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투명 전극 상에 유기전자재료 박막을 증착하는 단계(제1단계);상기 유기전자재료 박막이 증착된 투명 전극 상에 포토레지스트 용액을 도포하는 단계(제2단계);상기 포토레지스트 용액이 도포된 투명 전극을 노광한 후, 미노광부를 현상액으로 용해시켜 네거티브형 패턴을 투명 전극 상에 형성하는 단계(제3단계);상기 형성된 네거티브형 패턴 상에 유기발광재료 박막을 증착하는 단계(제4단계);상기 유기발광재료 박막이 증착된 표면에 기계적 연마(Mechanical Polishing) 공정을 수행하는 단계(제5단계); 및상기 기계적 연마 공정 이후 리프트 오프를 수행하는 단계(제6단계);를 포함하고,상기 기계적 연마 공정을 수행하는 단계(제5단계)는,연마포에 윤활제를 분사하여 연마포를 적시는 단계,상기 적셔진 연마포 상에 유기발광재료 박막을 올려놓은 후 상하, 좌우 또는 회전시켜 유기발광재료 박막을 제거하는 단계, 상기 연마포에 의해 연마되어 제거된 유기발광재료 박막의 부스러기를 세척하는 단계, 및상기 유기발광재료 박막의 부스러기를 세척한 후 노출된 포토레지스트의 표면 상에 윤활제를 첨가하여 포토레지스트를 팽윤시키는 단계를 포함하는, 기계적 연마 공정을 이용한 리프트 오프 패턴 형성 방법
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청구항 1에 있어서, 상기 기계적 연마를 이용한 리프트 오프 패턴 형성 방법은 제2단계 내지 제6단계를 2 내지 4회 반복수행 하는 것을 특징으로 하는, 기계적 연마 공정을 이용한 리프트 오프 패턴 형성 방법
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청구항 1에 있어서,상기 연마포는 면직물, 벨벳, 및 폴리에스터 극세사 직물로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는, 기계적 연마 공정을 이용한 리프트 오프 패턴 형성 방법
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청구항 1에 있어서,상기 윤활제는 고불소계 용제인 것을 특징으로 하는, 기계적 연마 공정을 이용한 리프트 오프 패턴 형성 방법
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청구항 6에 있어서,상기 고불소계 용제는 히드로플루오로에터(hydrofluoroether), 퍼플루오로카본(perfluorocarbon), 및 퍼플루오로에터(perfluoroether)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는, 기계적 연마 공정을 이용한 리프트 오프 패턴 형성 방법
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청구항 1에 있어서, 상기 투명 전극은 투명 금속 산화물 전극, 전도성 고분자 박막, 탄소나노튜브 박막, 금속나노와이어 박막, 또는 그래핀 박막 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는, 기계적 연마 공정을 이용한 리프트 오프 패턴 형성 방법
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9
청구항 8에 있어서, 상기 투명 금속 산화물 전극은 인듐주석산화물, 불소가 도핑된 산화주석, 및 산화아연으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는, 기계적 연마 공정을 이용한 리프트 오프 패턴 형성 방법
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청구항 8에 있어서, 상기 전도성 고분자는 폴리-3,4-에틸렌디옥시티오펜/폴리스티렌설포네이트(PEDOT/PSS), 폴리아닐린, 폴리아세틸렌 및 폴리페닐렌비닐렌으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는, 기계적 연마 공정을 이용한 리프트 오프 패턴 형성 방법
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11
청구항 8에 있어서, 상기 금속나노와이어는 금나노와이어, 은나노와이어, 구리나노와이어, 니켈나노와이어, 철나노와이어, 코발트나노와이어, 아연나노와이어, 크롬나노와이어 및 망간나노와이어로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는, 기계적 연마 공정을 이용한 리프트 오프 패턴 형성 방법
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