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고분자 기판; 및 상기 고분자 기판의 표면에 계면 없이 주입된 생체 활성 금속(bioactive metals)을 포함하는, 금속화된 표면을 갖는 고분자 기재
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제1항에 있어서,선택적 플라즈마 에칭법에 의해 제조된 것인, 금속화된 표면을 갖는 고분자 기재
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제1항에 있어서,상기 고분자는 폴리락트산(polylactic acid; PLA), 폴리글리콜산(polyglycolic acid; PGA), 폴리카프로락톤(poly(ε-caprolactone); PCL), 폴리에틸렌 아디페이트(poly(thylene adipate); PEA), 폴리트리메틸렌 아디페이트(poly(trimethylene adipate); PTMA), 폴리부틸렌 아디페이트(poly(butylene adipate); PBA), 폴리트리메틸카보네이트 (polytrimethylcarbonate; PTMC), 폴리에테르에테르케톤(polyetheretherketone; PEEK), 폴리에틸렌글리콜(polyethylene glycol; PEG), 콜라겐(collagen), 키토산(chitosan), 알긴산(alginic acid), 히알루론산(hyaluronic acid), 폴리비닐피롤리돈(polyvinylpyrrolidone; PVP), 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethylene terephthalate; PET), 폴리염화비닐(polyvinyl chloride; PVC), 폴리에틸렌(polyethylene), 폴리스티렌(polystyrene), 폴리아미드(polyamide), 라텍스(latex), 셀룰로오스(cellulose), 천연 고무(natural rubber), 실리콘 고무(silicon rubber), 실리콘 중합체(polymeric silicon), 폴리프로필렌(polypropylene), 폴리에스테르(polyester), 폴리테트라플루오로에틸렌(polytetrafluoroethylene; PTFE)·폴리우레탄(polyurethane), 폴리메틸 메타크릴산(polymethyl methacrylic acid; PMMA), 폴리히드록시에틸메타크릴레이트(polyhydroxyethylmethacrylate; PHEMA), 나일론(nylon), 폴리아미노산(인공 피부), 폴리아크릴로니트릴(polyacrylonitrile; PAN), 무수물 중합체(polyanhydrides), 폴리오르소에스테르(polyorthoesters), 고밀도 폴리에틸렌(high density polyethylene; HDPE) 및 이들의 공중합체로 구성된 군으로부터 선택되는 분해성 또는 비분해성 생체적합성 고분자(biocompatible polymers) 또는 의료용 고분자(biomedical polymers)인 것인, 금속화된 표면을 갖는 고분자 기재
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제1항에 있어서,상기 생체 활성 금속은 탄탈룸, 니오븀, 텅스텐, 레눔, 오스뭄, 이리듐, 백금 또는 금인 것인, 금속화된 표면을 갖는 고분자 기재
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제1항에 있어서,상기 생체 활성 금속은 고분자 표면으로부터 100 nm 이하의 깊이까지 주입된 것인, 금속화된 표면을 갖는 고분자 기재
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제1항에 있어서,고분자 표면으로부터 10 nm 이내에 함유된 생체 활성 금속의 함량은 평균 20 내지 70원자%인 것인, 금속화된 표면을 갖는 고분자 기재
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제1항에 있어서,고분자 표면으로부터 깊이에 따라 생체 활성 금속의 함량이 감소하는 경향의 패턴을 나타내는 것인, 금속화된 표면을 갖는 고분자 기재
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미리 결정된 반응 조건에서 생체 활성 금속 타겟을 사용한 플라즈마 에칭을 수행하여 고분자 표면에 계면 없이 생체 활성 금속을 주입하는 단계로서, 불활성 기체 존재 하에 생체 활성 금속 타겟에 음전압을 인가함과 동시에 고분자 기판을 위치시킨 고정판에 바이어스용 음전압을 인가하여, 생체 활성 금속 타겟과 고분자 기판 사이에 형성된 전위차에 의해 생체 활성 금속 양이온을 가속시키는 단계를 포함하는,고분자 기판 및 이의 표면에 계면 없이 주입된 생체 활성 금속(bioactive metals)을 포함하는 금속화된 표면을 갖는 고분자 기재의 제조방법
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제8항에 있어서,생체 활성 금속을 함유하는 나노구조물은 5 내지 20 nm 편차의 표면 조도를 갖는 불규칙적인 요철 형태인 것인, 제조방법
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제8항에 있어서,상기 생체 활성 금속 타겟에는 해당 금속 타겟으로부터 생체 활성 금속 원자 또는 이온을 발생시킬 수 있는 전압을 인가하는 것인, 제조방법
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제8항에 있어서,상기 고분자 기판을 위치시킨 고정판에 인가되는 바이어스용 음전압은 생체 활성 금속 타겟에 인가되는 음전압 보다 큰 음전압인 것인, 제조방법
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제11항에 있어서,상기 고분자 기판을 위치시킨 고정판에 바이어스용 음전압을 인가하여 생체 활성 금속 타겟으로부터 발생하는 생체 활성 금속 양이온을 고분자 기판을 향해 가속시키는 것인, 제조방법
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제8항에 있어서,생체 활성 금속 타겟 및 고분자 기판을 위치시킨 고정판에 각각 연결된 직류 전원공급장치를 구비한 마그네트론 스퍼터링(DC magnetron sputtering) 장치를 이용하여 수행하는 것인, 제조방법
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제1항 내지 제7항 중 어느 한 항의 금속화된 표면을 갖는 고분자 기재로 된 의료용 임플란트
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제14항에 있어서,골 대체용 이식재, 뼈 고정판, 나사, 또는 혈관 스텐트인 것인, 의료용 임플란트
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