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대상면적 상에 마이크로 패턴 및 나노 패턴이 공존하는 마이크로-나노 복합 패턴 제작 시, 기 형성된 마이크로 패턴 상의 특정한 대상영역에 나노 패턴을 임프린트하기 위한, 특정 영역에 나노 패턴을 가진 나노 임프린트 복제 몰드의 제작 방법에 있어서,상기 대상면적 전체에 반전 나노 패턴이 형성된 나노 패턴 몰드를 사용하여, 기판 상의 상기 대상면적 전체에 1~500nm 범위 내의 두께를 가지는 수지층으로 이루어지는 나노 패턴이 형성되는, 나노 패턴 형성 단계;상기 대상면적 전체에 상기 나노 패턴의 두께보다 큰 두께인 1~50μm 범위 내의 두께를 가지는 광경화제층이 형성되고, 상기 대상영역에 반전 단차 패턴 형태의 통공이 형성된 포토마스크를 사용하여 상기 광경화제층 일부가 제거되어 단차 패턴이 형성되는, 단차 패턴 형성 단계;잔존된 상기 광경화제층으로 이루어지는 상기 단차 패턴 및 상기 대상영역에서 노출된 상기 나노 패턴으로 이루어지는 몰드 패턴 상에 몰드 재료가 공급되어 복제 몰드가 형성되는, 복제 몰드 형성 단계;를 포함하여 이루어져,상기 복제 몰드로 임프린트 시 상기 대상영역 이외의 부분이 국부적으로 변형되더라도 기판과의 접촉이 방지되도록, 상기 대상영역이 상기 단차 패턴이 반전된 형태로 돌출되고, 상기 단차 패턴의 돌출면 상에 상기 나노 패턴이 반전된 형태의 패턴이 형성된 상기 복제 몰드가 형성되는 것을 특징으로 하는 특정 영역에 나노 패턴을 가진 나노 임프린트 복제 몰드의 제작 방법
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제 1항에 있어서, 상기 나노 패턴 형성 단계는,상기 기판 상의 상기 대상면적 전체에 수지가 도포되어 상기 수지층이 형성되는 수지 도포 단계,상기 수지층 상에 상기 나노 패턴 몰드를 압인하여 상기 대상면적 전체에 상기 나노 패턴이 형성되는 패턴 형성 단계,상기 대상면적 전체에 상기 나노 패턴이 형성된 상기 수지층이 경화되는 패턴 경화 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 특정 영역에 나노 패턴을 가진 나노 임프린트 복제 몰드의 제작 방법
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제 1항에 있어서, 상기 단차 패턴 형성 단계는,상기 대상면적 전체에 광경화제가 도포되어 상기 나노 패턴의 두께보다 큰 두께의 상기 광경화제층이 형성되는 광경화제 도포 단계,상기 광경화제층 상측에 상기 포토마스크가 배치된 후 광이 조사되는 광 조사 단계,상기 포토마스크가 제거된 후 현상액을 사용하여 광이 조사된 부분의 상기 광경화제층 일부가 제거되는 현상 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 특정 영역에 나노 패턴을 가진 나노 임프린트 복제 몰드의 제작 방법
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제 1항에 있어서, 상기 복제 몰드 형성 단계는,상기 몰드 패턴 상에 몰드 재료가 공급되는 몰드 재료 공급 단계,상기 몰드 재료가 경화되는 몰드 재료 경화 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 특정 영역에 나노 패턴을 가진 나노 임프린트 복제 몰드의 제작 방법
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제 1항에 있어서,상기 수지층은 음성감광제(negative photoresist) 재질로 이루어지며,상기 광경화제층은 음성감광제 또는 양성감광제(positive photoresist) 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 특정 영역에 나노 패턴을 가진 나노 임프린트 복제 몰드의 제작 방법
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제 1항에 있어서,상기 몰드 재료는 PDMS 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 특정 영역에 나노 패턴을 가진 나노 임프린트 복제 몰드의 제작 방법
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대상면적 상에 마이크로 패턴 및 나노 패턴이 공존하는 마이크로-나노 복합 패턴 제작 시, 기 형성된 마이크로 패턴 상의 특정한 대상영역에 나노 패턴을 임프린트하기 위한, 특정 영역에 나노 패턴을 가진 나노 임프린트 복제 몰드에 있어서,제 1, 2, 3, 4, 6, 7항 중 선택되는 어느 한 항에 따른 특정 영역에 나노 패턴을 가진 나노 임프린트 복제 몰드의 제작 방법에 의하여 제작되되,상기 나노 패턴이 형성된 상기 대상영역과 상기 대상면적 중 상기 대상영역을 제외한 나머지 영역 간의 단차가 1~50μm 범위 내의 값을 가지는 것을 특징으로 하는 나노 임프린트 복제 몰드
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