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기판 상에 플라즈마를 이용하여 전구체 물질을 이용하여 플라즈마 중합체 층을 형성하는 것을 포함하고,상기 전구체 물질은 헤테로 방향족 화합물을 포함하고,상기 헤테로 방향족 화합물은 하기 화학식 1 로 표시되며,상기 헤테로 방향족 화합물은 질소를 포함하는 것인, 줄기세포 배양용 기판의 제조방법:[화학식 1](상기 화학식 1 에 있어서,상기 R1 내지 R4 는 각각 독립적으로 「C-R5」 또는 질소로 표시되며, 상기 R5 는 각각 독립적으로 수소 원자, 알데히드기, 카복실기, 탄소수 10 이하의 선형, 가지 사슬형 또는 고리형 알킬기 또는 알케닐기, 또는 탄소수 12 이하의 아릴기를 나타냄)
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제 1 항에 있어서,상기 화학식 1 로 표시되는 헤테로 방향족 화합물은 피롤(pyrrole), 피롤리딘(pyrrolidine), 피롤-2-카복스알데히드(Pyrrole-2-carboxaldehyde), 피롤리돈-3-카복실산(Pyrrolidine-3-carboxylic acid) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 헤테로 방향족 화합물인 것인, 줄기세포 배양용 기판의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 헤테로 방향족 화합물은 포르피린(Porphyrin)을 포함하는 것인, 줄기세포 배양용 기판의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 줄기세포는 신경줄기세포, 배아줄기세포, 만능유도줄기세포, 중간엽줄기세포, 조혈줄기세포 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 줄기세포를 포함하는 것인, 줄기세포 배양용 기판의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 플라즈마 중합체 층은 화학기상증착법에 의해 형성되는 것인, 줄기세포 배양용 기판의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 기판은 유리, 플라스틱, 금속 및 실리콘으로 이루어진 군에서 선택된 것인, 줄기세포 배양용 기판의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 기판은 아르곤, 수소, 질소, 헬륨 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 기체를 플라즈마 처리하여 표면을 활성화한 것인, 줄기세포 배양용 기판의 제조방법
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제 10 항에 있어서,상기 기체는 아르곤 및 수소를 각각 20 sccm 내지 70 sccm 및 5 sccm 내지 20 sccm 포함하는 것인, 줄기세포 배양용 기판의 제조 방법
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제 1 항, 제 3 항, 제 4 항 및 제 7 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항의 방법을 따라 줄기세포 배양용 기판을 제조하는 단계; 및상기 줄기세포 배양용 기판 상에 줄기세포를 배양하는 단계;를 포함하는 것인, 줄기세포 배양 방법
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