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펠리클용 프레임 및 마스크용 펠리클 어셈블리

  • 기술번호 : KST2015141089
  • 담당센터 : 인천기술혁신센터
  • 전화번호 : 032-420-3580
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 헤이즈가 발생되는 것을 방지 내지 억제함으로써, 생산되는 제품의 품질 및 생산성을 향상시킬 수 있도록 구조가 개선된 펠리클용 프레임 및 마스크용 펠리클 어셈블리에 관한 것이다. 본 발명에 따른 펠리클용 프레임은 노광공정시 패턴이 형성되어 있는 마스크의 표면에 이물질이 부착되는 것을 방지하기 위한 것으로, 환형으로 형성되며 일면에 부착된 펠리클이 패턴과 마주보도록 마스크에 결합되는 펠리클용 프레임에 있어서, 펠리클용 프레임의 내측면에는 나노-스케일의 복수의 구멍이 형성되어 있다. 펠리클, 마스크, 노광공정, 나노
Int. CL H01L 21/027 (2006.01.01) G03F 7/20 (2006.01.01)
CPC G03F 1/64(2013.01) G03F 1/64(2013.01)
출원번호/일자 1020090056043 (2009.06.23)
출원인 한양대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2010-0137819 (2010.12.31) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.06.23)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 안일신 대한민국 경기 안산시 상록구
2 오혜근 대한민국 서울 영등포구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 임승섭 대한민국 서울특별시 종로구 율곡로*길 *(수송동, 로얄팰리스스위트) ***호(특허법인임앤정)
2 송경근 대한민국 서울특별시 서초구 서초대로**길 ** (방배동) 기산빌딩 *층(엠앤케이홀딩스주식회사)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2009.06.23 수리 (Accepted) 1-1-2009-0380286-66
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.01.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0034924-11
3 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2011.03.21 수리 (Accepted) 1-1-2011-0202778-46
4 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2011.04.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0233844-24
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.06.05 수리 (Accepted) 4-1-2014-5068294-39
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5022074-70
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.05 수리 (Accepted) 4-1-2019-5155816-75
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.06 수리 (Accepted) 4-1-2019-5156285-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
노광공정시 패턴이 형성되어 있는 마스크의 표면에 이물질이 부착되는 것을 방지하기 위한 것으로, 환형으로 형성되며 일면에 부착된 펠리클이 상기 패턴과 마주보도록 상기 마스크에 결합되는 펠리클용 프레임에 있어서, 상기 펠리클용 프레임의 내측면에는 나노-스케일의 복수의 구멍이 형성되어 있는 펠리클용 프레임
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환형으로 형성되며 패턴을 둘러싸도록 마스크에 결합되는 펠리클용 프레임; 상기 패턴과 마주보도록 상기 펠리클용 프레임에 부착되는 펠리클; 및 상기 마스크, 상기 펠리클용 프레임 및 상기 펠리클에 의해 둘러싸이는 공간에 배치되며, 나노-스케일의 복수의 구멍이 형성되어 있는 흡착부재를 포함하는 마스크용 펠리클 어셈블리
3 3
제2항에 있어서, 상기 펠리클용 프레임의 내측면에는 나노-스케일의 복수의 구멍이 형성되어 있는 마스크용 펠리클 어셈블리
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제2항에 있어서, 상기 흡착부재는 다공성 실리카로 이루어지는 마스크용 펠리클 어셈블리
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부(산자부) 지식경제부(산자부)(한국반도체연구조합) 기술개발사업(산업기술개발사업) High-k 유전막 증착 in-situ 및 실시간 모니터링용 진공자외선 분광 엘립소미터 개발