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전해질;상기 전해질 내에 배치된 제1 기판 구조체;상기 전해질 내에 배치되고, 상기 제1 기판 구조체와 이격된 제2 기판 구조체;상기 전해질 내에 배치되고, 상기 제1 기판 구조체 및 상기 제2 기판 구조체 사이에 제공되는 베리어 구조체; 및상기 제1 기판 구조체 및 상기 제2 기판 구조체 사이에 전류를 인가하여, 상기 제1 기판구조체를 식각하는 전원 공급부를 포함하되, 상기 베리어 구조체는, 상기 제1 기판 구조체의 가장자리와 중첩되고, 상기 제1 기판 구조체의 가장자리로부터 돌출된 베리어 프레임(barrier frame); 및상기 베리어 프레임으로 둘러싸인 비어있는 내부 공간을 포함하는 패턴 마스크 제조 장치
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제1 항에 있어서, 상기 베리어 프레임에 의해, 상기 제1 기판 구조체의 가장자리가 과식각되는 것이 방지되는 것을 포함하는 패턴 마스크의 제조 장치
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제1 항에 있어서, 상기 베리어 프레임은 절연성 물질로 형성되는 것을 포함하는 패턴 마스크의 제조 장치
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제1 항에 있어서, 상기 제1 기판 구조체는, 제1 기판; 및 상기 제1 기판 상에 배치되고, 상기 제1 기판을 노출하는 복수의 가이드 홀(guide hole)을 갖는 식각 마스크를 포함하는 패턴 마스크의 제조 장치
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제1 항에 있어서, 상기 제1 기판 구조체 및 상기 제2 기판 구조체는 동일한 면적을 갖는 것을 포함하는 패턴 마스크의 제조 장치
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제1 항에 있어서, 상기 제2 기판 구조체의 면적은, 상기 제1 기판 구조체의 면적보다 좁은 것을 포함하는 패턴 마스크의 제조 장치
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제1 항에 있어서, 상기 제1 기판 구조체 및 상기 제2 기판 구조체 사이에 상기 베리어 구조체의 상기 내부 공간이 제공되고, 상기 제1 기판 구조체 및 상기 제2 기판 구조체의 면적의 차이에 따라서, 상기 베리어 구조체의 상기 내부 공간의 면적을 제어하는 것을 포함하는 패턴 마스크의 제조 장치
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전해질 내에, 제1 기판 구조체, 제2 기판 구조체, 및 상기 제1 기판 구조체 및 상기 제2 기판 구조체 사이에 베리어 구조체를 준비하는 단계; 및상기 제1 기판 구조체 및 상기 제2 기판 구조체 사이에 전류를 인가하여, 상기 제1 기판 구조체를 식각하여 홀(hole)을 제조하는 단계를 포함하되, 상기 베리어 구조체는, 상기 제1 기판 구조체의 가장자리 및 상기 제2 기판 구조체의 가장자리를 덮고, 상기 제1 기판 구조체의 가장자리 및 상기 제2 기판 구조체의 가장자리로부터 돌출된 베리어 프레임(barrier frame); 및상기 베리어 프레임으로 둘러싸인 비어있는 내부 공간을 포함하는 패턴 마스크의 제조 방법
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제8 항에 있어서, 상기 제1 기판 구조체 및 상기 제2 기판 구조체의 면적의 차이에 따라서, 상기 베리어 구조체의 상기 내부 공간의 면적을 제어하는 것을 포함하는 패턴 마스크의 제조 방법
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제8 항 및 제9 항 중 어느 한 항에 따른 패턴 마스크의 제조 방법으로 패턴 마스크를 제조하는 단계;상기 패턴 마스크의 상기 홀 내에 솔더 볼(solder ball)을 제공하는 단계; 및상기 솔더 볼을 갖는 상기 패턴 마스크를 웨이퍼에 인접시켜, 상기 솔더 볼을 상기 웨이퍼로 전사하는 단계를 포함하는 패턴 마스크의 사용 방법
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