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합금 기재; 상기 합금 기재의 표면에 중금속 에칭에 의해 계면 없이 형성된, 나노미터 수준의 돌출부 및 함몰부를 갖는 중금속 함유 나노구조물; 및 상기 나노구조물 상에 형성된 생체적합성 고분자 코팅층을 포함하는, 고분자 코팅된 가이드와이어로서,상기 고분자 코팅층은 나노구조물과 고분자 코팅층 사이에 빈 공간이 없도록 나노구조물의 함몰부를 채우면서 형성되어 기계적 안정성이 향상된 것인 가이드와이어
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제1항에 있어서,상기 합금 기재의 소재는 코발트-크롬 합금, 니켈-티타늄 합금 또는 스테인리스강인 것인 가이드와이어
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제2항에 있어서,상기 합금 기재의 소재는 알루미늄, 탄탈륨, 니오븀, 바나듐, 지르코늄, 주석, 몰리브덴, 규소, 금, 팔라듐, 구리, 백금 및 은으로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상의 금속을 추가로 포함하는 것인 가이드와이어
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제1항에 있어서,상기 생체적합성 고분자는 폴리테트라플루오로에틸렌(polytetrafluoroethylene; PTFE), 폴리락트산(polylactic acid; PLA), 폴리글리콜산(polyglycolic acid; PGA) 및 에폭시(epoxy)로부터 선택되는 윤활성 고분자인 것인 가이드와이어
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제1항에 있어서,상기 나노구조물은 50 내지 300 nm의 평균 너비, 및 200 내지 1000 nm의 평균 깊이를 갖는 것인 가이드와이어
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제1항에 있어서,상기 가이드와이어는 카테터를 유도하는 것인 가이드와이어
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가이드와이어용 합금 기재; 및 상기 합금 기재를 구성하는 적어도 1종 금속의 원자량에 비해 더 높은 원자량을 갖는, 생체적합성 중금속 타겟을 이격하여 반응 챔버 내에 위치시키고, 챔버 내에 진공을 형성하는 제1단계;불활성 기체 존재 하에, 상기 중금속 타겟에 음전압을 인가하는 동시에 상기 합금 기재 상에 바이어스용 음전압을 인가하여, 중금속 이온 및 불활성 기체 이온에 의한 에칭과 중성인 중금속 원자의 증착을 경쟁적으로 발생시키는 플라즈마를 형성시킴으로써 플라즈마 에칭에 의해, 합금 기재 표면에 상기 중금속이 주입되고 나노미터 수준의 돌출부 및 함몰부를 갖는 나노구조물을 형성하는 제2단계; 및상기 나노구조물이 형성된 합금 기재 상에 생체적합성 고분자를 코팅하는 제3단계;를 포함하는, 기계적 안정성이 향상된 고분자 코팅된 가이드 와이어의 제조방법
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제7항에 있어서,중금속 타겟에 인가되는 전압은 중금속 타겟으로부터 중금속 원자 또는 이온을 방출할 수 있는 전압 이상의 음전압인 것인 제조방법
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제7항에 있어서,상기 합금 기재에 인가되는 전압은 중금속 타겟에 인가되는 음전압보다 큰 음전압인 것인 제조방법
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제7항에 있어서,상기 중금속은 탄탈륨, 텅스텐, 레늄, 오스뮴, 이리듐, 백금 또는 금인 것인 제조방법
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제7항에 있어서,상기 합금 기재의 소재는 코발트-크롬 합금, 니켈-티타늄 합금 또는 스테인리스강인 것인 제조방법
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제11항에 있어서,상기 합금 기재의 소재는 알루미늄, 탄탈륨, 니오븀, 바나듐, 지르코늄, 주석, 몰리브덴, 규소, 금, 팔라듐, 구리, 백금 및 은으로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상의 금속을 추가로 포함하는 것인 제조방법
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제7항에 있어서,제2단계에서 중금속이 증착된 부위는 플라즈마 에칭에 저항성을 가지므로 이외의 부분만 선택적으로 에칭되는 것인 제조방법
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제7항에 있어서,상기 플라즈마 에칭은 내부에 서로 이격되어 위치한 중금속 타겟 및 표면에 나노구조물을 형성하고자 하는 합금 기재를 포함하는 진공 챔버; 및 상기 중금속 타겟 및 합금 기재에 각각 연결된 직류 전원공급장치;를 구비한 스퍼터를 기반으로 하는 장치에 의해 수행되는 것인 제조방법
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제14항에 있어서,상기 진공 챔버에 불활성 기체를 주입하여 0
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제7항에 있어서,제3단계는 스핀코팅, 스프레이코팅 또는 딥코팅에 의해 수행되는 것인 제조방법
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