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보정패턴 획득 대상을 포함하는 평판 표시장치;상기 평판 표시장치로부터 방출되는 광을 검출하는 검출기; 및 상기 검출기로부터 주어지는 광 신호에 기초해서 상기 평판 표시장치에 테스트 패턴을 입력하는 연산부;를 포함하는 보정패턴 획득장치
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제 1 항에 있어서,상기 평판 표시장치는,광원;상기 광원으로부터 평행광 또는 비 평행광이 입사되는 플랫 패널; 및 상기 평행광 또는 비 평행광이 통과하는 광학요소;를 포함하고,상기 광학요소는 상기 보정패턴 획득 대상인 보정패턴 획득장치
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제 1 항에 있어서,상기 검출기의 광 센서의 크기는 상기 보정패턴 획득 대상에 의한 회절 한계 스폿의 크기보다 작은 보정패턴 획득장치
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제 1 항에 있어서,상기 평판 표시장치와 상기 검출기 사이에 상기 검출기에 입사되는 광을 단일모드로 제한하는 요소가 배치된 보정패턴 획득장치
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제 1 항에 있어서,상기 평판 표시장치로부터 주어지는 광을 제1 방향과 제2 방향으로 분할하는 빔분할기;렌즈; 및 촬상소자;를 더 포함하고,상기 검출기는 상기 제1 방향에 배치되어 있고,상기 렌즈와 상기 촬상소자는 상기 제2 방향으로 배치된 보정패턴 획득장치
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제 2 항에 있어서,상기 플랫 패널은 홀로그래픽 표시패널인 보정패턴 획득장치
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제 2 항에 있어서,상기 광학요소는 프레넬 렌즈인 보정패턴 획득장치
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제 2 항에 있어서,상기 광학요소는 상기 광원과 상기 플랫 패널 사이에 배치된 보정패턴 획득장치
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제 2 항에 있어서,상기 광학요소는 상기 플랫패널과 상기 검출기 사이에 배치된 보정패턴 획득장치
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10
제 4 항에 있어서,상기 요소는 핀홀 마스크인 보정패턴 획득장치
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제 4 항에 있어서,상기 요소는,광 섬유; 및상기 평판 표시장치로부터 입사되는 광을 상기 광 섬유에 집광시키는 렌즈;를 포함하는 보정패턴 획득장치
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보정패턴 획득 대상이 포함된 평판 표시장치에 서로 다른 복수의 테스트 패턴을 차례로 입력하는 단계;상기 입력된 복수의 테스트 패턴 각각에 대해서 상기 평판 표시장치로부터 방출되는 광의 세기를 측정하는 단계; 및 상기 측정된 광의 세기에 기초해서 상기 복수의 테스트 패턴들을 주어진 비율로 포함하는 보정패턴을 획득하는 단계;를 포함하는 보정패턴 획득방법
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13
제 12 항에 있어서,상기 광의 세기는 검출기로 측정하고, 상기 검출기와 상기 평판 표시장치 사이에 상기 검출기에 입사되는 광을 단일모드로 제한하는 요소가 배치된 보정패턴 획득방법
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제 12 항에 있어서,상기 평판 표시장치는,광원;상기 광원으로부터 평행광 또는 비 평행광이 입사되는 플랫 패널; 및 상기 평행광 또는 비평행광이 통과하는 광학요소;를 포함하고,상기 광학요소는 상기 보정패턴 획득 대상인 보정패턴 획득방법
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15
제 12 항에 있어서,상기 복수의 테스트 패턴은 홀로그래픽 패턴인 보정패턴 획득방법
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제 12 항에 있어서,상기 평판 표시장치로부터 주어지는 광을 제1 방향과 제2 방향으로 분할하는 빔분할기;렌즈; 및 촬상소자;를 더 포함하고,상기 검출기는 상기 제1 방향에 배치되어 있고, 상기 렌즈와 상기 촬상소자는 상기 제2 방향으로 배치된 보정패턴 획득방법
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17
제 16 항에 있어서,상기 보정패턴을 획득하기 전에 상기 촬상소자를 통해서 상기 보정패턴 획득 대상으로부터 발생되는 광 노이즈의 변화를 확인하는 단계를 포함하는 보정패턴 획득방법
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제 13 항에 있어서,상기 요소는 핀홀 마스크인 보정패턴 획득방법
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제 13 항에 있어서,상기 요소는,광 섬유; 및상기 평판 표시장치로부터 입사되는 광을 상기 광 섬유에 집광시키는 렌즈;를 포함하는 보정패턴 획득방법
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제 14 항에 있어서,상기 플랫 패널은 홀로그래픽 표시패널인 보정패턴 획득방법
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제 14 항에 있어서,상기 광학요소는 프레넬 렌즈인 보정패턴 획득방법
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제 14 항에 있어서,상기 광학요소는 상기 광원과 상기 플랫 패널 사이에 배치된 보정패턴 획득방법
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제 14 항에 있어서,상기 광학요소는 상기 플랫패널과 상기 검출기 사이에 배치된 보정패턴 획득방법
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보정패턴 획득 대상이 포함된 평판 표시장치에 테스트 패턴을 입력하는 단계;상기 입력된 테스트 패턴에 대해서 상기 평판 표시장치로부터 방출되는 광의 세기를 측정하는 단계; 및 상기 광의 세기를 측정한 후, 상기 테스트 패턴에 변화를 주는 단계;를 포함하는 보정패턴 획득방법
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제 24 항에 있어서,상기 테스트 패턴에 변화를 주는 단계를 수행한 후, 상기 변화된 테스트 패턴을 상기 평판 표시장치에 입력하고, 최종 보정패턴을 얻을 때까지 상기 단계들을 반복하는 보정패턴 획득방법
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제 24 항에 있어서,상기 테스트 패턴은 홀로그래픽 패턴인 보정패턴 획득방법
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제 24 항에 있어서,상기 테스트 패턴에 변화를 주는 단계는,상기 테스트 패턴을 주어진 방향으로 이동시키는 단계를 포함하는 보정패턴 획득방법
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제 24 항에 있어서,상기 테스트 패턴에 변화를 주는 단계는,상기 테스트 패턴의 일부를 변형하는 단계를 포함하는 보정패턴 획득 방법
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제 24 항에 있어서,상기 광의 세기는 검출기로 측정하고, 상기 검출기와 상기 평판 표시장치 사이에 상기 검출기에 입사되는 광을 단일모드로 제한하는 요소가 배치된 보정패턴 획득방법
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제 24 항에 있어서,상기 평판 표시장치는,광원;상기 광원으로부터 평행광 또는 비평행광이 입사되는 플랫 패널; 및 상기 평행광 또는 비평행광이 통과하는 광학요소;를 포함하고,상기 광학요소는 상기 보정패턴 획득 대상인 보정패턴 획득방법
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제 24 항에 있어서,상기 평판 표시장치로부터 주어지는 광을 제1 방향과 제2 방향으로 분할하는 빔분할기;렌즈; 및 촬상소자;를 더 포함하고,상기 검출기는 상기 제1 방향에 배치되어 있고, 상기 렌즈와 상기 촬상소자는 상기 제2 방향으로 배치된 보정패턴 획득방법
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제 29 항에 있어서,상기 요소는 핀홀 마스크인 보정패턴 획득방법
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제 29 항에 있어서,상기 요소는,광 섬유; 및 상기 평판 표시장치로부터 입사되는 광을 상기 광 섬유에 집광시키는 렌즈;를 포함하는 보정패턴 획득방법
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제 30 항에 있어서,상기 플랫 패널은 홀로그래픽 표시패널인 보정패턴 획득방법
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제 30 항에 있어서,상기 광학요소는 프레넬 렌즈인 보정패턴 획득방법
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제 30 항에 있어서,상기 광학요소는 상기 광원과 상기 플랫 패널 사이에 배치된 보정패턴 획득방법
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제 30 항에 있어서,상기 광학요소는 상기 플랫패널과 상기 검출기 사이에 배치된 보정패턴 획득방법
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제 31 항에 있어서,상기 보정패턴을 획득하기 전에 상기 촬상소자를 통해서 상기 보정패턴 획득 대상으로부터 발생되는 광 노이즈의 변화를 확인하는 단계를 포함하는 보정패턴 획득방법
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