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미세패턴 또는 미세채널 형성을 위한 직접 열가압 임프린트 방법(DIRECT IMPRINT METHOD FOR FORMING FINE PATTERN OR FINE CHANNEL)

  • 기술번호 : KST2018006776
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 미세패턴 또는 미세채널 형성을 위한 직접 열가압 임프린트 방법에서, 템플릿과 기판의 표면을 세정한다. 상기 템플릿을 척에 고정하여 상기 기판과 함께 챔버의 내부공간으로 위치시킨다. 상기 템플릿을 기판에 접촉시킨다. 상기 템플릿을 상기 척으로부터 분리한다. 상기 기판에 접촉한 상기 템플릿의 상면을 가압한다. 고온 고압으로 상기 기판과 상기 템플릿의 접합력을 향상시킨다.
Int. CL H01L 21/027 (2006.01.01) G03F 7/00 (2006.01.01) H01L 21/683 (2006.01.01) H01L 21/306 (2006.01.01) H01L 21/3065 (2006.01.01) H01L 21/324 (2017.01.01)
CPC H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01)
출원번호/일자 1020160155871 (2016.11.22)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2018-0057352 (2018.05.30) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.11.22)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이지혜 대한민국 대전광역시 유성구
2 최준혁 대한민국 대전광역시 서구
3 정준호 대한민국 대전광역시 서구
4 전소희 대한민국 서울특별시 서초구
5 최대근 대한민국 세종특별자치시 만남로 ***,
6 정주연 대한민국 대전광역시 유성구
7 이응숙 대한민국 대전광역시 유성구
8 윤석호 대한민국 대전광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김민태 대한민국 서울특별시 강남구 논현로 ***, *층 **세기특허법률사무소 (역삼동, 세일빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.11.22 수리 (Accepted) 1-1-2016-1141734-91
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2017.03.09 수리 (Accepted) 1-1-2017-0235340-43
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2017.12.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2018.03.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2018-0043319-40
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.03.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0205752-84
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.05.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0510419-14
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.05.24 수리 (Accepted) 1-1-2018-0510420-61
9 등록결정서
Decision to grant
2018.09.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0617535-80
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번호 청구항
1 1
템플릿과 기판의 표면을 세정하는 단계;상기 템플릿을 척에 고정하여 상기 기판과 함께 진공 분위기로 형성된 챔버의 내부공간으로 위치시키는 단계; 상기 템플릿을 기판에 접촉시키는 단계;상기 템플릿을 상기 척으로부터 분리하는 단계;상기 내부공간의 진공을 해제하고 롤 프레스를 상기 템플릿의 상면에서 이송시켜 상기 기판에 접촉한 상기 템플릿의 상면을 가압하는 단계; 및상기 기판과 상기 템플릿의 접합력을 향상시키는 단계를 포함하고, 상기 접합력을 향상시키는 단계는, 상기 내부공간을 진공 분위기로 다시 형성하고 온도를 상승시키는 단계; 상기 척을 다시 하강하여 상기 템플릿을 가압하는 단계; 상기 척을 다시 상승시켜 상기 템플릿에 인가된 가압력을 해제하는 단계; 및 상기 내부공간의 온도를 하강시키는 단계를 포함하는 직접 열가압 임프린트 방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 템플릿과 기판의 표면을 세정하는 단계에서, 습식 식각(wet etch) 공정 또는 건식 산소 플라즈마 노출 공정을 통해 상기 템플릿과 상기 기판의 표면의 이물질을 제거하는 것을 특징으로 하는 직접 열가압 임프린트 방법
3 3
제1항에 있어서, 상기 챔버의 내부공간으로 위치시키는 단계에서, 상기 템플릿을 상기 척의 진공 흡착판에 고정하여 상기 내부공간으로 위치시키고, 상기 기판은 상기 내부공간에 위치한 베이스 프레임 상에 위치시키는 것을 특징으로 하는 직접 열가압 임프린트 방법
4 4
제3항에 있어서, 상기 챔버의 내부공간으로 위치시키는 단계에서, 상기 템플릿 및 상기 기판의 표면을 산소플라즈마로 친수성 처리하는 것을 특징으로 하는 직접 열가압 임프린트 방법
5 5
제1항에 있어서, 상기 템플릿을 상기 척으로부터 분리하는 단계에서, 상기 척으로 인가되는 진공을 해제시켜 상기 척만 상승시키는 것을 특징으로 하는 직접 열가압 임프린트 방법
6 6
삭제
7 7
삭제
8 8
삭제
9 9
제1항에 있어서,상기 템플릿과 상기 기판은 서로 다른 재질을 포함하며, 상기 기판과 상기 템플릿의 접합력을 향상시킨 후, 상기 템플릿을 상기 기판으로부터 이형하여 상기 기판 상에 미세 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하는 직접 열가압 임프린트 방법
10 10
제1항에 있어서, 상기 템플릿과 상기 기판은 동일한 재질을 포함하며, 상기 기판과 상기 템플릿의 접합력을 향상시켜, 상기 기판과 상기 템플릿이 서로 접합된 접합 기판을 형성하는 단계를 더 포함하는 직접 열가압 임프린트 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.