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(a) 기판의 일면에 마스크 층을 형성하는 단계;(b) 상기 마스크 층을 패터닝해서 상기 기판의 일면을 각각 노출시키는 복수의 비아홀이 관통 형성된 하드 마스크 패턴을 얻는 단계;(c) 상기 비아홀을 통해 상기 기판의 일면에 패터닝해서 상기 기판의 일면에 상기 비아홀과 일대일 대응되는 복수의 반구형 홈을 형성하는 단계;(d) 상기 기판의 일면에서 상기 하드 마스크 패턴을 제거하는 단계;(e) 상기 기판의 일면에 폴리머를 도포 및 경화한 후 탈착하여 폴리머층 일면에 상기 복수의 반구형 홈에 일대일 대응되는 복수의 렌즈가 형성된 마이크로 렌즈 어레이를 얻는 단계를 포함하는 마이크로 렌즈 어레이 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 (b) 단계는, 상기 마스크 층의 일면에 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하여, 상기 포토레지스트 패턴으로 상기 마스크 층을 패터닝 하는 마이크로 렌즈 어레이 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 (c) 단계는, 상기 비아홀을 통해 상기 기판의 일면을 등방성 식각해서 상기 복수의 반구형 홈을 형성하는 마이크로 렌즈 어레이 제조방법
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제 3 항에 있어서, 상기 등방성 식각은 식각액을 이용한 습식 식각인 마이크로 렌즈 어레이 제조방법
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제 4 항에 있어서, 상기 기판은 석영이고, 상기 마스크 층을 실리콘이며, 상기 습식 식각을 위한 식각액은 HF 용액인 마이크로 렌즈 어레이 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 폴리머는 폴리디메틸실록산(PDMS)인 마이크로 렌즈 어레이 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 (d) 단계 후 (e) 단계 전,상기 기판의 일면을 습식 식각하는 단계를 더 포함하는 마이크로 렌즈 어레이 제조방법
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제 7 항에 있어서,상기 기판은 석영이고, 상기 마스크 층을 실리콘이며, 상기 습식 식각을 위한 식각액은 HF 용액인 마이크로 렌즈 어레이 제조방법
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