡면을 갖는 원 또는 타원의 형상이고, 상기 원 또는 타원의 중심 위쪽의 상부가 일직선상으로 절단된 단면을 갖는, 3차원 플라나 마이크로렌즈 어레이 구조
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